本発明は、添加剤、乳化剤、分散剤および／またはケア有効成分としてのシリコーン部分が分枝状の有機変性シロキサンブロック共重合体、及びその使用、特に、化粧品製剤、皮膚用製剤または医薬製剤、及びケアおよび／または清浄用製品を製造するためのその使用、並びに製剤自体に関する。 （もっと読む）

【課題】泡立ちに優れ、滑らかな泡質とすべりの良いすすぎ時指通り性を有するとともに、頭皮に対してマイルドであり、頭皮のかゆみを抑制した水性毛髪洗浄剤を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）：（Ａ）特定の構造を有する硫酸塩型アニオン界面活性剤、（Ｂ）特定の構造を有するポリオキシエチレンアルキルエーテル型ノニオン界面活性剤、及び水を含有し、（Ｂ）／（（Ａ）＋（Ｂ））の質量割合が１／１００〜２５／１００である水性毛髪洗浄剤。 （もっと読む）

以下：
ａ）１種または２種以上の漂白活性化剤、
ｂ）１種または２種以上の金属含有漂白触媒、および
ｃ）少なくとも５重量％の1種または２種以上の有機酸、
を含有する、共顆粒を対象とする。
高い保管安定性を有する共顆粒が簡便に提供され、有利には、洗剤および洗浄剤、および特に食器の機械洗浄用洗剤の製造に好適である。 （もっと読む）

顆粒内核およびその顆粒内核を取り囲む外被層またはコーティング層を含有する共顆粒であって、顆粒内核が、ａ）１種または複数種の漂白活性化剤、ａ２）共顆粒中に含有される１種または複数種の漂白触媒の合計量の０〜２０重量％、およびｃ）１種または複数種の結合剤を含有し、外被層またはコーティング層が、ｄ）共顆粒中に含有される１種または複数種の漂白触媒の合計量の８０〜１００重量％およびｅ）１種または複数種のコーティング剤を含有することを特徴とする共顆粒が記載される。その共顆粒は、有利にも洗濯洗剤および洗浄剤、とりわけ食器の機械洗浄用洗剤の製造に適する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの汚染物質をクリーニングする方法を提供する。
【解決手段】物質から汚染物質をクリーニングするために、酸クリーナー、続いて、アルカリクリーナーを用いて半導体ウェハをクリーニングする方法が提供される。酸クリーナーは実質的に全ての金属汚染物質を除去し、一方で、アルカリクリーナーは実質的に全ての非金属汚染物質、例えば、有機物質および粒子状物質を除去する。 （もっと読む）

【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）成分：トリクロサン、イソプロピルメチルフェノール及びパラクロロメタキシレノールからなる群から選ばれる少なくとも１種の殺菌剤、（ｂ）成分：炭素数４〜１２の炭化水素基を有するグリセリルエーテル、並びに（ｃ）成分：下記一般式（１）
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−ＳＯ₃Ｍ （１）で示されるアニオン界面活性剤を０．５〜１５．０重量％含有する皮膚殺菌洗浄剤組成物であって、２５℃におけるｐＨが５．５以下である、皮膚殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】殺カリシウイルス効果に優れ、さらに取り扱い上の安全性も高い殺カリシウイルス剤組成物及び、その使用方法を提供する。
【解決手段】１，４−ビス（３，３’−（１−デシルピリジニウム）メチルオキシ）ブタンジブロマイドと、エチレンジアミン四酢酸塩を有効成分とした殺カリシウイルス剤、及び、１，４−ビス（３，３’−（１−デシルピリジニウム）メチルオキシ）ブタンジブロマイドをエチレンジアミン四酢酸塩存在下でカリシウイルスと接触させることを特徴とする殺カリシウイルス方法を用いる。 （もっと読む）

基材，例えば電子デバイス基材，例えば超小型電子ウェハまたはフラットパネルディスプレイからの有機物質の除去のために有用な組成物および方法を提供する。最小体積の組成物をコーティングとして無機基材に適用することによって、十分な熱を加え、そして直ちに水でリンスして完全な除去を実現する方法を提供する。これらの組成物および方法は、ポジ型およびネガ型の種類のフォトレジスト、更に電子デバイスからの熱硬化性ポリマーを除去および完全に溶解させるのに特に好適である。 （もっと読む）

【課題】すすぎ時に毛髪がなめらかであり、なおかつ、毛髪にぬめり感が残らず、すすぎが早いという効果に優れた洗浄料組成物の提供。
【解決手段】グルコースを主鎖とし、キシロース、ガラクトースを側鎖に持つ非イオン性多糖類であるキシログルカン多糖に含まれる水酸基の一部が第４級窒素含有基で置換されたカチオン変性タマリンドガムと、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルタウリン型アニオン界面活性剤とを含有することを特徴とする洗浄料組成物。さらにポリオキシエチレンアルキル硫酸塩型陰イオン界面活性剤を含有してもよい洗浄料組成物。 （もっと読む）

【課題】食品の味覚に与える影響がない範囲で食品内の浮遊細菌の制御、及びこの食品の製造、貯蔵、流通に関与するバイオフイルムの生成を阻害する技術に関する。

【解決手段】醸造酢に溶存するカルシウムイオンにビタミンＢ１誘導体チアミンアウリル硫酸塩、糖アルコールまたは乳化剤あるいは乳酸塩を配合した細菌制御剤は食品中の浮遊細菌の抑止に留まらず、食品の表面あるいは関与する機械、器具、容器、この環境下の固定基質へのバイオフイルムの付着、生成、増殖または発芽を制御し、このプロセスでのバイオフイルムと細菌の消長を計測する装置と方法を見出した。
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【課題】保存安定性を維持しつつ、優れた除菌効果または抗菌性効果を発現できる液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分とを含有することを特徴とする液体洗浄剤組成物。（Ａ）成分：水溶性亜鉛塩、水溶性銅塩、または水溶性銀塩。（Ｂ）成分：ポリエチレンイミン、または、長鎖アルキルアミン化合物および／もしくは該長鎖アルキルアミン化合物から生じた陰イオン（ただし、前記長鎖アルキルアミン化合物は、下記一般式（Ｉ）等からなる群より１種以上選択されるものである。）。（Ｃ）成分：界面活性剤。
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【課題】 銅配線にスクラッチを生じると配線の断線による導電不良を引き起こす。そこで銅配線にスクラッチを生じさせない（スクラッチ抑制効果がある）銅配線半導体用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 第４級アンモニウムヒドロキシド、アミン、有機酸を含有し、ｐＨがアルカリ性であって、銅がめっきされたシリコンウエハー（Ｃ）の銅表面の洗浄剤中での静止摩擦力であって、原子間力顕微鏡とカンチレバーを使用して測定した静止摩擦力が４００ｎＮである銅配線半導体用洗浄剤を用いて洗浄する。 （もっと読む）

上質なグリース洗浄と手への穏やかさとを提供するために、カチオン性ポリマーと、真珠光沢剤と、を含む、食器手洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

カチオン性ポリマーと保湿剤とを含む食器手洗い用液体洗剤組成物、カチオン性ポリマーと保湿剤とを含む食器手洗い用液体洗剤組成物による食器洗浄方法、並びに食器手洗い操作の状況下において、カチオン性ポリマーと保湿剤とを含む食器手洗い用液体洗剤組成物を用いることで、皮膚の水和及び／又は保湿を提供する方法。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面における有機物汚染やパーティクル汚染を、銅配線の腐食を引き起こすことなく除去することができ、基板表面を高清浄化しうる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】ポリカルボン酸およびジエチレントリアミン五酢酸を含有し、ＳｉＯＣを構成成分として含有する誘電率が３．０以下の絶縁膜上に銅拡散防止用バリア膜及び銅配線を備える半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

本発明は、ジカルボン酸ジエステルを含む剥離組成物に関する。この組成物は、塗料を剥離させるのに有用であり、特に有効である。 （もっと読む）

【課題】 化粧落ちが防止されて、化粧持ちの良好な化粧料を提供する。
【解決手段】 この化粧料は、化粧基剤に特定のポリウレタン粒子群を配合させ含有させたものである。この特定のポリウレタン粒子は、ポリウレタン粒子本体と、粒子本体表面を被覆している親水性シリカ微粉末群よりなる。ポリウレタン粒子本体は、ポリイソシアネート成分とポリテトラメチレングリコールを含むポリオール成分との反応により得られるイソシアネート末端ウレタンプレポリマーを、３官能以上の多官能アミンで三次元的に高分子化してなるものである。このポリウレタン粒子群は、親水性シリカ微粉末群と、上記のように三次元的に高分子化してなるポリウレタン球体群とを水中に分散させてなる混合水性分散液を、噴霧乾燥機で噴霧乾燥することにより得られる。 （もっと読む）

光電池において使用するための薄膜アモルファス、単結晶または多結晶シリコンウエハー基板であり、ｐｎまたはｎｐ接合および部分的なホスホシリケートまたはボロシリケートガラス層の少なくとも１つを該ウエハー基板の上面に有する該ウエハー基板を処理して、（ａ）該ウエハーのシート抵抗および（ｂ）前記ウエハーから作製された該光電池の出力密度レベルの少なくとも一方を増大させること。少なくとも１種の水酸化テトラアルキルアンモニウム、酢酸、少なくとも１種の非イオン性界面活性剤、少なくとも１種の金属キレート剤、アンモニアの無金属供給源、フッ化物イオンの無金属供給源および水を有する緩衝酸化物エッチング（ＢＯＥ）溶液を、酸化剤溶液および場合により水と混合した酸処理溶液である、処理溶液。 （もっと読む）

【課題】洗髪時におけるすばやい泡立ちの早さと泡質に優れ、すすぎ時における髪の感触で、指通り、きしみのなさ、滑らかさに優れ、泡切れが早く、すすいだ後も、髪の滑らかさに優れるにもかかわらず、髪のべたつきが認められない、毛髪洗浄料を提供すること。
【解決手段】下記(A)〜(C)に従う、毛髪洗浄料を提供することにより、上記の課題を解決し得ることを見出した：(A)N-アシル-N-メチルタウリン型アニオン界面活性剤を、洗浄料の0.1〜30質量%含有する、(B)シリコーンエマルジョンを、シリコーンの実質量として、洗浄料の0.01〜5質量%含有する、(C)カチオン化グアガム(C1)及びカチオン化ローカストビーンガム(C2)を含有し、C1の含有量は洗浄料の0.005質量%以上であり、かつ、C1及びC2の総量は洗浄料の0.01〜2質量％であり、当該両成分の洗浄料における含有比は、質量比でC2／C1=0.05〜10、の範囲である。 （もっと読む）