【課題】金属部材表面に付着したシリカ及びシランカップリング剤等を除去することが可能な金属部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】塩化水素とフッ化アンモニウムと水とを含む洗浄剤によって金属部材の表面を洗浄する工程を含む金属部材の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】酸素遮断性保護層、とりわけ無機微粒子を含む酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版において、ブラインディングを発生させずに、良好に版面処理することができる版面洗浄剤を提供する。
【解決手段】酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版に用いる平版印刷版用乳化型版面洗浄剤であって、該版面洗浄剤の全質量に基づいて含まれる塩の全カチオンの含有量が０．５質量％以上であって、該全カチオンの質量に基づいて３０質量％以上がカリウム、セシウム及びルビジウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、平版印刷版用乳化型版面洗浄剤；酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版を、上記平版印刷版用乳化型版面洗浄剤にて洗浄することを含む、平版印刷版の版面処理方法。 （もっと読む）

【課題】化学繊維を素材とする繊維製品に使用しても、香りが長期にわたって持続する着香剤組成物の提供。
【解決手段】下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分及び水を含有し、
（Ａ）／（Ｂ）質量比が１／１００〜９／１００、（Ｃ）／（Ｂ）質量比が２０／１００〜１２０／１００、（Ｄ）／（Ｂ）質量比が１／１００〜２５／１００である着香剤組成物。
（Ａ）：香料アルコールとケイ酸とのエステル化合物
（Ｂ）：下記一般式（２）で表されるアルキレンオキサイド付加化合物
Ｒ^４−Ｚ−〔（EO）_ｐ／（PO）_ｑ〕−Ｒ^５ （２）
〔式中、Ｒ^４は炭化水素基、Ｚは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−であり、Ｒ^４−Ｚ−の総炭素数は２〜２２である。ｐは２〜１０、ｑは０〜５、Ｒ^５は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。〕
（Ｃ）：シリコーン化合物
（Ｄ）：カチオン性基含有高分子重合体 （もっと読む）

【課題】繊維製品に付着したグラム陰性菌を効果的に除菌できる組成物および除菌方法の提供。
【解決手段】亜鉛化合物、下記式の化合物、過酸化物、過酸前駆体を含有する組成物。
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【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】長期に連続して使いつづけても再汚染を引き起こさず、高い防汚効果を発揮しつづけることができる水洗トイレ用固形清浄剤組成物を提供する。
【解決手段】徐溶化剤および下記式（１）


で表されるポリオキシエチレン−ポリエチレンテレフタレートのブロックポリマーを含有する水洗トイレ用固形洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性化合物、（成分ｄ）有機酸、並びに、０．１重量％以上、０．５重量％未満の（成分ｅ）無機酸及び／又はその塩、を含み、ｐＨが６〜８であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】皮脂汚れ等の洗浄力が良好であり、かつ、使用時における冷水への希釈溶解性、防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）特定の非イオン性化合物、（Ｃ）水溶性銀塩、水溶性銅塩及び水溶性亜鉛塩から選ばれる１種以上の水溶性塩、並びに（Ｄ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／６０〜１００／５である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、油共存下で使用しても洗い始めは泡量が多く、その泡量の持続性が良好であり、かつ、スポンジに含ませて握った際に弾力感が感じられ、さらに除菌効果を有する液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式（ａ１）［式中、ＡＯはオキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基を表す。ｍはＡＯの平均繰返し数を表し、６〜１２である。ｘとｙはそれぞれ１〜６の整数であり、６≦ｘ＋ｙ≦１２である。］で表される化合物（ａ）と、陰イオン界面活性剤（ｂ）と、両性界面活性剤及び／又は半極性界面活性剤（ｃ）と、水溶性銀塩、水溶性銅塩及び水溶性亜鉛塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（ｄ）とを含有し、［（ｂ）＋（ｃ）］／（ａ）で表される質量比が２〜１０であることを特徴とする液体洗浄剤組成物。
［化１］
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【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性有機化合物、並びに、（成分ｄ）有機酸、を含み、ｐＨが７〜９であることを特徴とする、半導体用基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】繊維製品に対し、優れた残香性で香りを付与できる漂白性組成物および繊維製品の処理方法の提供。
【解決手段】Ａ〜Ｆを含有する漂白性組成物。Ａ：銅化合物。Ｂ：亜鉛化合物。Ｃ：過酸化水素、または水中で過酸化水素を放出する過酸化物。Ｄ：一般式（ｄ１）または（ｄ２）で表されるキレート化合物。Ｅ：界面活性剤。Ｆ：香料。
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【課題】自動食器洗い又は器物洗い機において自動食器洗い又は器物洗い中、食器などを腐食から保護するための器物洗い用組成物の提供。
【解決手段】器物洗い用洗剤組成物であって、（ａ）洗剤組成物の重量に基いて０．５ｗｔ％と２０ｗｔ％の間の界面活性剤を含む清浄剤、（ｂ）該器物洗い用洗剤組成物を水で希釈することにより得られるところの少なくとも８のｐＨを有する使用溶液をもたらすのに有効な量のアルカリ源、（ｃ）ガラスの腐食及び／又はエッチングを減じるのに十分な量の腐食抑制剤であって、（ｉ）アルミニウムイオンの源、及び（ｉｉ）亜鉛イオンの源を含み、アルミニウムイオンの源の量及び亜鉛イオンの源の量が、６：１と１：２０の間のアルミニウムイオン対亜鉛イオンの重量比をもたらすのに十分である腐食抑制剤及び（ｄ）カプセル封入塩素剤
を含む器物洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】成形作業の繰り返しにより汚染された金型に対して優れた洗浄効果を発揮する金型洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】成形材料を用い繰り返し成形を行う加熱成形用金型の洗浄剤組成物である。そして、上記洗浄剤組成物は、母材となる合成ゴムおよび合成樹脂の少なくとも一方と、アルカリ金属塩およびアルカリ金属水酸化物の少なくとも一方と、水を含有する。 （もっと読む）

洗浄組成物は、水性液体製剤、非水性液体製剤、または固体製剤を含み得る。これらの製剤は、界面活性剤および溶媒を含み得る。この溶媒は、多くの基質から望ましくない汚れの残留物を除去、可溶化または洗浄することを促進するのに役立つことが示された。この溶媒物質は、水溶液の構成成分として使用することができ、カプセル化した溶媒として固体または粉末の製剤中に組込むことができるか、または固体の吸収材上に吸収させた溶媒として固体または粉末の製剤中に組込むことができる。この水性製剤を、濃縮形態で作製することができる。この洗浄剤を水と混合すると、様々な洗浄プロセスに適用することができる活性のある洗浄溶液を作ることができる。この洗浄剤は、一般用途および特別な用途の洗浄剤中に見られる界面活性剤、ビルダー、隔離剤、漂白剤、殺生物剤を含む付加成分を含むことができる。パーソナルケア洗浄製品についても記載する。 （もっと読む）

【課題】アルカリ性カルシウム水溶液を長期間にわたって連続的に効率良く製造することができる方法を提供する。
【解決手段】アルカリ性カルシウム水溶液製造装置１０は、上下方向に開口した通水孔１２を有する通水板１３により内部が上方空間１４と下方空間１７とに区画されている容器１１と、通水板１３の上面に配置された粒状カルシウム化合物１９とを含む。このアルカリ性カルシウム水溶液製造装置１０の水導入口１８より水を容器１１の内部に連続的に導入し、この水と粒状カルシウム化合物１９との接触によって生成して通水板１３の通水孔１２を通って下方空間１７に下降するカルシウム化合物小粒子２０との接触により生成するアルカリ性カルシウム水溶液を通水板１３の通水孔１２を介し、粒状カルシウム化合物１９と接触させながら上方空間に上昇させ、次いでアルカリ性カルシウム水溶液を水溶液取出口１５より取り出すことからなるアルカリ性カルシウム水溶液の製造取り出し方法。 （もっと読む）

一般式（Ｉ）：


〔式中、Ｒ'またはＲ'’は水素原子あるいはＣＯ−Ｒ'''基を表す；ただし、Ｒ'基またはＲ''基の１つは水素原子であり、Ｒ'''は、直鎖または分枝の、飽和または不飽和の、６〜２２個の炭素原子を有するアルキル基またはアルケニル基を表す〕
で示されるイソソルビドモノエステルは、種々の洗剤（特に食器洗浄剤）または化粧品調製物の製造において有用な化合物である。
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汚れを除去するためのクリーニング組成物は、アルミニウム塩、ヒドロキシカルボキシレート、アルカリ源および任意選択的に、界面活性剤系を含む。このクリーニング組成物は、約９〜約１４のｐＨを有する。 （もっと読む）

【課題】食器類を洗浄するのに有用であり、低温での改善された物理的安定性を有する洗剤組成物を提供する。
【解決手段】全組成物の３０〜７０重量％の水、および（ａ）アルキルアルコキシサルフェート界面活性剤と（ｂ）アミンオキシド界面活性剤とを含み、前記アルキルアルコキシサルフェート界面活性剤が分枝アルキルアルコキシサルフェート界面活性剤３０〜５０重量％を含み、かつ全組成物の０．１〜２重量％のマグネシウムイオンをさらに含む、水性液体洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ぬめりの除去効果を長期間にわたって維持させることができるぬめりの除去剤を提供する。
【解決手段】５０．０質量％以上の酸化マグネシウムと、０．１質量％以上の酸化カルシウムとからなる複合体の粒子を活性成分として含有する粒状物を含むぬめりの除去剤。ぬめり除去剤８を台所流し台の排水口１に接続するトラップ３付きの排水管２に用いる場合には、ぬめり除去剤８を袋状多孔性容器９に収容して、ゴミ取り用バスケット４の底部や、ゴミ取り用バスケット４と椀６との間に設置したり、ドーナツ状の袋状多孔性容器１０に収容して、封水部７の排水管２の周囲に設置したりすることができる。 （もっと読む）

【課題】ぬめりが付着している排水管から、ぬめりを効率よく除去することができる方法を提供する。
【解決手段】マグネシウムイオンを含有するアルカリ性水溶液もしくは酸化マグネシウム及び／又は水酸化マグネシウムの粒子が懸濁されている水性アルカリ性懸濁液を、管壁に細菌と細菌の排泄物とを含有するぬめりが付着している排水管の開口部の周囲に散布する方法。 （もっと読む）