【課題】化学系洗浄剤と、胞子、細菌、真菌又は酵素との両方を含む固体組成物が必要とされている。
【解決手段】本発明は、ボレート塩及び胞子（細菌又は真菌）、植物性細菌、真菌又は酵素を含む安定な固体クリーニング組成物と、当該組成物を用いる方法とに関する。 （もっと読む）

【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、（ｂ）配位子数が１０個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、及び（ｃ）配位子数が１１個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％を含有するものとする。 （もっと読む）

【課題】ポリエステル繊維製品等の洗浄において、鉱物油、植物油及び動物油汚れに対して優れた洗浄性と再汚染防止性を有する繊維製品用洗浄剤を提供する。
【解決手段】例えば下記一般式（１）で表されるような非イオン界面活性剤等を含有する洗浄剤。


［式（１）中、Ｒ¹は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基を、Ａ¹Ｏは炭素数２〜４のアルキレンオキシ基を、ａは１〜４、ｂは０〜３の整数を、ａ個あるｂは同一であっても異なっていてもよく、分子中の（ａ＋ａｂ）の総数は１〜４であり、ｃは０〜２の整数を、ｄはＡ¹Ｏの平均付加モル数であって５〜２０の整数を表し、複数のＡ¹Ｏは同一であっても異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第１剤と第２剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第１剤がアミン化合物を含有し、前記第２剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】ゴム状物質が発生せず、常温保管時や低温保管時でも分離しにくい自動食器洗浄機用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】低泡性非イオン界面活性剤（Ａ）と、
洗浄ビルダー（Ｂ）と、
炭素数６〜１０の直鎖脂肪族カルボン酸（Ｃ）と、
炭素数６〜１０の分岐脂肪族カルボン酸（Ｄ）とを必須成分として含有する自動食器洗浄機用洗浄剤であって、
上記（Ａ）の含有量は、０．１〜２０重量％であり、
上記（Ｂ）の含有量は、５〜４０重量％であり、
上記（Ｃ）の含有量は、０．１〜１５重量％であり、
上記（Ｄ）の含有量は、０．１〜１５重量％であることを特徴とする自動食器洗浄機用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を清浄するために使用される、洗浄剤組成物に関し、より具体的には、フラットパネル・ディスプレイの分野に適用される、高濃度の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）０．１〜２０重量部の量のアルカリ金属ヒドロキシル化合物；（Ｂ）０．１〜３０重量部の量の、以下の式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤：


式中、Ｒ₁は水素またはメチルであり；Ｒ₂は水素またはメチルであり；ｎは０〜１０の整数であり；および、ｍは４〜２０の整数である；（Ｃ）０．１〜１０重量部の量のアニオン性界面活性剤；（Ｄ）０．１〜２０重量部の量のキレート剤；（Ｅ）０．１〜２０重量部の量の添加剤；および（Ｆ）洗浄剤組成物１００重量部に対する、残部の量の水を含む、洗浄剤組成物が開示される。 （もっと読む）

【課題】硫酸又は硫酸主体の酸を用いる鋼材の酸洗において、短時間での脱スケールを可能にし、管理幅を広く、酸洗液寿命の長い酸洗剤及びこれを用いた脱スケール方法を提供する。
【解決手段】脱スケール促進剤としてチオ尿素と、チオ尿素ならびにチオ尿素誘導体以外の有機硫黄化合物及び／又はノニオン系界面活性剤を含有する硫酸又は硫酸主体の酸からなる鋼材の脱スケール酸洗剤。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高い鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、アルキル基又はアルケニル基を有する非イオン性界面活性剤（ｂ）、アルコールエーテル（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）及び前記アルコールエーテル（ｃ）の合計含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比［｛（ｂ）＋（ｃ）｝／（ｄ）］が、３〜２５である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い洗浄性と高い消泡性とが両立され、且つ、高濃度状態での保存安定性が良好な硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物等を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、特定のアニオン性界面活性剤(成分Ｂ)と、水（成分Ｃ）と、テトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール（成分Ｄ）と、特定のポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）と、前記特定のポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）以外の非イオン界面活性剤（成分Ｆ）と、特定の可溶化剤（成分Ｇ）を含有してなり、含有量比[成分Ｂ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が３／１〜１／３であり、含有量比[成分Ｆ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が５／１〜１／２である硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】特に合成繊維とポリウレタン混繊維など油分付着量が多い繊維材料からの油分の除去性を高め、染色斑や油じみなどのトラブルの発生を防ぐことのできる、非イオン系界面活性剤を有効成分として含有してなる繊維用精練剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるアルケニルフェノールの１種または２種以上にアルキレンオキサイドを付加した化合物（Ａ）を含有してなる繊維用精練剤。


（式中、Ｒは炭素数１３〜１７のアルケニル基を表し、ＡＯはエチレンオキシ基、またはエチレンオキシ基およびプロピレンオキシ基を表す）。 （もっと読む）

【課題】 乾燥した水溶性加工油などの水を含まない水溶性汚れに対して、高い除去性を有するとともに、洗浄剤から汚れを分離して再使用できる洗浄剤および洗浄システムを提供する。
【解決手段】 炭素数６〜１６のモノカルボン酸 ０．０５〜２重量％、炭素数６〜１６のモノアルキルアミン ０．０５〜２重量％、炭素数１０〜１４の炭化水素 ９９．９〜９６重量％、ノニオン性界面活性剤 ２重量％以下を含んでなる炭化水素系洗浄液 １００容量部、および水 １０〜１００容量部からなるＷ／Ｏエマルジョン型炭化水素系洗浄剤を使用して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

本発明に従って、より長期にわたる物理的安定性と加工寿命とを備える無機真珠光沢剤スラリーと、洗濯組成物又は硬質表面洗浄組成物としての使用に好適な液状処理組成物の製造方法に好適なスラリーを製造する方法と、を提供する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性と再汚染防止性に優れ、洗濯物に帯電防止性を付与することができ、また洗濯物を消臭することのできるドライクリーニング用洗浄剤組成物及びそれを用いたドライクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 テルペン系溶剤を５容量％以上含む溶剤を洗浄用溶剤として用いるドライクリーニングにおいて、該洗浄用溶剤に添加されるドライクリーニング用洗浄剤組成物であって、リン酸エステル化合物及びアルカノールアミンを含有するドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エレクトロニクス材料等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができ、かつ、リンス時に洗浄剤成分が素早く除去できる水溶性洗浄剤組成物を提供する
【解決手段】
（Ａ）１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、
（Ｂ）式：Ｒ−（ＰＯ）_ｎ−（ＥＯ）_ｍ−ＯＨ
で表される非イオン性界面活性剤、
（Ｃ）式：Ｒ−（ＥＯ）_ｌ−ＯＨ
で表される非イオン性界面活性剤、及び
（Ｄ）有機酸
を含有する水溶性洗浄剤組成物であって、以下の（１）及び（２）の関係式を同時に満たす水溶性洗浄剤組成物。


［式中の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）は各々の成分の重量％を示す。］ （もっと読む）

【課題】洗浄液の液温が６０℃未満の低温の場合でも良好な洗浄力を示し、かつ洗浄液を低温化できることで、製鉄所から排出される二酸化炭素の量を削減することができる鉄板用洗浄剤の提供を目的とする。
【解決手段】半導体の粒子と、過酸化物および／または炭酸塩と、ナトリウム化合物、無機酸、有機酸からなる群から選ばれた少なくとも一種である活性促進剤とを少なくとも予め混合して得られた組成物と、アルカリ性物質と、ノニオン系またはアニオン系界面活性剤とが含有されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】プラスチックレンズ成形型に付着した樹脂汚れの除去を容易化可能とするプラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物、およびこれを用いたプラスチックレンズ成形型を構成するガラス型の清浄化方法、並びに、プラスチックレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるフェニルエーテルおよび一般式（２）で示されるフェニルエーテルから選ばれる少なくとも１種のフェニルエーテルを含有するプラスチックレンズ成形型用洗浄剤組成物。
（もっと読む）

硬質表面の清浄、衣類及び食器類の洗浄に適しており、家事、公共機関及び／又は産業用途に利用可能な、水、及びａ）１〜５０％の範囲のノニオン性界面活性剤、ｂ）２０〜５０％の範囲のカチオン性界面活性剤又はカチオン界面活性剤の会合物、及びｃ）任意に両性界面活性剤を含む、ゲル界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】安価な原料を用いて、反応温度が室温付近であり、副生物の生成を抑制することができる、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバミン酸アルキルの製造方法を提供すること、沸点が低く、種々の難溶性化合物を溶解することが可能であり、さらに水への溶解性が高い洗浄剤および溶剤を提供すること、並びに上記溶剤を使用する、難溶性ポリマーの溶液を提供すること。
【解決手段】ジアルキルカーボネートとジメチルアミンを、ビリジン誘導体触媒存在下で反応させることを特徴とする、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバミン酸アルキルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】簡便かつＡＯ付加モル数を維持したまま、ポリアルキレングリコール含有量を低減できる、スチレン化フェノールＡＯ付加物を含有するノニオン界面活性剤組成物を製造できる方法を提供する。
【解決手段】触媒の存在下で一般式（１）で表される特定のスチレン化フェノール系化合物とＡＯとを反応させて、一般式（２）で表される特定のスチレン化フェノールＡＯ付加物を含むノニオン界面活性剤組成物を製造する際に、一般式（１）の化合物とＡＯを反応させる前に、反応系を昇温且つ減圧して反応系の脱水を行い、その後、更に、反応系中に不活性気体を導入して反応系の脱水を行う。 （もっと読む）