【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）成分：トリクロサン及び／又はパラクロロメタキシレノールを０．０５〜２質量％；（ｂ）成分：下記一般式（１）：Ｒ¹−ＯＨ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数６〜１０の炭化水素基である。）で示されるアルコール、及び；（ｃ）成分：アニオン性界面活性剤を２質量％を超えて３５質量％以下含有する皮膚殺菌洗浄剤組成物であって、（ｃ）成分と（ｂ）成分との質量比が（ｃ）／（ｂ）＝０．９／１〜１５／１であり、かつ該組成物の２５℃のｐＨが５．５未満である皮膚殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】経鼻チューブや胃瘻チューブなどの経腸栄養チューブの洗浄に適した洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】 酢酸を含有する、ゼリー状洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、基板への残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるフェノール系化合物（Ａ）またはこの塩を０．０１〜１０重量％と水を必須成分として含有し、１重量％水溶液の２５℃における表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満である電子材料用洗浄剤。


［式中、Ｘ^１〜Ｘ^５はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、高温熱水や界面活性剤を用いることなく、中温の６０℃において、化粧品添加物と食品添加物および天然酵素の混成溶液を応用することにより、金属の錆やＦＲＰ、プラスチック等の表面に付着した金属錆のキレート化速度と錆び取り速度を速くする錆び取り剤組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、リンゴ酸、クエン酸ソーダ、柿タンニン、カリミョウバン、キレスト、ラビゾールおよびミネラルイオン含有天然酵素液からなる混成溶液を特徴とする錆び取り剤組成物を得ることができた。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属の水酸化物を実質的に使用せずに、高いスケール付着抑制効果と熱変性油に対する高い洗浄性を有する、硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリアクリル酸又はその塩及びアクリル酸とマレイン酸のコポリマー又はその塩から選ばれるポリマー、（ｂ）メタ珪酸塩及びオルソ珪酸塩から選ばれる珪酸塩、並びに（ｃ）炭酸塩を、特定条件で含有する、硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、悪影響を及ぼす界面活性剤などの有機物の基板表面の残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、または悪影響を及ぼす界面活性剤を含有せずに非常に高い洗浄性を発揮する電子材料用洗浄剤および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 還元性を有するレダクトン類（Ａ）０．０１〜１０重量％と水を含有し、１重量％に希釈したときの２５℃での表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満であることを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対するリンス性が非常に高い電子材料用リンス液を提供することを目的とする。
【解決手段】 還元剤および水を必須成分として含有するリンス液を用いる。 （もっと読む）

【課題】酸性洗浄剤でありながら、油性汚れに対する洗浄効果に優れ、希釈使用された場合にも抗菌効果が高く、しかもプラスチック樹脂製品に対するケミカルクラックの問題が少ない酸性抗菌洗浄剤組成物の提供。
【課題の解決手段】（Ａ）有機酸及び／又はその塩、（Ｂ）ベタイン型両性界面活性剤、（Ｃ）カチオン性抗菌剤を必須成分として含有し、且つｐＨが４．０〜５．５であることを特徴とする酸性抗菌洗浄剤組成物。
（Ｂ）ベタイン型両性界面活性剤が、アルキルカルボベタイン、アルキルアミドカルボベタイン、アルキルスルホベタイン、アルキルヒドロキシスルホベタイン、アルキルアミドスルホベタイン、アルキルアミドヒドロキシスルホベタインから選ばれる１種以上を含有することが特に好ましい。 （もっと読む）

【課題】毛髪洗浄分野では、洗髪時の泡立ち、すすぎ時の泡切れ、及び乾燥後の髪の広がりのなさのすべてを顕著に向上させることができ、皮膚洗浄分野では、洗浄時の泡立ち、すすぎ時の泡切れ、及び乾燥後の皮膚のかさつきのなさのすべてを顕著に向上させることができる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤５質量％〜３０質量％、（Ｂ）カチオン性界面活性剤０．１質量％〜１０質量％、（Ｃ）２５℃での動粘度が４００万ｍｍ^２／ｓ以上のジメチルポリシロキサン０．０１質量％〜２質量％、及び（Ｄ）マルトオリゴ糖を少なくとも含有する洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、低温での安定性が良好で、油共存下でも洗い始めから泡量が多く、その持続性も良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】式（ａ１）及び、式（ｂ１）で表される化合物と、両性及び／又は半極性界面活性剤（ｃ）とを含有する液体洗浄剤組成物。
（もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン性界面活性剤（ｂ）、脂肪酸アミド（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）の含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比｛（ｂ）／（ｄ）｝が、０．１０〜０．９０である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄力を低下させることなく、従来以上に濯ぎ性に優れた、安定性の良い濃縮タイプの衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤、（Ｂ）陰イオン性界面活性剤、（Ｃ）水混和性有機溶剤５〜４０質量％、及び（Ｄ）水を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量が３５〜５５質量％であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）成分／（Ｂ）成分〕が７０／３０〜９０／１０であり、ＪＩＳＫ3362：1998記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが６.５〜１０．０である衣料用液体洗浄剤組成物。Ｒ¹−Ｙ−（ＥＯ）_n−Ｒ²（Ｉ）（式中、Ｒ¹は炭化水素基であり、−Ｙ−は−Ｏ−又は−ＣＯＯ−であり、Ｒ¹−Ｙ−は総炭素数８〜２２である。ＥＯはエチレンオキシ基を表し、ｎは平均付加モル数を表し、ｎは１４〜３０の数である。Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】洗浄性、防曇性、防汚性、帯電防止性、吸湿性などの多機能性を有する防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物、及び防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物が含浸または塗布された基材をも提供する。
【解決手段】防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物は、下記式（１）


で表されるグアニジン骨格を含む非環式グアニジン化合物と、有機カルボン酸、その酸無水物、金属塩、エスエルの中から選ばれる少なくとも１種のカルボキシ化合物と、親水性多孔質無機微粒子とを、水性液中に含む。 （もっと読む）

【課題】経時安定性に優れた液状及びゲル状洗浄剤組成物を提供する。
【解決方法】液状及びゲル状洗浄剤組成物は、（Ａ）式（Ｉ）で示されるポリオキシアルキレンポリオール脂肪酸エステルと、（Ｂ）アルキル硫酸エステル塩及びポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩と、（Ｃ）アミノ酸系を含む上記（Ｂ）を除いたアニオン界面活性剤と、（Ｄ）両性界面活性剤と、（Ｅ）バッファ剤とを含有する。


（式中、Ｐはヒドロキシル基を除いたポリオール残基で、ＡＯは炭素数３及び／又は４のオキシアルキレン基、ＥＯはオキシエチレン基、Ｒは炭素数８〜３６の脂肪酸残基あるいは水素原子でエステル化率は５０〜１００％である。ｍは炭素数３及び／又は４のオキシアルキレン基の平均付加モル数でｍ×ａ＝０〜１０、ｎはオキシエチレン基の平均付加モル数でｎ×ａ＝１００〜２５０、ａは４〜４２の範囲でポリオールの価数を示す。） （もっと読む）

【課題】基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。
【解決手段】
半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分（Ａ）〜（Ｄ）を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。
（Ａ）有機酸
（Ｂ）スルホン酸型アニオン性界面活性剤
（Ｃ）ポリビニルピロリドン及びポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシドブロック共重合体から選ばれる少なくとも１種の高分子凝集剤
（Ｄ）水 （もっと読む）

【課題】特定の溶出ホッパーを備えた自動洗浄機で用いることで、優れた洗浄力と溶解性を示す、自動洗浄機用の粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】粉末洗浄剤組成物を収容する特定の溶出ホッパーを備えた自動洗浄機用の粉末洗浄剤組成物であって、該組成物中に含まれるナトリウムイオンのモル濃度に対するカリウムイオンのモル濃度の比が、０．１６〜０．４である、自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】うどん、そば、パスタ等に由来する有機物汚れを剥離させるだけでなく溶解させることができ、より短時間で洗浄を行うことができ、しかもスケール汚れの付着を防止することができる茹で麺装置用洗浄剤及びこれを用いた茹で麺装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】製麺ラインで用いられる茹で麺装置を洗浄するための茹で麺装置用洗浄剤であって、アルカリ剤及びキレート剤を含む第一剤と、過酸化物を含む第二剤とからなることを特徴とする茹で麺装置用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】タンパク質汚れ洗浄力に優れると共に、保管上の課題や取り扱い上の危険性がない業務用自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A) 無水換算で10〜18質量％のメタ珪酸ナトリウム、
(B) 10〜35質量％のマレイン酸/アクリル酸共重合体のナトリウム塩、
(C) 無水換算で5〜35質量％のクエン酸ナトリウム塩及び/又はクエン酸カリウム塩、及び(D) 25〜60質量％の塩化カリウム、
を含有し、且つ、(B)と(C)成分の総和が25〜50質量％である業務用自動食器洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）