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Fターム[4H003BA12]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 洗浄剤又は配合剤の形状、形態 (4,644) | 液体、スラリー、エマルジョン (2,232)

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【課題】起泡性及びすすぎ性に優れ、皮脂洗浄性の高い皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)
1−O−(CH2CH2O)n−CH2−COOM (1)
(式中、R1は炭素数4〜22のアルキル基を示し、nは0〜20の数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す)
で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩であって、R1の平均炭素数が10.8〜12.8であり、n=0の成分を9.6質量%を超え27質量%以下、n=1の成分とn=2の成分を合計で21質量%以上40質量%未満含むアルキルエーテルカルボン酸又はその塩、
(B)一般式(2)
2−O−(CH2CH2O)m−SO3Y (2)
(式中、R2は炭素数8〜22のアルキル基又はアルケニル基を示し、mは0〜20の数を示し、且つmの平均が2以上4未満であり、Yは水素原子、又は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカノールアンモニウム及びグルクアンモニウムから選ばれるカチオンを示す)
で表されるアルキル硫酸塩又はポリオキシエチレンアルキル硫酸塩
を含有する皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】蛋白質汚れに対して良好な洗浄力を示し、アルマイトに対する防食性に優れ、且つ保存安定性に優れたアルマイト用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルカノールアミン、(B)脂肪族カルボン酸及び/又はその塩、並びに、(C)ポリカルボン酸及び/又はその塩を、それぞれ特定範囲の質量%で含有するアルマイト用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】起泡性及びすすぎ性に優れ、皮脂洗浄性の高い皮膚洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】(A)一般式(1)R1−O−(CH2CH2O)n−CH2−COOM(1)(式中、R1は炭素数4〜22のアルキル基を示し、nは0〜20の数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す)で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩と、(B)一般式(2)R2−O−(CH2CH2O)m−SO3Y(2)(式中、R2は炭素数8〜22のアルキル基又はアルケニル基を示し、mは0〜20の数を示し、且つmの平均が2未満であり、Yは水素原子、又は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカノールアンモニウム及びグルクアンモニウムから選ばれるカチオンを示す)で表されるアルキル硫酸塩又はポリオキシエチレンアルキル硫酸塩を含有する皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の基板の表面のコーティング性を向上する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の親水性表面改質が可能な洗浄剤組成物は、組成物の総重量を基準にして、(a)0.0001重量%以上且つ5重量%以下のポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、セルロース、ポリアクリル酸(PAA)、ポリエチルオキサゾリン及びポリビニルピロリドンからなる群から選ばれる1種以上の水溶性高分子化合物と、(b)0.01重量%以上且つ5重量%以下の多価アルコール系化合物と、(c)0.05重量%以上且つ10重量%以下の第4級アンモニウム水酸化物と、(d)0.05重量%以上且つ40重量%以下の特定のグリコールエーテル系有機溶剤と、(e)残量の水とを含む。 (もっと読む)


【課題】金属部材表面に付着したシリカ及びシランカップリング剤等を除去することが可能な金属部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】塩化水素とフッ化アンモニウムと水とを含む洗浄剤によって金属部材の表面を洗浄する工程を含む金属部材の洗浄方法である。 (もっと読む)


【課題】抗菌活性に優れた洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】イミダゾリニウムベタイン型両性界面活性剤と、下記一般式(I)で表されるPEG−1ラウリルグリコールと、を含むことを特徴とする洗浄剤組成物。
【化1】


(上記式中、m及びnはそれぞれエチレンオキシドの付加モル数を表し、m+nの平均は1である。)
また、前記洗浄剤組成物は、さらに、殺菌効果を有する成分を含むことが好適である。
また、前記洗浄剤組成物は、上記一般式(I)で表されるPEG−1ラウリルグリコールの配合量が、0.5〜10質量%であることが好適である。
また、前記洗浄剤組成物は、動物用であることが好適である。 (もっと読む)


【課題】スライムの洗浄速度が速く、スライムの洗浄時間を短縮することができ、スライムの除去効率を向上させることができるスライムの洗浄方法を提供する。
【解決手段】スライムの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の内壁面に付着したスライムに洗浄剤としての過酸化物を作用させてスライムの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。過酸化物としては、酸素と水に分解する過酸化水素が最も好ましい。その過酸化水素を過酸化水素水として用い、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度は0.1〜10質量%であることが好ましい。また、減圧状態の圧力は0.001〜0.09MPaに設定され、スライムの洗浄は酸性条件下で行われる。 (もっと読む)


【課題】光分解性劣化からボディケア製品及び家庭用製品を保護するための光安定化剤の提供。
【解決手段】式(54)に代表されるベンゾトリアゾール光安定剤の使用により上記課題が達成される。
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【課題】本発明は、群馬県の世界遺産登録申請している富岡製糸工場に係わる碓氷地区の繭に注目し、その有効成分(繭有効成分エキス)を液体石鹸に利用することを目的としており、そのため繭から簡易に繭有効成分エキスを溶解させるための繭の加工方法、並びに当該繭の利用方法及び当該繭を用いた繭有効成分エキスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、液体石鹸製造工程の中でいずれかの工程に適量の繭を入れて、液体繭石鹸の製造方法の確立である。
液体石鹸製造工程のどこに繭を入れて加水分解させるかを検討した結果、繭溶解液を利用して液体繭石鹸製造方法を考案した。
そして、液体石鹸製造工程及び原料使用量をまったく変更せず、繭溶解苛性カリ液で液体繭石鹸を製造した。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス用基板、特に表面にCu配線を有する半導体デバイス用基板におけるCMP工程後の洗浄工程に用いられ、Cu配線に対する十分な防食性を有し、残渣の発生及び基板表面への残渣の付着を抑制することができる洗浄液を提供する。
【解決手段】以下の成分(A)〜(E)を含有してなり、かつpHが10以上である半導体デバイス用基板洗浄液。
(A)一般式(1)で表される有機第4級アンモニウム水酸化物
(R14+OH- (1)
(但し、R1は水酸基、アルコキシ基、又はハロゲンにて置換されていてもよいアルキル基を示し、4個のR1は全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。)
(B)界面活性剤
(C)キレート剤
(D)硫黄原子を有するアミノ酸
(E)水 (もっと読む)


【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、陽イオン界面活性剤と、解離により陽イオン界面活性剤に対して対イオンとなる陰イオンを生成可能な、イオン性界面活性剤とは異なる塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陽イオン界面活性剤は、例えば、脂肪族アミン塩、脂肪族四級アンモニウム塩、芳香族四級アンモニウム塩および複素環四級アンモニウム塩のうちの少なくとも一つである。また、ここで用いられる塩は、例えば、陰イオンとして塩素イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸水素イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、ギ酸イオンおよび酢酸イオンのうちの一つを生成可能な塩の群から選択された少なくとも一つのものである。 (もっと読む)


【課題】シミ汚れ、特に便、尿といった排泄物に由来するシミ汚れ、及び泥汚れなどの一般的な汚れに対して優れた洗浄力を有し、かつ保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)ポリオキシアルキレン基を有する特定の非イオン性界面活性剤と、(B)脂肪酸のカリウム塩又はアルカノールアミン塩と、(C)ポリカルボン酸系ポリマー及び/又はその塩と、(D)有機溶媒とを含有し、(A)/(B)の重量比が3/1〜1/1であり、かつ(A)/(C)の重量比が20/1〜1.5/1である液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、炭素数が10〜20の高級脂肪酸塩を除く陰イオン界面活性剤と、イオン性界面活性剤とは異なるアルカリ金属塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陰イオン界面活性剤は、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩およびリン酸エステル塩からなる群から選択された少なくとも一つである。また、ここで用いられるアルカリ金属塩は、例えば、塩化物塩、炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、ギ酸塩および酢酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一つである。 (もっと読む)


【課題】便器の表面に塗布した後も、付着物の形態が安定しており、繰り返しのフラッシュに対する徐溶性にも優れた便器用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)特定のポリアルキレングリコール21〜50質量%、(b)塩化カルシウム及び/又は塩化マグネシウム、並びに(c)水を含有し、(b)と(c)の質量比(b)/(c)が0.08〜0.7である、便器用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】硬質材料表面に付着するスケールを材料表面の腐食・劣化を発生させることなく、効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】難除去性無機系スケール付着硬質材料表面に対し、以下に示す三つの処理ステップを実施する。第1ステップ:スケールが付着している硬質材料表面に対する酸性洗浄剤による洗浄処理の実施。なお、酸性洗浄剤としてメタンスルホン酸とヒドロキシカルボン酸との混合液の使用が特に好ましい。第2ステップ:第1ステップ処理面に対する乾燥処理の実施。第3ステップ:第2ステップ処理面に対するアルカリ性洗浄剤による洗浄処理の実施。 (もっと読む)


【課題】炭化水素化合物や芳香族化合物等の油分又は難分解性の着色成分を含む排水の処理に使用した濾過膜の汚れを容易に除去できる濾過膜洗浄剤および濾過膜洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の濾過膜洗浄剤は、塩素酸又はその塩と界面活性剤とを含む混合溶液からなり、排水の処理に使用された濾過膜を洗浄する際に使用される濾過膜洗浄剤であって、塩素酸又はその塩の遊離塩素濃度が0.01〜3.0%である。
本発明の濾過膜の洗浄方法は、上記濾過膜洗浄剤によって、排水の処理に使用した濾過膜を洗浄する方法である。 (もっと読む)


【課題】ベタイン型両性界面活性剤を含有し石鹸を含まない硬質表面用洗浄剤に対し、洗浄時の良好な泡立ち使用感と、すすぎ時の良好な泡切れを奏するためのすすぎ促進剤の提供。
【課題の解決手段】4級アンモニウム塩を含む化合物であることを特徴とする、ベタイン型両性界面活性剤を含有し石鹸を含まない硬質表面用洗浄剤のすすぎ促進剤。前記4級アンモニウム塩を含む化合物は、ジェミニ型4級アンモニウム塩及び/又は4級アンモニウムを含むカチオンポリマーが好ましい。 (もっと読む)


【課題】洗髪時の使用性(指通り性)とすすぎ時の使用性(キシミ感のなさ)に優れ、かつ乾燥後の感触(滑らかさ、パサツキ感のなさ)が良好な毛髪洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】(A)一般式(1)のベタイン界面活性剤:


(R1COはイソステアリン酸残基、R、RはC1〜3のアルキル基、nは1〜3の整数)、(B)一般式(2)で表されるアニオン界面活性剤:RO(CHCHO)SOM(2)(RはC8〜16のアルキル基、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルカノールアミン、aはエチレンオキサイドの平均付加モル数で0.5〜2.5の数)、および(C)炭素数8〜20のアシル基を有する脂肪酸アルカノールアミド型ノニオン界面活性剤を特定量含有する毛髪洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】毛髪除去性に優れ、繊維製品の強度低下が極めて低く、短時間で処理できる毛髪除去剤及び毛髪除去方法を提供する。
【解決手段】(A)金属封鎖剤、(B)アルカリ金属水酸化物、および(C)ケイ酸塩を含有してなる毛髪除去剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】油中製造法等の液中製造法により造粉された粉末に好適な洗浄剤、及びその洗浄剤を用いて油中製造法等により高い清浄度ではんだ粉末を製造する。
【解決手段】液中ではんだ粉末を造粉する造粉工程と、該造粉工程で得られたはんだ粉末を洗浄剤にて洗浄する洗浄工程とを有し、その洗浄剤として、N−メチルピロリドン、2−ピロリドンジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、スルホラン、γ―ブチロラクトンの中から選ばれる一種以上の成分を含む洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


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