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Fターム[4H003EB08]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 有機化合物 (14,201) | 有機化合物(一般) (14,201) | 酸素含有化合物 (4,332) | 酸及び塩(遊離脂肪酸) (1,995) | オキシカルボン酸及び塩(クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、グルコン酸) (1,324)

Fターム[4H003EB08]に分類される特許

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【課題】尿石等による汚れに対して有効に作用する酸性の洗浄剤を所望の位置に向けて噴射可能なエアゾール洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】エアゾール洗浄剤10は、ヒドロキシカルボン酸及びその塩を含有しており酸性の洗浄剤30と、金属製のエアゾール容器20と、噴射剤40とを備えており、エアゾール容器20の内面が、洗浄剤30に対する耐食性を備えた保護膜26により被覆されている。洗浄剤30及び噴射剤40は、エアゾール容器20内に充填されており、噴射ボタン24aを押圧することにより噴射口24b及び噴射管24cを介して噴射される。 (もっと読む)


【課題】 優れた洗浄力を持ちながらも皮膚に対して低刺激であり、すすぎ性に優れ、かつ、低温での保存安定性にも優れる台所用液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】 (a)アルギニン誘導体を1〜10重量%、(b)エタノール、1−プロパノール、2−プロパノールから選ばれる少なくとも1種の低級アルコールを1〜10重量%、(c)ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩を5〜40重量%、(d)HLBが10以上の非イオン性界面活性剤を3〜20重量%、(e)アルキルアミンオキシドを1〜10重量%含有し、(a)成分の量と(c)成分と(d)成分と(e)成分の合計量の重量比(a)/{(c)+(d)+(e)}が1/50〜1/3、(c)成分と(d)成分と(e)成分の合計量が30〜50重量%であることを特徴とする台所用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】(成分a)水、(成分b)糖、(成分c)ヒドロキシルアミン及び/又はその塩、(成分d)第4級アンモニウム化合物、並びに、(成分e)有機酸、を含み、pHが6〜9であることを特徴とする半導体基板洗浄用の洗浄組成物。前記洗浄組成物を用いた洗浄方法、及び、半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】配合安定性に優れ、且つ複合汚れに対しても高い洗浄力を有する自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)グルタミン酸2酢酸又はその塩、(b)アクリル酸/マレイン酸のモル比が0.6〜9、重量平均分子量が1,000〜100,000のアクリル酸−マレイン酸コポリマー又はその塩、(c)非イオン界面活性剤、並びに水を含有し、(a)及び(b)の合計含有量が15〜30質量%であり、(c)の含有量が0.01〜3質量%であり、(b)/(a)の質量比が0.3〜3であり、25℃におけるpHが6〜8である、自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】キレート剤を多く含有し、貯蔵中に分離が生じず、且つ茶渋汚れに対しても高い洗浄力を有する自動食器洗浄機用の液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)キレート剤〔但し(c)及び(d)を除く〕15〜30質量%、(b)非イオン界面活性剤、(c)アクリル酸と(メタ)アクリル酸アルキルエステルのコポリマー又はその塩、(d)架橋ポリアクリル酸又はその塩、並びに水を含有し、(c)及び(d)の合計含有量が0.7〜3.5質量%であり、(c)/(d)の質量比が0.01〜1である、自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる、低温保存時での安定性に優れた皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(a)成分:トリクロサン、イソプロピルメチルフェノール及びパラクロロメタキシレノールからなる群から選ばれる少なくとも1種の殺菌剤を0.05〜2質量%、(b)成分:炭素数4〜12の炭化水素基を有するグリセリルエーテル、並びに(c)成分:特定の構造を有するアニオン界面活性剤を0.5〜35質量%含有し、さらに、(e)成分:多価アルコール(但し(b)成分を除く)を0.05〜23質量%含有する皮膚殺菌洗浄剤組成物であって、25℃におけるpHが5.5以下である、皮膚殺菌洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸(HCl)水溶液に、(A)平均分子量が150〜1500の低分子ポリアミンと、(B)低分子カルボン酸(またはその塩)を含み、更に(C)アセチレンアルコール、(D)ヘキサメチレンテトラミン、(E)ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 (もっと読む)


【課題】長期に連続して使いつづけても再汚染を引き起こさず、高い防汚効果を発揮しつづけることができる水洗トイレ用固形清浄剤組成物を提供する。
【解決手段】徐溶化剤および下記式(1)


で表されるポリオキシエチレン−ポリエチレンテレフタレートのブロックポリマーを含有する水洗トイレ用固形洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】水30Lに対して洗濯洗剤を1〜9gで、加えて省エネ(節電・節水)、物流の低減、原材料の縮減、水質汚染の減少などが図られ、人や衣料への負担を少なくし、洗剤の「洗う・すすぐ・仕上げる」の3つの基本が合理的に達成できる粉末洗濯用洗剤を提供。
【解決手段】第1成分として、洗剤主成分の陰・非イオンの水性界面活性剤を60w%以上、第2成分としてこの力を最も忠実にさせるためのポリシリケート(メタ硅曹など)を用い、更に第3成分として炭酸塩・硼酸塩・硫酸塩・酸化物(パーオキサイド)を5〜25w%(15w%以上)、更に抗菌剤をそのMICによるが、0.1〜10w%配合して完成する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】(成分a)水、(成分b)アミン化合物、(成分c)ヒドロキシルアミン及び/又はその塩、(成分d)第4級アンモニウム化合物、(成分e)有機酸、並びに、(成分f)水溶性有機溶剤、を含み、pHが6〜9であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】床面洗浄時の仕上がり性のため、界面活性剤濃度を低く維持しつつ、高濃度の非水溶性の香料化合物を安定に配合した床用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)特定の非イオン性界面活性剤、(b)特定の陽イオン性界面活性剤、(c)炭素数3〜6のポリカルボン酸又はその塩、及び(d)非水溶性の香料化合物を特定条件で含有する床用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】 主成分としてなる炭酸水素ナトリウムを用いる場合であっても、一般に市販されている洗剤と同等、或いはそれ以上の総合的な洗浄能力を得る。また、食品成分の利用率を高めることにより、環境負荷を大幅に低減(又は排除)するとともに、廉価に提供する。
【解決手段】 少なくとも主成分として炭酸水素ナトリウムを含む洗浄剤であって、100〔重量%〕の炭酸水素ナトリウムに対して、少なくとも、10〜50〔重量%〕のクエン酸塩と、10〜80〔重量%〕のグルコン酸塩と、一又は二以上の添加剤(ただし、界面活性剤は含まない。)を配合し、全体の80〔重量%〕以上を食品成分とする。 (もっと読む)


【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸(A)とpH6.0における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が7.0以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤(B)およびアルカノールアミン(C)を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 (もっと読む)


【課題】すすぎ時にぬるつかず、さっぱりとした感触で、素早くストップ感を得ることができ、乾燥後の感触も良好な皮膚洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分(A)〜(F):
(A)アニオン界面活性剤、
(B)カチオン性ポリマー、
(C)水溶性三価金属塩、
(D)エチレンオキサイドが6モル以上付加された非イオン界面活性剤、
(E)両性界面活性剤及び成分(D)以外の非イオン界面活性剤から選ばれる1種以上の界面活性剤、
(F)水
を含有する皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】垂直及び傾斜面での付着滞留性に優れると共に、処理面全体への均一な広がり性を有し、且つ、カルシウムやケイ酸等の除去しにくい蓄積無機汚れに対して高い洗浄力を持ち、保存安定性にも優れた硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記(a)〜(d)成分を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物:
(a) スルファミン酸 3〜10質量%、
(b) アルキルアミンオキシド 0.2〜1.5質量%、
(c) プロピレングリコール 0.5〜20質量%、及び
(d) 多糖類から選ばれる少なくとも一種の増粘剤 0.2〜0.8質量%。 (もっと読む)


【課題】すすぎ時にぬるつかず、さっぱりとした感触で、素早くストップ感を得ることができ、乾燥後の感触も良好な皮膚洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分(A)〜(F):
(A)アニオン界面活性剤、
(B)カチオン性ポリマー、
(C)両性界面活性剤及び非イオン界面活性剤から選ばれる1種以上の界面活性剤、
(D)無機塩、
(E)有機酸塩、
(F)水
を含有し、成分(D)及び(E)の質量割合が、(D)/(E)=10/1〜1.2/1である皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】便器への塗布容易性と洗浄力の持続性に優れた便器用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)アルキル基の炭素数が14〜22でエチレンオキサイド平均付加モル数が20〜80であるポリオキシエチレンアルキルエーテル、及び(b)エタノールを含有し、25℃における粘度が50〜3000mPa・sである、便器用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】ノニオン活性剤を主な界面活性剤とする衣料用液体洗浄剤組成物において、洗濯、乾燥の後に発生する、菌に由来する異臭や悪臭を抑制する効果の高い組成を特定して、洗浄後の衣類の臭い抑制、抗菌効果において高い特性を有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る液体洗浄剤組成物は、(a)ノニオン界面活性剤、(b)ベタイン基と疎水基を有する水溶性共重合体、(c)ジブチルヒドロキシトルエン(BHT)、ブチルヒドロキシアニソール(BHA)、4−イソプロピル−3−メチルフェノール(IPMP)から選ばれる少なくとも1種の機能性成分、を含有する。 (もっと読む)


【課題】水による希釈前後において扱い易い濃縮洗浄剤組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(A)アニオン性界面活性剤、(B)両性界面活性剤、(C)5〜15質量%の1価又は2価のアルコール、(D)8〜18質量%のIOB0.8〜1.1で分子量が500以下のノニオン性界面活性剤、(E)45質量%以下の水、を含み、(A)及び(B)の合計が40〜60質量%、配合比(C):(D)が3.5:1〜1:2.5である液状洗浄剤組成物であって、前記組成物を(A)及び(B)の濃度が15質量%となるまで希釈した際の粘度が30℃において300mPa・s以上であることを特徴とする濃縮液状洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】医療器具の洗浄において特に細傷が付いた表面洗浄に関し、高度な洗浄性と液安定性を両立させた洗浄剤組成物に関する。
【解決手段】(A)非イオン性界面活性剤及び/またはアニオン性界面活性剤から選ばれる少なくても1種の界面活性剤3,5〜20質量%、(B)メチルグリシン二酢酸のアルカリ金属塩・アルカノールアミン塩及び/またはグルタミン酸二酢酸のアルカリ金属塩・アルカノールアミン塩 2〜10質量%、(C)モノイソプロパノールアミン 1〜15質量%を含有し、且つ(A)成分/(B)成分の質量比が0.7〜7.0であることを特徴とする医療器具用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


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