【課題】低毒性であり、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物の洗浄に対して、優れた洗浄効果を発揮する溶剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ノルマルプロピルブロマイド１００重量部、及び（ｂ）γ−ブチロラクトン６０重量部〜４５０重量部を含むことを特徴とする、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤成分をほとんど含有せず、少量でも効果的に水性塗料を洗浄することが可能な上、廃水の泡立ちが少ない実用的な水性塗料洗浄液を提供する。
【解決手段】本発明に係る水性塗料洗浄液は、水１００重量部に対して、ポリエーテル変性シロキサン０．０１〜７．００重量部、およびアルカノールアミン０．５〜１０．０重量部を混合することによって調整される。水性塗料洗浄液に用いられるポリエーテル変性シロキサンは、特定のシロキサン骨格にエチレンオキシ基およびプロピレンオキシ基をエーテル結合させた構造を有している。 （もっと読む）

【課題】金属の洗浄において、低起泡性能、防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）と下記一般式（２）で表される非イオン界面活性剤とを含有するものとする。




式（１）中、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基、ｎは１〜３０の数であり、式（２）中、ＰＯはオキシプロピレン基、ＥＯはオキシエチレン基、ｐ、ｒはそれぞれ平均付加モル数として、ｐ＝０〜５、ｒ＝３〜１５である。 （もっと読む）

【課題】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を選択的に除去できる組成物であって、上記組成物に対して同様に露出している可能性のある金属に破壊的化学作用を及ぼさない組成物を提供することを課題とする、また、極微量の酸化シリコンを呈し、一般的に絶縁体に対するエッチング速度の低い組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、ａ）少なくとも約５０重量％の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒；ｂ）約０．００５〜約０．８重量％のフッ素ソース；ｃ）上限約４９．９重量％の水；及び、ｄ）上限約２０重量％の腐食抑制剤を含むことを特徴とする組成物を含む。また、本発明は、基板からフォトレジスト及び／又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】機器や配管等の金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを良好に洗浄する難溶解性付着物の洗浄技術を提供する。
【解決手段】難溶解性付着物の洗浄剤は少なくともギ酸を成分に有し、金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを洗浄する。遠心薄膜乾燥機２０においてこの洗浄剤を供給する供給タンク３１が接続されている。例えば、乾燥処理の対象となる廃液が、ホウ酸カルシウムを主成分とする懸濁液である場合、洗浄剤のギ酸濃度が０．５〜１０ｗｔ％、好ましくは１〜５ｗｔ％の範囲に調整される。 （もっと読む）

【課題】銅系材や亜鉛系材について付着有機物の除去を適切に行いつつ、耐食層の除去に基づいて生じる洗浄上がりおよびめっき後の外観不良を抑制することが可能な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水溶性リン酸イオン物質、当該水溶性リン酸イオン物質以外の水溶性アルカリ性イオン物質、キレート剤、および界面活性剤を含有し、ｐＨが１０〜１２であって、腐食抑制剤を含有しない水系組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの３種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝３０〜７０：２０〜６０：１〜３０、より好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝４０〜６０：３０〜５０：２〜２０である。 （もっと読む）

【課題】蛋白質汚れに対して良好な洗浄力を示し、アルマイトに対する防食性に優れ、且つ保存安定性に優れたアルマイト用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン、（Ｂ）脂肪族カルボン酸及び／又はその塩、並びに、（Ｃ）ポリカルボン酸及び／又はその塩を、それぞれ特定範囲の質量％で含有するアルマイト用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属部材表面に付着したシリカ及びシランカップリング剤等を除去することが可能な金属部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】塩化水素とフッ化アンモニウムと水とを含む洗浄剤によって金属部材の表面を洗浄する工程を含む金属部材の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】硬質材料表面に付着するスケールを材料表面の腐食・劣化を発生させることなく、効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】難除去性無機系スケール付着硬質材料表面に対し、以下に示す三つの処理ステップを実施する。第１ステップ：スケールが付着している硬質材料表面に対する酸性洗浄剤による洗浄処理の実施。なお、酸性洗浄剤としてメタンスルホン酸とヒドロキシカルボン酸との混合液の使用が特に好ましい。第２ステップ：第１ステップ処理面に対する乾燥処理の実施。第３ステップ：第２ステップ処理面に対するアルカリ性洗浄剤による洗浄処理の実施。 （もっと読む）

【課題】人体や環境への影響が小さくしつつも、有機酸を高濃度に溶解でき、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準（１００重量％）として、有機酸（Ａ）を０．５重量％以上２５重量％以下含有し、有機酸（Ａ）に対する中和率が１００％以上１５０％以下となるようにアミンを含有し、さらに、アミンに対する中和率が８０％以上となるように有機酸（Ｂ）及び／又は無機酸を含有し、有機酸（Ａ）が、蓚酸、スルファミン酸、グリシン、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸及びグリオキシル酸のうちの少なくとも１種であり、有機酸（Ｂ）が、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、ブチル酸及びメタンスルホン酸のうちの少なくとも１種であり、無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸及び燐酸のうちの少なくとも１種である、さび除去剤水溶液とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温安定性が良好であると共に、泡立ちが速い液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ１）で表される化合物（ａ）と、式（ｂ１）で表される化合物（ｂ）と、芳香族スルホン酸（塩）、芳香族カルボン酸（塩）及び炭素数２〜４のアルコールから選択される少なくとも一種とを含有し、（ａ）成分／（ｂ）成分で表される質量比が６以下である液体洗浄剤。


（Ｒ^１はＣ８〜２４の直鎖アルキル又はアルケニル基。ｎは１〜５。ｘとｙはそれぞれ１〜７の整数で、ｘ＋ｙ＝８である。ｐ＋ｑは１〜１０である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表す。Ｍ_１及びＭ_２はそれぞれアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表す。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、銅配線を腐食させることなく、配線金属の腐食抑制の目的で添加されている防食剤などの有機残渣、および研磨された銅配線金属の銅の残渣の除去性に優れる銅および銅合金配線半導体用の洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨工程に続く洗浄工程において使用される洗浄剤であって、ＨＬＢが１５〜３５であって分子内に少なくとも１個の水酸基を有するアミン（Ａ）、ＨＬＢが１０〜３０であって分子内に少なくとも１個の３級アミノ基を有しかつ水酸基を含まないアミン（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが７．５〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】鋼板の圧延工程及び圧延された鋼板に付着する圧延油を、アルカリ洗浄液を用いて洗浄する工程を有する鋼板の製造方法であって、高速ラインにより前記洗浄を行う場合において、良好な洗浄性を保持することができる、鋼板の製造方法を提供すること。
【解決手段】前記アルカリ洗浄液として、アルカリ剤（Ａ）、カルボン酸化合物（Ｂ−１）及び水を含有し、更に圧延油に含まれる脂肪酸及び／又は脂肪酸エステル由来の塩を１．５〜２．５重量％含有するものを用いて、鋼板の洗浄を前記アルカリ洗浄液への連続接触時間が１．０〜１．８秒間の範囲で行う。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び油水分離性に優れるアルカリ洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（Ａ）、下記式（１）で表されるカルボン酸（Ｂ−１）、


該カルボン酸（Ｂ−１）のＣＯＯＨ基をＣＨ2ＯＨに置換した構造で表されるアルコール（Ｂ−２）、及び水を含有し、前記カルボン酸（Ｂ−１）と、前記アルコール（Ｂ−２）との重量比｛（Ｂ−１）／（Ｂ−２）｝が、９７／３〜２５／７５である、アルカリ洗浄剤組成物。この洗浄剤組成物には更に、キレート剤（Ｃ）、非イオン界面活性剤（Ｄ）及び／又は水溶性高分子カルボン酸類（Ｅ）が含有されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、有機残渣がベンゾトリアゾールが防錆剤の場合はもちろんのこと、カルボキシル基や水酸基などの官能基を有するHLBの高い防錆剤の場合においても、銅配線を腐食させることなく、有機残渣除去性に優れ、かつ金属残渣の除去性に優れる銅および銅合金配線半導体用の洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】
水酸基を１個以上有するアミン（Ａ１）、および特定の化学構造を有する脂肪族ポリアミン（Ａ２）からなる群より選ばれる１種以上のアミン（Ａ）、２〜５個の水酸基を有し、それらの水酸基のうちの少なくとも２個が芳香環のオルト位もしくはパラ位に結合し、かつＨＬＢが１５〜４０であるポリフェノール化合物（Ｂ）、塩基性化合物（Ｃ）、並びに水を必須成分とし、使用時のｐＨが８．０〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を使用する。 （もっと読む）

【課題】人体への影響が小さく、環境負荷が小さく、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準（１００重量％）として、有機酸を０．３重量％以上５０重量％以下含有し、塩化第一鉄を０．０１重量％以上３０重量％以下含有するさび除去剤水溶液とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄力に優れ、かつアルマイト等の金属防食性に優れた医療器具用洗浄剤組成物及び内視鏡の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン３〜３０質量％、（Ｂ）非イオン界面活性剤０．５〜２０質量％、（Ｃ）４価以上の多価アルコール３〜５０質量％を含有する医療器具用洗浄剤組成物。 （もっと読む）