【課題】ポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテルを配合した、調理油汚れに優れた洗浄力を有する硬質表面用の洗浄剤組成物において、できるだけ少量の界面活性剤によって均一液体組成物を形成できる組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテル、（ｂ）アミンオキサイド、（ｃ）炭素数が８〜１８の脂肪酸及びその塩からなる群から選ばれる１種以上を０．００１〜１５質量％、並びに水を含有し、（ｃ）成分／（（ｂ）成分＋（ｃ）成分）の質量比が０．００１／１〜１／１であり、（ａ）成分の６０〜１００質量％がジプロピレングリコールのアルキル基の炭素数が４〜８のモノアルキルエーテルであり、２５℃でのｐＨが８〜１４である、硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物及び組成物が求められている。
【解決手段】本発明は、新規なスルホペルオキシカルボン酸化合物、組成物、化合物製造と使用の方法に関連している。本発明のスルホペルオキシカルボン酸化合物は貯蔵安定性を有し、水溶性で、低臭または無臭である。さらに、本発明の化合物は非石油系再生油から抽出されている。本発明の組成物は殺菌剤、および漂白剤として使用される。本発明の化合物はまた、カップリング剤としての使用にも適している。 （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物及び組成物が求められている。
【解決手段】本発明は、新規なスルホペルオキシカルボン酸化合物、組成物、化合物製造と使用の方法に関連している。本発明のスルホペルオキシカルボン酸化合物は貯蔵安定性を有し、水溶性で、低臭または無臭である。さらに、本発明の化合物は非石油系再生油から抽出されている。本発明の組成物は殺菌剤、および漂白剤として使用される。本発明の化合物はまた、カップリング剤としての使用にも適している。 （もっと読む）

【課題】 砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、悪影響を及ぼす界面活性剤などの有機物の基板表面の残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、または悪影響を及ぼす界面活性剤を含有せずに非常に高い洗浄性を発揮する電子材料用洗浄剤および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 還元性を有するレダクトン類（Ａ）０．０１〜１０重量％と水を含有し、１重量％に希釈したときの２５℃での表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満であることを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】デリケート繊維に対する浸透力、風合い感に優れる液体洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】式（１）で表される非イオン界面活性剤Ａ、及び、アルキル鎖長の異なる二種のアミドアミンＢ、Ｃを含有し（Ｂのアルキル鎖長７〜21、Ｃのアルキル鎖長１５〜１７）、Ｃ／Ａの質量比が０．０１〜０．２０であり、Ｃ／Ｂの質量比が０．７〜５．０である衣料用液体洗剤組成物。


（Ｒ^１は炭素数７〜２１の炭化水素基であり、Ｒ^２は−Ｘ−が−Ｏ−の場合は水素であり、−Ｘ−が−ＣＯＯ−の場合は炭素数１〜６のアルキル基又はアルケニル基。） （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対するリンス性が非常に高い電子材料用リンス液を提供することを目的とする。
【解決手段】 還元剤および水を必須成分として含有するリンス液を用いる。 （もっと読む）

【課題】低反射率をもたらす、シリコンウェハー表面でのピラミッドの均一かつ密な分布を与える。
【解決手段】１種以上の界面活性剤を有する、シリコンウェハーをテクスチャ形成するためのテクスチャ形成前処理組成物。１種以上の界面活性剤を有するテクスチャ形成前処理組成物でシリコンウェハーを濡らす工程に続いて、テクスチャ形成工程を有する、シリコンウェハーのテクスチャ形成方法。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に１個以上のアミノ基および１個以上のスルホン酸基を有する化合物（A）またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、低温での安定性が良好で、油共存下でも洗い始めから泡量が多く、その持続性も良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】式（ａ１）及び、式（ｂ１）で表される化合物と、両性及び／又は半極性界面活性剤（ｃ）とを含有する液体洗浄剤組成物。
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【課題】アルカリ液中において腐食感受性である金属の洗浄に対して、特に、アルミニウムもしくはその合金のような軟質金属、または亜鉛めっき鋼のようなガルバナイズドスチールの洗浄に対して好適で、また追加の機械的処理を必要とせずに到達することが困難な内側の表面の洗浄を可能にするアルカリ洗浄組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄するための組成物であって少なくとも１種のアルカリ源、元素周期表の第２または第３の主族の元素から選択される少なくとも１種のカチオンを含む少なくとも１種の無機塩を含み、これにより組成物がいずれのトリアゾールおよび／またはいずれのアルカリ金属ホウ酸塩も含まない組成物、該組成物を含む水性濃厚物、該組成物または該水性濃厚物を含む使用溶液、ならびに、上記の水性濃厚物または任意の上記の使用溶液を用いて、アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄する方法である。 （もっと読む）

【課題】毛髪洗浄分野では、洗髪時の泡立ち、すすぎ時の泡切れ、及び乾燥後の髪の広がりのなさのすべてを顕著に向上させることができ、皮膚洗浄分野では、洗浄時の泡立ち、すすぎ時の泡切れ、及び乾燥後の皮膚のかさつきのなさのすべてを顕著に向上させることができる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤５質量％〜３０質量％、（Ｂ）カチオン性界面活性剤０．１質量％〜１０質量％、（Ｃ）２５℃での動粘度が４００万ｍｍ^２／ｓ以上のジメチルポリシロキサン０．０１質量％〜２質量％、及び（Ｄ）マルトオリゴ糖を少なくとも含有する洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】洗浄力を低下させることなく、従来以上に濯ぎ性に優れた、安定性の良い濃縮タイプの衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤、（Ｂ）陰イオン性界面活性剤、（Ｃ）水混和性有機溶剤５〜４０質量％、及び（Ｄ）水を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量が３５〜５５質量％であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）成分／（Ｂ）成分〕が７０／３０〜９０／１０であり、ＪＩＳＫ3362：1998記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが６.５〜１０．０である衣料用液体洗浄剤組成物。Ｒ¹−Ｙ−（ＥＯ）_n−Ｒ²（Ｉ）（式中、Ｒ¹は炭化水素基であり、−Ｙ−は−Ｏ−又は−ＣＯＯ−であり、Ｒ¹−Ｙ−は総炭素数８〜２２である。ＥＯはエチレンオキシ基を表し、ｎは平均付加モル数を表し、ｎは１４〜３０の数である。Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】洗浄性、防曇性、防汚性、帯電防止性、吸湿性などの多機能性を有する防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物、及び防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物が含浸または塗布された基材をも提供する。
【解決手段】防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物は、下記式（１）


で表されるグアニジン骨格を含む非環式グアニジン化合物と、有機カルボン酸、その酸無水物、金属塩、エスエルの中から選ばれる少なくとも１種のカルボキシ化合物と、親水性多孔質無機微粒子とを、水性液中に含む。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】酵素の活性保持性、組成物の貯蔵安定性、及び洗浄力に優れた自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アミノ酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸又はその塩、（ｂ）重量平均分子量が１，０００〜１００，０００のアクリル酸−マレイン酸コポリマー又はその塩、（ｃ）酵素、及び水を含有し、（ａ）及び（ｂ）の合計含有量が１０〜５０質量％であり、水溶性溶剤の含有量が１０質量％以下である、自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】防錆性と硬水安定性の双方を満足する水性洗浄剤を提供する。
【解決手段】水性洗浄剤は、実質的にポリアルキレングリコールを含有せず、下記Ａ、ＢおよびＣのうち少なくともいずれか１種のカルボン酸の塩を配合してなることを特徴とする。
Ａ：総炭素数９または１０の、分岐アルキル基を有する脂肪族一塩基カルボン酸
Ｂ：セバシン酸
Ｃ：総炭素数１１から１３までの芳香族一塩基カルボン酸 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】起泡性が良好でかつ泡の持続性の高い車両用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくとも、アルキル硫酸塩（アルキル基の炭素数は８〜１８）及びポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩（アルキル基の炭素数は８〜１８）の何れか若しくは両方の界面活性剤と、炭素数１２〜１６の高級アルコール及び／又は炭素数１２〜１６の高級脂肪酸と、水とからなることを特徴とする車両用洗浄剤である。 （もっと読む）