【課題】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を選択的に除去できる組成物であって、上記組成物に対して同様に露出している可能性のある金属に破壊的化学作用を及ぼさない組成物を提供することを課題とする、また、極微量の酸化シリコンを呈し、一般的に絶縁体に対するエッチング速度の低い組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、ａ）少なくとも約５０重量％の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒；ｂ）約０．００５〜約０．８重量％のフッ素ソース；ｃ）上限約４９．９重量％の水；及び、ｄ）上限約２０重量％の腐食抑制剤を含むことを特徴とする組成物を含む。また、本発明は、基板からフォトレジスト及び／又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤及び、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤と化１の化学式（Ｉ）で表されるアザアダマンタン型ニトロキシルラジカルを含むことを特徴とする分離膜用洗浄剤。
【化１】


（但し、Ｒ_１およびＲ_２は、水素原子または炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を示す。）
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【課題】自動食器洗い機においてガラス製品を腐食から保護するための全サイクル法が提供される。
【解決手段】ａ）有効量の粒子状亜鉛含有物質を含むスルーザウォッシュ洗剤組成物を提供する工程、ｂ）有効量の少なくとも１つの金属塩を含むすすぎ補助剤組成物を提供する工程、ｃ）前記ガラス製品の表面を、前記スルーザウォッシュ洗剤組成物と接触させる工程、及びｄ）すすぎサイクルにおいて、前記ガラス製品の表面を、前記すすぎ補助剤組成物と接触させる工程を含む全サイクル法であって、前記すすぎ補助剤組成物が、水溶液中１０％の濃度で測定されたときに５未満のｐＨを有する全サイクル法。 （もっと読む）

【課題】水中でのゲル化を抑制したα−ＳＦ塩固形物を提供すること。
【解決手段】混練することにより、a)α−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩にb)水溶性中性無機塩を含ませたα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩固形物を得る。固形物の全量を基準として、a)が３０〜９０質量％、b)が８〜６０質量％の量で存在し、a)とb)との合計量が８０〜９８質量％である。 （もっと読む）

【課題】商業用安定化臭素溶液の使用現場においてバッチまたは連続プロセスとして実施することができ、貯蔵および輸送する必要性を省くことができる安定化臭素溶液の製法を提供する。
【解決手段】臭素源と安定剤とを組み合わせて混合物を形成し、ついでこの混合物に酸化剤を添加することによって、安定化臭素溶液が調製される。 （もっと読む）

【課題】濯ぎ時の感触、乾燥後の感触に優れる毛髪用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
下記成分（Ａ）〜（Ｆ）を含有し、重量比［（Ａ）／（Ｂ）］が０．１〜１．２であり、重量比［（Ｂ）／（Ｃ）］が０．５〜５である毛髪用洗浄剤組成物。
（Ａ）エーテルカルボン酸塩型界面活性剤
（Ｂ）エーテル硫酸塩型界面活性剤
（Ｃ）両性界面活性剤
（Ｄ）特定の単量体（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を含有するモノマー混合物を共重合することにより得られるカチオン性基含有共重合体
（Ｅ）ジメチルジアリルアンモニウム塩の単独又はその共重合体、及びカチオン化セルロース誘導体から選ばれる１種以上のカチオン性ポリマー
（Ｆ）ジアルキルポリシロキサン及びアミノ変性シリコーンから選ばれる１種以上のシリコーン （もっと読む）

本発明は、バニリンおよび／またはバニリン誘導体を含有する薬剤、特にバニリンおよび／またはバニリン誘導体が香料混合物の成分であって、該薬剤が洗浄剤および清浄剤または化粧品の群から選択される薬剤である薬剤の阻害剤としての、ヨウ化物塩、好ましくはヨウ化カルシウム、ヨウ化カリウムおよび／またはヨウ化ナトリウムの使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、水溶性マグネシウム化合物を用いた洗浄組成物および方法に関する。このような組成物は、スケールの低減、すすぎ、硬質表面の洗浄、器物洗浄および腐食抑制に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄料において洗浄時の泡質や洗髪すすぎ時の毛髪の指通りを改善し、使用後の毛髪及び皮膚にしっとり感かつコンディショニング効果を付与する新規共重合体を提供すること。
【解決手段】特定のカチオン性基含有単量体とジアリルアミン系単量体と、（メタ）アクリルアミド系単量体を重合させて成る共重合体を用いることにより、しっとり感とコンディショニング効果が著しく改善された化粧料が得られ、また、毛髪及び皮膚洗浄料に用いた場合、泡立ちが良好になることを見出した。 （もっと読む）

本発明は、表面上の汚れをクリーニングするために適当なクリーニング組成物に関する。本発明は、また、第1成分として本発明のクリーニング組成物と、第2成分として吸収剤とを含んでなる、表面、ことに汚れた表面をクリーニングするキットに関する。
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【課題】各種水洗式便所の排水管、特にトラップ内への尿石の付着防止に極めて有効な尿石防止剤を提供する。
【解決手段】〔AgＩ₂〕^-、〔AgＩ₃〕^2-、または〔AgＩ₄〕^3- で示されるヨード化錯体を有効成分とする尿石防止剤。 （もっと読む）

散布された洗浄液（５１、５２、５５、７１、１６０、１６０Ａ、１６０Ｂ、１９０、１９２）を生成するための方法および装置を提供する。洗浄機は、表面（１２５、３０２）上で移動するように構成された可動式躯体（１０２、３０６、３８１）と、液体源（１４、７０、１０６、５０２）と、液体ディスペンサ（１９４、３１０、３５２、３５４、３６２、３７１、５０６）と、液体源から液体ディスペンサ（１９４、３１０、３５２、３５４、３６２、３７１、５０６）までの流路（１６、１７、１８、５９、７０、７１、１６０、１ＯＡ、１６０Ｂ）と、流路（１６、１７、１８、５９、７０、７１、１６０、１ＯＡ、１６０Ｂ）と流体連通している電気分解散布装置（５０、１６１、１６３、３２５、３２６、５０３、５０５）と、を含む。
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ａ）以下を含む正味の正電荷を有する合成ランダムコポリマーと、
ｉ．）下式の非イオン性モノマー単位：
【化１】


（式中、ＲはＨ又はＣ_1〜4アルキルであり；Ｒ¹及びＲ²は、独立して、Ｈ、Ｃ_1〜4アルキル、ＣＨ₂ＯＣＨ₃、ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）₂、及びフェニルから成る群から選択されるか、あるいは、共にＣ_3〜6シクロアルキルである）、及び
ｉｉ．）下式の２以上の正電荷を持つカチオン性モノマー単位：
【化２】


（式中、ｋ＝１であり、ｖ、ｖ'、及びｖ"は、それぞれ独立して、１〜６の整数であり、ｗは０又は１〜１０の整数であり、Ｘ^-はアニオンである）
ｂ）洗浄性界面活性剤と、
ｃ）水性キャリアを含むパーソナルケア組成物。
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本発明は、エンドグルカナーゼ活性を有する単離ポリペプチド及び該ポリペプチドをコードする単離ポリペプチドに関する。さらに本発明は、該ポリヌクレオチドを含む核酸構造体、ベクター、及び宿主細胞、並びに該ポリペプチドを生産及び使用するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】Ｌｏｗ−ｋ材等の基板材料を腐食させずに、埋め込み材を選択的に除去することができる基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩および水を含有する基板洗浄液であって、このフッ化物塩の含有量を、基板洗浄液全体を１００質量％として、１０質量％以上５０質量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】 プラスチックレンズ原料モノマーが型枠外で重合したポリマー汚れ、モノマー残渣、皮脂等の有機物、樹脂粉などの汚れが付着したプラスチックレンズを洗浄するための洗浄剤であって、いずれの汚れに対しても洗浄力が高く、しかも簡単なリンスでレンズから除去できるプラスチック用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 水酸化テトラメチルアンモニウムのようなｐＨが１０以上の水溶液に、チオシアン酸ナトリウムまたはヨウ化ナトリウムのようなカオトロピックイオンを添加した水溶液をプラスチック用洗浄剤として使用する。 （もっと読む）

【課題】ポリマー性物質を基体から効率的に除去し、かつ銅、特に酸化銅の制御された除去を提供する除去剤、特にプラズマエッチング後ポリマー除去剤に対する継続的な必要性が存在する。
【解決手段】ポリマー性物質および酸化銅を、基体、例えば、電子デバイスから除去する上で有用な組成物およびプロセスが提供される。これらの組成物およびプロセスは、プラズマエッチングプロセスの後にポリマー性残滓を電子デバイスから除去するのに特に好適である。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体基板のような基板から望ましくない有機及び無機残留物及び汚染物質を除去するのに使用される水性清浄用組成物を提供すること。
【解決手段】清浄用組成物が、約０．０１〜約４０重量％の、グリアニジウム塩、アセトアミジニウム塩、ホルムアミジニウム塩及びその混合物；水；そして任意には水溶性有機溶媒を含むように構成する。本発明による組成物は、酸化剤及び研磨粒子を含まず、基板特にケイ素含有ＢＡＲＣ及び／又はフォトレジスト残留物を有する基板から残留物を除去する能力をもつ。 （もっと読む）

【課題】 例えば、アルミニウムやマグネシウム等が蒸着したマスク、液晶ディスプレイ基板、金属ミラー等のように、被洗浄物の洗浄面にダメージを与えることなく平滑的に、しかも、付着金属の除去したい厚さによって洗浄速度をコントロールできる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 ＳＣＮ⁻、Ｉ⁻、ＣｌＯ₄⁻、ＮＯ₃⁻およびＢｒ⁻のようなカオトロピックイオンを含有する、ｐＨが１０以上の水溶液からなる洗浄剤。該カオトロピックイオンの濃度が０．１モル／ｌ以上、最も好ましくは０．８〜１．５モル／ｌである場合に特に効果に優れる。 （もっと読む）

【解決手段】基板をH₂SiF₆またはHBF₄；有機溶媒；アミン；腐食防止剤；および水を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率（Low-k）の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物のpHが7未満である方法。 （もっと読む）