【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの３種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝３０〜７０：２０〜６０：１〜３０、より好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝４０〜６０：３０〜５０：２〜２０である。 （もっと読む）

【課題】すすぎ性が良好で、環境性や安全性に優れ、かつ、洗浄性が良好で液安定性に優れた液晶パネル用水系洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】本発明の液晶パネル用水系洗浄剤組成物は、α-オレフィン系炭化水素（Ａ成分）と、ジアルキルスルホコハク酸塩（Ｂ成分）と、直鎖型及び分岐型アルキルベンゼンスルホン酸塩から選択される少なくとも１種のアニオン界面活性剤（Ｃ成分）と、ジメチルスルホキシド(Ｄ成分）と、式１で表される短鎖グリコールエーテル（Ｅ成分）と、水（Ｆ成分）とを含む液晶パネル用水系洗浄剤組成物であって、前記液晶パネル用水系洗浄剤組成物における、前記Ａ成分が２０質量％〜４０質量％であり、前記Ｂ成分が１０質量％〜３０質量％であり、前記Ｃ成分が１質量％〜５質量％であり、前記Ｄ成分が５質量％〜２０質量％であり、前記Ｅ成分が１０質量％〜３０質量％であり、前記Ｆ成分が１０質量％〜３０質量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、表面上の汚れをクリーニングするために適当なクリーニング組成物に関する。本発明は、また、第1成分として本発明のクリーニング組成物と、第2成分として吸収剤とを含んでなる、表面、ことに汚れた表面をクリーニングするキットに関する。
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【課題】フォトリソグラフィー工程後のワーク表面に残存するフォトレジストを除去する際に用いる洗浄除去剤であって、導電性膜の腐食が起こらず、高温で使用しても不溶物を析出することがなく、しかも安全性及びレジスト除去性が高い洗浄剤を提供することを目的とする。導電性膜を腐食させることなく、かつ、レジストに対する洗浄力が高く、操作性も容易で、人体や環境への悪影響も少ない洗浄剤を提供する。
【解決手段】ジメチルスルホキシド４０〜８０質量％及び、ε-カプロラクトン及び又は炭酸プロピレンのような特定の環状化合物６０〜２０質量％からなる混合物、又は該混合物を主成分とする組成物をレジスト洗浄除去剤として用いる。 （もっと読む）

本発明は、噴射剤なしの泡分配装置を用いて無加圧容器から安定な泡として分配され得る、低級アルコール含有量の高い（＞40％ v/vのＣ_１−４）液体組成物に関する。本液体組成物は、アルコールＣ_１−４（＞40％ v/v）、発泡性組成物を調製するために少なくとも0.001重量％のシリコーン・ベースの界面活性剤、所望の性能（発泡性組成物）を得るために添加される0〜10％ w/wの追加の少量成分、及び残余の精製水を含む。本組成物は、アルコール性のゲル又は泡、エアゾール組成物又はバスルーム化粧品、美容化粧品、医薬品等に普通に添加される乳化剤−皮膚軟化剤及び保湿剤、第二の界面活性剤、泡安定剤、香料、抗菌剤、他のタイプの医薬成分、並びに同様の成分又は添加物又はその組み合わせを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 種々の性能要求に適合したそれ相応に数多くの界面活性剤についてのニーズ、並びにそれらを製造する好適な方法についてのニーズに応える。
【解決手段】 式（Ｉ）による界面活性化合物を含む組成物であって、
ＲＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ_１Ｒ_２ＺＣＲ_１Ｒ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＲ （Ｉ）
そこでは、ＺがＳ、ＳＯ又はＳＯ_２であり、Ｚ、Ｒ、Ｒ_１及びＲ_２の特定の意義に応じて、ある範囲の平衡表面張力及び／又は動的表面張力、並びにある範囲の発泡性能特性を有し得る組成物が提供される。式（Ｉ）の化合物は、金属硫化物又は二硫化物のようなスルフィド供給源のアルキルグリシジルエーテルとの反応を含むプロセスによって製造され得る。それらの化合物は、界面活性剤の使用を必要とする広範囲ないかなる用途においても有用であり得る。 （もっと読む）