【課題】起泡性が良好でかつ泡の持続性の高い車両用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくとも、アルキル硫酸塩（アルキル基の炭素数は８〜１８）及びポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩（アルキル基の炭素数は８〜１８）の何れか若しくは両方の界面活性剤と、炭素数１２〜１６の高級アルコール及び／又は炭素数１２〜１６の高級脂肪酸と、水とからなることを特徴とする車両用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】ケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの酸洗作業において、安全面、効率面で問題のある手作業による酸洗方法に替えて、タンク洗浄装置を用いて無人化、自動化による酸洗方法、及びこの自動酸洗方法に好適な高い洗浄効果を得ることができる酸洗浄剤を提供する。
【解決手段】硝酸、フッ酸、硫酸、有機酸、多価アルコール、粘性助剤、錯化合物、消泡剤を含有した構成をもつ酸洗浄剤、及びこの酸洗剤を使用してタンク洗浄装置を用いて行うケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの自動酸洗方法。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】低浴比の濯ぎ条件下でも、衣料に優れた柔軟性をもたらす衣料の処理方法の提供。
【解決手段】下記工程１〜工程３からなる衣料の処理方法。
工程１：下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、アミン又はその酸塩、及び陰イオン性界面活性剤を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比＝１．６〜２０の洗浄剤組成物を用いて、浴比３〜１５の条件下で衣料を洗浄する工程
工程２：工程１で使用した洗浄水を衣料から脱水する工程
工程３：工程２で得られた衣料を、柔軟剤組成物と浴比３〜２０の条件下で接触させる工程
（Ａ）：式Ｒ^１−Ｘ−〔（ＥＯ）_ｎ／（ＰＯ）_ｍ〕−Ｒ^２の非イオン性界面活性剤
（Ｒ^１は炭化水素基、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−、Ｒ^１−Ｘ−の炭素数は８〜２２、ｎは５〜２５、ｍは０〜５、Ｒ^２はＨ又は炭素数１〜３の炭化水素基）
（Ｂ）：式Ｒ^３−Ｏ−〔（ＥＯ）_ｎ１／（ＰＯ）_ｍ１〕−Ｈの非イオン性化合物
（Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素基、ｎ１は５〜２５、ｍ１は０〜５） （もっと読む）

【課題】金属表面を酸洗する際、腐食抑制効果が強く、しかも抑制剤濃度が変化しても腐食抑制率の変化が小さい金属の酸洗浄用腐食抑制剤、および洗浄方法を提供する。
【解決手段】第一アミノ基及び／又は第二アミノ基を有するポリアルキレンポリアミン（Ａ）のＣ_３−Ｃ_１５アシル化誘導体（α）を含み、該アシル化誘導体（α）の含有量が、酸液１Ｌに対して０．１〜５００００ｍｇである金属の酸洗浄用腐食抑制剤。および該洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄する。 （もっと読む）

【課題】広範な抗細菌及び真菌活性を有し、紫外線等による変色、着色を抑制した水溶性の抗菌性組成物を提供する。
【解決手段】酸化銀、銀塩、又は銀錯体（ただし、２Ｈ−ピラン−２−オン−４，６−ジカルボン酸及びその誘導体の銀塩及び銀錯体を含まない）のいずれか1種以上の化合物とクレアチニンとを配合してなる抗菌性組成物であって、前記化合物中の銀（Ａ）とクレアチニン（Ｂ）とのモル比（Ｂ）／（Ａ）が、２〜８０である。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】インフルエンザウイルス感染を予防するための泡立性の抗菌手洗い洗浄剤を提供する。
【解決手段】本発明は、インフルエンザウイルス感染を予防するための抗菌手洗い洗浄剤であって、
（ａ）ポリアルキレングリコールエーテル０．０１〜５．０質量％及び
（ｂ）ヒノキチオール若しくはその金属錯体又はそれらの塩０．０００１〜１．０質量％を含有し、
上記成分に加え、水、エタノール及びグリセリンを含有する泡立性の抗菌手洗い洗浄剤に関する。
本発明のインフルエンザウイルス感染を予防するための泡立性の抗菌手洗い洗浄剤は、ヒトインフルエンザウイルスに対する抗ウイルス効果だけでなく、トリインフルエンザウイルスに対しても優れた抗ウイルス効果を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）糖、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、並びに、（成分ｅ）有機酸、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする半導体基板洗浄用の洗浄組成物。前記洗浄組成物を用いた洗浄方法、及び、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】配合安定性に優れ、且つ複合汚れに対しても高い洗浄力を有する自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）グルタミン酸２酢酸又はその塩、（ｂ）アクリル酸／マレイン酸のモル比が０．６〜９、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００のアクリル酸−マレイン酸コポリマー又はその塩、（ｃ）非イオン界面活性剤、並びに水を含有し、（ａ）及び（ｂ）の合計含有量が１５〜３０質量％であり、（ｃ）の含有量が０．０１〜３質量％であり、（ｂ）／（ａ）の質量比が０．３〜３であり、２５℃におけるｐＨが６〜８である、自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる、低温保存時での安定性に優れた皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）成分：トリクロサン、イソプロピルメチルフェノール及びパラクロロメタキシレノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の殺菌剤を０．０５〜２質量％、（ｂ）成分：炭素数４〜１２の炭化水素基を有するグリセリルエーテル、並びに（ｃ）成分：特定の構造を有するアニオン界面活性剤を０．５〜３５質量％含有し、さらに、（ｅ）成分：多価アルコール（但し（ｂ）成分を除く）を０．０５〜２３質量％含有する皮膚殺菌洗浄剤組成物であって、２５℃におけるｐＨが５．５以下である、皮膚殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】接合されるべき表面を効率的に調製し、そして目に見える残留物を増加させることなく、ＰＣＢ表面と、部品のリード線／端子と、溶融ろうとの間の表面張力を減少させることにより、ろう球およびろうブリッジの数を減少させる、ろう接用フラックス組成物の提供。
【解決手段】ろう接用フラックスは、溶媒、この溶媒中の活性剤、およびカチオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤を含む。このろう接用フラックスは、基板（例えば、プリント回路基盤上に、ろうが塗布される前に適用され得る。減少したミクロろう球、少ない残留物、少ない固形物、および未洗浄性能（ｎｏ−ｃｌｅａｎ ｃａｐａｂｉｌｉｔｙ）を提供するフラックスが本明細書中に記載される。１つの実施形態において、溶媒はアルコール（例えば、イソプロピルアルコール）である。カチオン性界面活性剤は、４級アンモニウムフルオロアルキル界面活性剤であり得る。 （もっと読む）

【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸（ＨＣｌ）水溶液に、（Ａ）平均分子量が１５０〜１５００の低分子ポリアミンと、（Ｂ）低分子カルボン酸（またはその塩）を含み、更に（Ｃ）アセチレンアルコール、（Ｄ）ヘキサメチレンテトラミン、（Ｅ）ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 （もっと読む）

【課題】水３０Ｌに対して洗濯洗剤を１〜９ｇで、加えて省エネ（節電・節水）、物流の低減、原材料の縮減、水質汚染の減少などが図られ、人や衣料への負担を少なくし、洗剤の「洗う・すすぐ・仕上げる」の３つの基本が合理的に達成できる粉末洗濯用洗剤を提供。
【解決手段】第１成分として、洗剤主成分の陰・非イオンの水性界面活性剤を６０ｗ％以上、第２成分としてこの力を最も忠実にさせるためのポリシリケート（メタ硅曹など）を用い、更に第３成分として炭酸塩・硼酸塩・硫酸塩・酸化物（パーオキサイド）を５〜２５ｗ％（１５ｗ％以上）、更に抗菌剤をそのＭＩＣによるが、０．１〜１０ｗ％配合して完成する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】床面洗浄時の仕上がり性のため、界面活性剤濃度を低く維持しつつ、高濃度の非水溶性の香料化合物を安定に配合した床用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）特定の非イオン性界面活性剤、（ｂ）特定の陽イオン性界面活性剤、（ｃ）炭素数３〜６のポリカルボン酸又はその塩、及び（ｄ）非水溶性の香料化合物を特定条件で含有する床用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】すすぎ時にぬるつかず、さっぱりとした感触で、素早くストップ感を得ることができ、乾燥後の感触も良好な皮膚洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｆ）：
（Ａ）アニオン界面活性剤、
（Ｂ）カチオン性ポリマー、
（Ｃ）両性界面活性剤及び非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤、
（Ｄ）無機塩、
（Ｅ）有機酸塩、
（Ｆ）水
を含有し、成分（Ｄ）及び（Ｅ）の質量割合が、（Ｄ）／（Ｅ）＝１０／１〜１．２／１である皮膚洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】食器洗浄機による食器の洗浄において優れた洗浄力を示し、且つ食器の使用、洗浄の繰り返しによる色素汚れの付着遅延性にも優れた食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）珪酸塩及び炭酸塩からなる群より選ばれる１種以上の無機化合物、（Ｂ）有機酸アルカリ金属塩、（Ｃ）（Ｃ−１）ポリアクリル酸又はその塩及び（Ｃ−２）マレイン酸の共重合体又はその塩、並びに（Ｄ）塩素系漂白成分を含有し、（Ｃ−１）成分と（Ｃ−２）成分の質量比（Ｃ−１）／（Ｃ−２）が９８／２〜５５／４５である、食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ノニオン活性剤を主な界面活性剤とする衣料用液体洗浄剤組成物において、洗濯、乾燥の後に発生する、菌に由来する異臭や悪臭を抑制する効果の高い組成を特定して、洗浄後の衣類の臭い抑制、抗菌効果において高い特性を有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る液体洗浄剤組成物は、（ａ）ノニオン界面活性剤、（ｂ）ベタイン基と疎水基を有する水溶性共重合体、（ｃ）ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）、４−イソプロピル−３−メチルフェノール（ＩＰＭＰ）から選ばれる少なくとも１種の機能性成分、を含有する。 （もっと読む）

【課題】排水口のぬめり防止と抗菌を目的とするＯＹＫ菌含有錠剤において本剤は保存によって、短期間の間に錠剤自体にカビが生えるという欠点を有していた。そのために実用に至っていない。この原因は富栄養環境下、放置された錠剤は休眠中のＯＹＫ菌に抗菌性がないからカビが発生する。ぬめり防止と抗菌効果に優れ製品自体の保存安定性が優れる錠剤を提供する。
【解決手段】抗菌効果に優れたＯＹＫ菌含有錠剤に抗菌性安定化剤として天然抗菌剤を必須成分としてなることを特徴とする微生物含有錠剤を提供し課題を解決する。 （もっと読む）