【課題】
本発明の目的は製剤の安定性、洗浄性の向上のみならず、泡のきめ細かさ、泡立ちのよさ、泡の持続性、弾力性等の改良された製剤を得ることにある。
【解決手段】
以下の成分を含むｐＨ５．５〜７．０である液体洗浄剤が、本発明の目的を達成することがわかった。
Ａ） Ｎ−長鎖アシルアミノ酸塩より選ばれる１種以上
Ｂ） ポリエチレングリコールエーテル系増粘剤
Ｃ） 糖およびその誘導体
Ｄ） カチオン性高分子、高重合ポリエチレングリコールより選ばれる１種以上
Ｅ） 水 （もっと読む）

【課題】メントール等の結晶性清涼剤の低温時における安定性に優れ、かつ高温時の保存においても、必要に応じて添加した高重合シリコーンなどの分離安定性に優れ、パール光沢が美麗な洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】次の成分(a)〜(d)を含有し、55mL/2g以上の膨潤力を有する粘土鉱物及び55mL/2ｇ未満の膨潤力を有する粘土鉱物を含まない洗浄剤組成物。
(a) ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸塩、脂肪酸アルカノールアミド及び脂肪酸アミドプロピルベタインからなる群から選ばれる少なくとも１種の界面活性剤 ２〜40質量％
(b) エタノール 0.1〜３質量％
(c) メントール、メントン、カンファー、ボルネオール、シネオールメントン、サリチル酸メチル、マロン酸メンチル、グリコシル−モノメンチル-O-アセテート、3-l-メントキシプロパン-1,2-ジオール、l-メンチル-3-ヒドロキシブチレート、スペアミント油、ペパーミント油、ハッカ油及びユーカリプタス油からなる群より選ばれる少なくとも１種の清涼剤 0.05〜２質量％
(d) エチレングリコールモノ脂肪酸エステル、エチレングリコールジ脂肪酸エステル、エチレングリコールモノアルキルエーテル及びエチレングリコールジアルキルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種のパール化剤 0.1〜10質量％ （もっと読む）

【課題】研磨材や研磨屑等の無機粒子に対する洗浄性が向上したガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）〜（４）を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。（１）ｐＨが１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ａに浸漬しながら、洗浄工程（３）に搬送する工程。（３）工程（２）で搬送された基板を、ｐＨ８．０〜１３．０のアルカリ性洗浄剤組成物Ｂを用いて浸漬洗浄する工程。（４）工程（３）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ｃを用いてスクラブ洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】低温安定性が良好であると共に、泡立ちが速い液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ１）で表される化合物（ａ）と、式（ｂ１）で表される化合物（ｂ）と、芳香族スルホン酸（塩）、芳香族カルボン酸（塩）及び炭素数２〜４のアルコールから選択される少なくとも一種とを含有し、（ａ）成分／（ｂ）成分で表される質量比が６以下である液体洗浄剤。


（Ｒ^１はＣ８〜２４の直鎖アルキル又はアルケニル基。ｎは１〜５。ｘとｙはそれぞれ１〜７の整数で、ｘ＋ｙ＝８である。ｐ＋ｑは１〜１０である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表す。Ｍ_１及びＭ_２はそれぞれアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表す。 （もっと読む）

【課題】傷んだ毛髪でも、泡立ち、泡質が良く、泡立て時に手や指が動かし易く、洗髪時の泡切れに優れ、すすぎ時の残留感が抑制される水性毛髪洗浄剤を提供する。
【解決手段】成分（Ａ）：アニオン界面活性剤、成分（Ｂ）：特定の構成を有するカチオン化ヒドロキシプロピルセルロース、成分（Ｃ）：炭素数４〜１２のアルキル基または炭素数４〜１２のアルケニル基を有するモノアルキルグリセリルエーテルまたはモノアルケニルグリセリルエーテルおよび水を含有する、水性毛髪洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】使用時の増泡性に優れ、すすぎ時のぬるつきが早く消え、ストップフィーリング性が強く、更に乾燥後の肌の感触にも優れる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤１〜２０質量％、（Ｂ）カチオン基含有ポリマー０．０２〜５質量％、（Ｃ）下記式で示されるカチオン化ヒドロキシプロピルセルロース０．０２〜１０質量％、


（Ｄ）水、を含有する洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】使用時における冷水への希釈溶解性に優れ、かつ防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）過酸化水素、（Ｃ）ラジカル捕捉剤０．０１〜３質量％、（Ｄ）特定の非イオン性化合物、及び（Ｅ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／２０〜１００／１、（Ａ）／（Ｄ）成分が１００／１〜１００／３０、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが５〜８である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】使用時における冷水への希釈溶解性に優れ、かつ防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）過酸化水素、（Ｃ）ヒドロキシカルボン酸及び／又はその塩、（Ｄ）特定の非イオン性化合物、及び（Ｅ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／２０〜１００／１、（Ａ）／（Ｃ）質量比が１０００／１〜１０００／３０、（Ａ）／（Ｄ）質量比が１００／１〜１００／３０、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが５〜８である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】使用環境によらずに高い安全性で適用することができると共に、優れた保存安定性を有し、良好な泡沫を容易に形成することのできる泡沫形成用エアゾール製品を提供すること。
【解決手段】泡沫形成用エアゾール製品は、噴射剤用充填空間と、２つの原液用充填空間とを有し、２つの原液用充填空間に充填された内容物を同時に吐出させるための吐出機構が設けられてなる二重構造容器を備え、噴射剤用充填空間には、圧縮ガスよりなる噴射剤が充填され、第１の原液用充填空間内には、有機酸０．５〜１５．０質量％を含有する第１の原液組成物が充填され、第２の原液用充填空間内には、炭酸水素塩物質０．５〜１５．０質量％を含有する第２の原液組成物が充填されており、第１の原液用充填空間から吐出される第１の原液組成物と、第２の原液用充填空間から吐出される第２の原液組成物とが混合されることにより泡沫が形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬質表面に対して、高い洗浄力を発揮する硬質表面用の液体洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｄ）成分を含有し、ｐＨ３以下であることよりなる。（Ａ）成分：有機酸及び無機酸から選択される１種以上の酸。（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤。（Ｃ）成分：炭素数６〜１０のアルコールにアルキレンオキシドを平均付加モル数４〜２０で付加したノニオン界面活性剤。（Ｄ）成分：増粘多糖類０．２〜０．８質量％。（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が１．５〜１０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高活性の酵素を含有し、高濃度の界面活性剤の存在下でも該酵素の安定化が図られ、高い洗浄力を有する液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】非イオン界面活性剤（Ａ）を４０質量％以上と、バチルス属由来で、かつ、１０℃での酵素活性値が３５℃での酵素活性値の６％以上であるプロテアーゼ（Ｂ）と、一般式（ｃ１）で表される水混和性有機溶剤（Ｃ）と、キレート剤（Ｄ）とを含有する液体洗浄剤。但し、（Ｂ）成分の酵素活性値は、ミルクカゼインを基質として測定される値である。式（ｃ１）中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基又はベンジル基である。ｍはＰＯの平均繰返し数、ｎはＥＯの平均繰返し数を表し、ｍは０〜３の数、ｎは０〜３の数であり、１≦ｍ＋ｎ≦６である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、ＥＯとＰＯとは混在して配列してもよい。
［化１］
（もっと読む）

【課題】半導体製造における大型のメタル等の洗浄において、プラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去する高い洗浄力を発揮し、部材の剥離や変色を抑制し、さらには必要によりメタル材料の表面荒れをも抑制しうる半導体基板用洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄組成物により、エッチング工程及び／又は前記アッシング工程において半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣を洗浄除去する洗浄工程を含む半導体素子の製造方法であって、該洗浄組成物は、水と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、有機溶媒とを組み合わせて含有し、ｐＨが１．５〜５．０に調整されたことを特徴とする半導体素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤と、（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤と、（Ｃ）成分：ノニオン界面活性剤とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．０５〜１５、（Ａ）成分／［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］で表される質量比が０．３５〜０．９５であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】次亜塩素酸塩（ＮａＯＣｌ）酸化性水溶液をペースト化して、固着部，斜面，コーナー部などのカビや粘結性汚染物を漂白酸化するにおいて、安定性や耐久性はあるが、二次汚染に繋がる組成物とするのに、増粘手段に特別な増粘物を要することなく、洗浄力も兼備した、しかも１年以上スタミナの落ちない組成体を提案する上で本発明に到達した、
【解決手段】その具体的な組成は、生分解性の優れたアニオンのアルキルスルホン酸ソーダとヤシ脂肪酸からの両性イオンである酢酸ベタインを併用し、これに特定のセピオライト鉱物を含ませることにより、堅固な組成体を形成する。そればかりか、固着性が優れ、浸透力がある、臭気の少ない作業性の優れた商品を成し、今まで敬遠されていた次亜塩素酸塩の用途が広がり、エコノミー，安全性，簡便性も加わり、使用者において正に好都合な性質を発揮する。 （もっと読む）

【課題】色素を含有する濃縮タイプの液体洗浄剤において、高い洗浄力を有すると共に、被洗物への色素染着が抑制された液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】界面活性剤（Ａ）を４０質量％以上と、色素（Ｂ）１５０ｐｐｍ（質量基準）以下と、尿素又はその誘導体（Ｃ）０．５〜１２質量％とを含有する液体洗浄剤。該液体洗浄剤においては、一般式（ｄ１）で表される有機溶剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。式（ｄ１）中、Ｒ^７は水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍはＰＯの平均繰返し数、ｎはＥＯの平均繰返し数を表し、ｍは０〜２の数、ｎは０〜３の数であり、１≦ｍ＋ｎ≦５である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、ＥＯとＰＯとは混在して配列してもよい。
［化１］
（もっと読む）

【課題】より短時間の洗浄操作でも油汚れ等の汚れの再付着防止性に優れ、自動食器洗浄機を用いた洗浄終了後の臭いの問題を解決する自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数が８〜２２である脂肪酸と多価アルコールのエステルを０．０１〜１０質量％、（ｂ）特定の高分子化合物を含有し、０．２質量％水溶液でのｐＨが９以上である自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】汚れの再付着防止性に優れ、自動食器洗浄機を用いた洗浄終了後の臭いの問題を解決し得る自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）脂肪酸の炭素数が１４〜２２であるソルビタン脂肪酸エステルを０．０５〜１０質量％、（ｂ）特定のポリアルキレングリコール及び特定のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンエーテル型化合物から選ばれる化合物を含有し、（ａ）／（ｂ）の質量比が０．１０〜２．０である自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】より短時間の洗浄操作でも油汚れ等の汚れの再付着防止性に優れ、自動食器洗浄機を用いた洗浄終了後の臭いの問題を解決する自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数が８〜２２である脂肪酸と多価アルコールのエステルを０．０１〜１０質量％、（ｂ）漂白活性化剤を含有し、０．２質量％水溶液の２５℃でのｐＨが９以上である自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】汚れの再付着防止性に優れ、自動食器洗浄機を用いた洗浄終了後の臭いの問題を解決し得る自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数が８〜２２の脂肪酸と多価アルコールのエステル、（ｂ）炭素数３〜６の不飽和カルボン酸又はその無水物と炭素数２〜１２のオレフィンとの共重合体、（ｃ）特定のアクリル酸−マレイン酸共重合体又はその塩を含有し、（ａ）／［（ｂ）＋（ｃ）］の質量比が０．０８０〜１．０であり、且つ（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）の合計含有量が０．８〜１１質量％である自動食器洗浄機用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】クレンジングバー系の香料性能デリバリー、及び、より詳細には香料性能（香料性能増進率即ち“ＰＥＦ”として測定）を増進させる方法であり、香料の効果（例えば、持続性）を比較バーに比べて増進させた香料含有バー組成物を提供する。
【解決手段】香料含有バーに約３５重量％未満の可溶性界面活性剤を含有させる。更に、例えば、不溶性有効成分に相対的な可溶性有効成分のレベルをコントロールすることによって、及び／または、香料のレベルを増加することによって、香料の付着／持続を増進させる方法を含む。 （もっと読む）