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Fターム[4H003EB07]の内容

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【課題】高濃度の界面活性剤を含有する濃縮タイプの組成において、被洗物への除菌性付与効果と外観安定性のいずれも優れた液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】非イオン界面活性剤(A)と、一般式(b1)で表される化合物(B)と、酵素(C)と、水(D)50質量%以下と、を含有することを特徴とする液体洗浄剤。式(b1)中、nは2〜6の整数である。Rは炭素数8〜18のアルキル基であり、Rは水素原子、炭素数8〜18のアルキル基、又は(CHNHである。mは2〜6の整数である。
[化1]
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【課題】長期間にわたって黄変しないトイレ排水管用尿石防止剤を提供すること。
【解決手段】固体酸を有効成分とした主剤層と前記主剤層の少なくとも一部を被覆する黄変防止層を有する打錠成形体からなるトイレ排水管用尿石防止剤。
黄変防止層は、安息香酸、フマル酸及びステアリン酸カルシウムからなる群から選ばれた一種又は二種以上の化合物を含有し、その含有量の合計が黄変防止層中において70質量%以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】機器や配管等の金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを良好に洗浄する難溶解性付着物の洗浄技術を提供する。
【解決手段】難溶解性付着物の洗浄剤は少なくともギ酸を成分に有し、金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを洗浄する。遠心薄膜乾燥機20においてこの洗浄剤を供給する供給タンク31が接続されている。例えば、乾燥処理の対象となる廃液が、ホウ酸カルシウムを主成分とする懸濁液である場合、洗浄剤のギ酸濃度が0.5〜10wt%、好ましくは1〜5wt%の範囲に調整される。 (もっと読む)


【課題】簡易な装置や操作により、白色度に優れ、粗大粒子が少ないパール光沢組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】(A)脂肪酸グリコールエステルを10〜50質量%、(B)脂肪酸モノアルキロールアミド、(C)アルキル硫酸エステル塩、及び(E)水、を、(A)成分の融点以上の温度で攪拌下に混合して、体積平均粒径1〜9μmの乳化粒子を含む乳化液を製造する工程(工程1)、及び得られた該乳化液を冷却して、(A)成分を含むパール光沢形成粒子を結晶化させる工程(工程2)、を含む、パール光沢組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】アミノ変性シリコーンを含ませることにより柔軟効果を高めながらも、液体洗剤が黄変するのを防止できる衣料用液体洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A)アミノ変性シリコーン化合物:0.01〜5質量%、(B)尿素、その複塩又は誘導体:0.5〜30質量%を含有し、(A)/(B)=0.01/12〜5/1(質量比)である衣料用液体洗剤組成物。 (もっと読む)


【課題】蛋白質汚れに対して良好な洗浄力を示し、アルマイトに対する防食性に優れ、且つ保存安定性に優れたアルマイト用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルカノールアミン、(B)脂肪族カルボン酸及び/又はその塩、並びに、(C)ポリカルボン酸及び/又はその塩を、それぞれ特定範囲の質量%で含有するアルマイト用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、陽イオン界面活性剤と、解離により陽イオン界面活性剤に対して対イオンとなる陰イオンを生成可能な、イオン性界面活性剤とは異なる塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陽イオン界面活性剤は、例えば、脂肪族アミン塩、脂肪族四級アンモニウム塩、芳香族四級アンモニウム塩および複素環四級アンモニウム塩のうちの少なくとも一つである。また、ここで用いられる塩は、例えば、陰イオンとして塩素イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸水素イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、ギ酸イオンおよび酢酸イオンのうちの一つを生成可能な塩の群から選択された少なくとも一つのものである。 (もっと読む)


【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、炭素数が10〜20の高級脂肪酸塩を除く陰イオン界面活性剤と、イオン性界面活性剤とは異なるアルカリ金属塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陰イオン界面活性剤は、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩およびリン酸エステル塩からなる群から選択された少なくとも一つである。また、ここで用いられるアルカリ金属塩は、例えば、塩化物塩、炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、ギ酸塩および酢酸塩からなる群から選ばれた少なくとも一つである。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス用基板、特に表面にCu配線を有する半導体デバイス用基板におけるCMP工程後の洗浄工程に用いられ、Cu配線に対する十分な防食性を有し、残渣の発生及び基板表面への残渣の付着を抑制することができる洗浄液を提供する。
【解決手段】以下の成分(A)〜(E)を含有してなり、かつpHが10以上である半導体デバイス用基板洗浄液。
(A)一般式(1)で表される有機第4級アンモニウム水酸化物
(R14+OH- (1)
(但し、R1は水酸基、アルコキシ基、又はハロゲンにて置換されていてもよいアルキル基を示し、4個のR1は全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。)
(B)界面活性剤
(C)キレート剤
(D)硫黄原子を有するアミノ酸
(E)水 (もっと読む)


【課題】 食品又は食品添加物を主成分として含有する除菌洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】 下記(a)、(b)及び(c)を含有し、組成物全量に対するa成分とb成分の含有量の和[a+b]が0.1〜30質量%であり、a成分とb成分の質量比[a/b]が1/2〜4/1であり、組成物全量に対するc成分の含有量が60〜99.5質量%である、除菌洗浄剤組成物。
(a)ポリオキシエチレンモノラウリン酸ソルビタン
(b)アシル基の炭素数が8〜12である脂肪酸グリセライドであって、b成分全量に対するモノグリセライドの含有量が85質量%以上であり、かつ、モノグリセライド全量に対する1-モノグリセライドの質量分率が0.9〜1.0である脂肪酸グリセライド
(c)水及び/又はエタノール (もっと読む)


【課題】本発明は、取扱いが容易で安全性が高い過酢酸製剤を使用して、被洗物に付着した耐熱性菌を、高い信頼性で洗濯殺菌できるのみならず、洗濯中の作業環境が良好で、かつ、廃液処理が容易で環境に好ましいばかりか、本洗後の濯ぎ工程で過酢酸製剤を使用すると、乾燥後に高いサワー効果を付与し得る洗濯方法を提供する。
【解決手段】アルカリ洗剤及び過酢酸製剤を使用する被洗物の洗濯方法において、過酢酸1.0〜6.0質量%、過酸化水素1.0〜6.0質量%、酢酸20〜40質量%、及び、水の合計100質量%から成る過酢酸製剤を使用し、かつ、該過酢酸製剤を含む水であって、該水中の過酢酸濃度が10〜500質量ppmである水により、被洗物を殺菌することを特徴とする洗濯方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安全性が高く、かつ、貯蔵安定性の優れた過酢酸製剤を使用して、被洗物に付着した耐熱性菌を、高い信頼性で洗濯殺菌できるのみならず、洗濯中の作業環境を損なわず、かつ、廃液処理が容易な洗濯方法を提供する。
【解決手段】アルカリ洗剤と過酢酸製剤とを使用する被洗物の洗濯方法において、被洗物を予洗し、該予洗に使用した水を抜き取り、次いで、アルカリ洗剤と過酢酸製剤とを含む水であって、該水中の過酢酸濃度が10〜500質量ppmである水により、上記の予洗した被洗物を、更に本洗することを特徴とする洗濯方法。 (もっと読む)


【課題】人体や環境への影響が小さくしつつも、有機酸を高濃度に溶解でき、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準(100重量%)として、有機酸(A)を0.5重量%以上25重量%以下含有し、有機酸(A)に対する中和率が100%以上150%以下となるようにアミンを含有し、さらに、アミンに対する中和率が80%以上となるように有機酸(B)及び/又は無機酸を含有し、有機酸(A)が、蓚酸、スルファミン酸、グリシン、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸及びグリオキシル酸のうちの少なくとも1種であり、有機酸(B)が、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、ブチル酸及びメタンスルホン酸のうちの少なくとも1種であり、無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸及び燐酸のうちの少なくとも1種である、さび除去剤水溶液とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、界面活性剤を配合した過酢酸系の殺菌洗浄剤において、良好な殺菌力と洗浄力と共に、容器の材質である樹脂に長期間接触しても当該樹脂を劣化させず、更に刺激臭の少ない過酢酸系の殺菌洗浄剤組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明は、過酢酸1質量部に対して、過酸化水素を1.5〜4質量部、酢酸を10〜20質量部、下記の一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤を0.1〜2質量部及び水を含有する組成物であって、組成物全量に対する過酢酸の濃度が2.5質量%以下であることを特徴とする殺菌洗浄剤組成物である:
−O−(−R−O−)−H (1)
(式中、Rは、炭素数8〜18の炭化水素基を表し、Rは、炭素数2又は3のアルキレン基を表し、nは、6〜20の数を表す) (もっと読む)


【課題】低温安定性が良好であり、低温条件下でも泡吐出容器から充分な泡量で吐出可能である液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】内溶液を泡状に吐出する泡吐出容器に収容されて用いられる液体洗浄剤において、一般式(a1)で表される化合物(a)と、芳香族スルホン酸、芳香族スルホン酸塩、芳香族カルボン酸、芳香族カルボン酸塩、及び炭素数2〜4のアルコールからなる群より選択される少なくとも一種(b)とを含有する液体洗浄剤。式(a1)中、xとyはそれぞれ1〜7の整数であり、x+y=8である。POはオキシプロピレン基、EOはオキシエチレン基を表す。pはPOの平均繰返し数、qはEOの平均繰返し数を表し、p+qは1〜10である。Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表す。
[化1]
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【課題】低温安定性が良好であると共に、泡立ちが速い液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a1)で表される化合物(a)と、式(b1)で表される化合物(b)と、芳香族スルホン酸(塩)、芳香族カルボン酸(塩)及び炭素数2〜4のアルコールから選択される少なくとも一種とを含有し、(a)成分/(b)成分で表される質量比が6以下である液体洗浄剤。


(RはC8〜24の直鎖アルキル又はアルケニル基。nは1〜5。xとyはそれぞれ1〜7の整数で、x+y=8である。p+qは1〜10である。EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基を表す。M及びMはそれぞれアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表す。 (もっと読む)


【課題】硬質表面に対して、高い洗浄力を発揮する硬質表面用の液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記(A)〜(D)成分を含有し、pH3以下であることよりなる。(A)成分:有機酸及び無機酸から選択される1種以上の酸。(B)成分:アニオン界面活性剤。(C)成分:炭素数6〜10のアルコールにアルキレンオキシドを平均付加モル数4〜20で付加したノニオン界面活性剤。(D)成分:増粘多糖類0.2〜0.8質量%。(B)成分/(C)成分で表される質量比が1.5〜10であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】使用時における冷水への希釈溶解性に優れ、かつ防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
(A)特定の非イオン性界面活性剤30〜70質量%、(B)過酸化水素、(C)ラジカル捕捉剤0.01〜3質量%、(D)特定の非イオン性化合物、及び(E)水を含有し、(A)/(B)質量比が100/20〜100/1、(A)/(D)成分が100/1〜100/30、JIS K3362:2008記載の25℃で測定する組成物のpHが5〜8である、液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】半導体製造における大型のメタル等の洗浄において、プラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去する高い洗浄力を発揮し、部材の剥離や変色を抑制し、さらには必要によりメタル材料の表面荒れをも抑制しうる半導体基板用洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄組成物により、エッチング工程及び/又は前記アッシング工程において半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣を洗浄除去する洗浄工程を含む半導体素子の製造方法であって、該洗浄組成物は、水と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、有機溶媒とを組み合わせて含有し、pHが1.5〜5.0に調整されたことを特徴とする半導体素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】次亜塩素酸塩(NaOCl)酸化性水溶液をペースト化して、固着部,斜面,コーナー部などのカビや粘結性汚染物を漂白酸化するにおいて、安定性や耐久性はあるが、二次汚染に繋がる組成物とするのに、増粘手段に特別な増粘物を要することなく、洗浄力も兼備した、しかも1年以上スタミナの落ちない組成体を提案する上で本発明に到達した、
【解決手段】その具体的な組成は、生分解性の優れたアニオンのアルキルスルホン酸ソーダとヤシ脂肪酸からの両性イオンである酢酸ベタインを併用し、これに特定のセピオライト鉱物を含ませることにより、堅固な組成体を形成する。そればかりか、固着性が優れ、浸透力がある、臭気の少ない作業性の優れた商品を成し、今まで敬遠されていた次亜塩素酸塩の用途が広がり、エコノミー,安全性,簡便性も加わり、使用者において正に好都合な性質を発揮する。 (もっと読む)


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