【課題】保存安定性に優れ、輸送や保存において有利であり、溶解性に優れ、優れた洗浄力等の機能を発揮し、各種用途に好適に用いることができる固体組成物、及び、その保存方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：
［化１］


（式中、Ｒは、水素原子又は水酸基を表す。Ｘ^１〜Ｘ^４は、同一若しくは異なって、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子又はアンモニウム基を表す。）で表されるイミノジコハク酸を１０〜９５質量％含む固体組成物であって、
該固体組成物は、水溶性重合体と有機酸塩のうちの少なくとも一つを含むものである固体組成物。 （もっと読む）

本発明は、残渣、特に有機金属または金属酸化物残渣をそこに有するハードディスクデータ記憶装置、インクジェットプリンタカートリッジヘッド等を、その残渣を除去するための十分な時間と温度で本発明の洗浄用組成物と接触させてその残渣を除去することによって洗浄するための組成物および方法に関する。当技術分野で公知の、撹拌、かき混ぜ、循環、超音波処理またはその他の技術を適宜使用することができる。殆どの場合、ハードディスクデータ記憶装置、インクジェットプリンタカートリッジヘッド等を洗浄用組成物中に浸す。その時間と温度は、基板から除去する特定の材料に基づいて決定することができる。ハードディスクデータ記憶装置、インクジェットプリンタカートリッジヘッド等は、該組成物を使用した後、すすぐことができ、または、Ａｌ₂Ｏ₃ではそのようなすすぎは必要ないのですすがなくてもよい。すすぎ液は、イソプロパノールおよび／または脱イオン水を含む。
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本発明は、特定の結合基を介して結合された、フタロシアニンとモノアゾ色素との分子の組合せである化合物を含む、新たな組成物に関する。更なる態様は、織物材料のための改善されたシェーディング方法であり、また、織物をシェーディングするためのこれらのシェーディング組成物の使用である。 （もっと読む）

【課題】泡量が豊かで、脂肪酸金属塩を発生しにくい洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）炭素数１０〜２４の脂肪酸のアルギニン塩、（Ｂ）一般式（１）：


（Ｒ¹はＣ９〜２１のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ²及びＲ³はＣ１〜４のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基等、Ｑは-ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂ＳＯ₃、又は-(ＣＨ₂)_dＳＯ₃（ｄは１〜３の数）、ａは１〜４の数、ｂは０又は１）で表されるスルホベタイン型両性界面活性剤、（Ｃ）一般式（１）において、（Ｒ¹はＣ９〜２１のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ²及びＲ³はＣ１〜４のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基等、Ｑは、-(ＣＨ₂)_hＣＯＯ（ｈは１〜３の数）、aは１〜４の数、bは０又は１）で表されるベタイン型両性界面活性剤、（Ｄ）成分（Ａ）以外のアニオン界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一のアミドキシム官能基を含む少なくとも一の化合物を含む半導体処理組成物およびこれらの化合物を半導体処理中で使用する方法に関する。本発明はまた、（ａ）シアノエチル化触媒、求核剤およびα−不飽和ニトリルを混合して、シアノエチル化生成物を製造する工程と；（ｂ）前記シアノエチル化生成物中のシアノ基をアミドキシム官能基に転換する工程とを含む半導体処理のためのアミドキシムの製造についても記載する。 （もっと読む）

一般式（Ｉ）


（式中、Ｒは、水素原子、メチル基、ＣＨ_２ＯＨ基、エステル基、好ましくはＣＯＯＥｔ又はメチレン基であり、４つの点線のうちの多くても１つが、炭素-炭素二重結合を表す）を有する化合物、並びにまたそのエナンチオマー及びジアステレオマー、それらを調製する方法、及び芳香用（fragrancing）組成物における香料剤としてのそれらの使用。 （もっと読む）

【課題】安全性が高く、且つ優れた抗菌作用を示す抗菌剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）アミノポリカルボン酸系キレート剤及び／又はリン酸系キレート剤、
（Ｂ）カテキン類、
を含有する抗菌剤組成物。 （もっと読む）

本発明は、グリセロールに基づく脂肪酸エステルとポリリジン及び／又はポリリジンの塩とを含む組成物の施与を含む、グラム陰性菌の存在、増殖及び／又は活動の防止及び／又は減少の為の方法に関し、ここで該グリセロールに基づく脂肪酸エステルは抗菌剤として用いられる。本発明はさらに、該組成物を、抗菌剤として、工業製品及びパーソナルケア製品から動物及びヒトの消費の為の食品製品及び飲料製品に及ぶ種々の製品及び用途において使用する方法に関する。 （もっと読む）

（Ａ）少なくとも１つの界面活性剤；並びに（Ｂ）（ｉ）界面活性特性を有する抗微生物剤；（ｉｉ）疎水性物質；及び（ｉｉｉ）極性溶媒を含む、抗微生物組成物を含む製剤を開示する。 （もっと読む）

水相と組み合わされたときに、僅かな遅延放出、適度の遅延放出及び／又は長時間の遅延放出を有する活性試薬を含むカプセル化徐放性クリーニング剤が記載されている。本発明は、また、このような組成物の製造及び使用に関する。
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本発明は、エチルヘプテノンを脱プロトン化ニトリル（アセトニトリル、シアノ酢酸またはシアノ酢酸エステル）で変換し、ついで適切であれば、加水分解および脱カルボキシル化を行うことによるエチルゲラノニトリル（3,7-ジメチル-2,6-ノナジエンニトリル）の製造方法に関する。また、本発明は、3,7-ジメチル-2,6-ノナジエンニトリルと、化合物3,7-ジメチル-3,6-ノナジエンニトリルおよび3-メチレン-7-メチル-6-ノネンニトリルの群から選択される少なくとも1つの化合物とを含む混合物、ならびにそれらを含む香料組成物に関する。 （もっと読む）

３〜３０重量％の過酸化水素を含み、６〜８のｐＨ値を有する水性組成物と、１〜６０分間、０〜３５℃の温度で、表面を接触させることを含む、表面上で細菌胞子を除去する方法であって、いかなる発芽工程も含まない方法。 （もっと読む）

【課題】半導体基板やガラス基板の洗浄液やエッチング液として、アルカリ水溶液で金属不純物の付着がない、さらに洗浄能力を持つ水溶液組成物を提供する。
【解決手段】基板の洗浄またはエッチングに用いられる水溶液組成物であって、一般式（１）


で表されるキレート剤、およびアルカリ成分を含有する、前記水溶液組成物により、金属不純物の基板への吸着を防止し、さらには基板に吸着した金属不純物を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】空間のＶＯＣ、殺虫剤等の汚染物や空気汚染物が付着・吸着した物体表面や廃棄食品の堆肥化工場、養鶏場、生ゴム工場等の臭気等に噴霧し、化学包接作用で捕接し粒径を増大させ沈降させると共に粒子内で化学反応により解毒することにより清浄化する。
【解決手段】極限粘度法で求めた平均分子量が５×１０^６ 以上で、直鎖状のポリ(メタ)アクリルアミドの０．０００１〜０．０１重量％の水溶液あるいは水分散液（Ａ）とポリ（ポリメチレンビグアナイド）塩酸塩（Ｂ）と、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の化合物（Ｃ）とを含んでなる清浄化剤、これを用いた汚染気体又は汚染物体等の清浄化方法に関する。 （もっと読む）

化学機械研磨（ＣＭＰ）後残渣および汚染物質をその上に有するマイクロエレクトロニクスデバイスから前記残渣および汚染物質を洗浄するための洗浄組成物および方法。この洗浄組成物は、新規な腐食防止剤を含む。この組成物は、ｌｏｗ−ｋ誘電体材料または銅配線材料を損傷することなく、マイクロエレクトロニクスデバイス表面からＣＭＰ後残渣および汚染物質を非常に有効に洗浄する。 （もっと読む）

本発明は、香料の分野に関する。殊に、とりわけ天然マンダリンの香調を付与するために有用な付香成分である、４−ドデセンの特定のオキシム、または４−ドデセンのニトリル誘導体に関する。 （もっと読む）

【課題】衣類から離れた煤汚れや粉塵汚れを再付着しにくくする、即ち汚れの再汚染を防止する、特定のポリマーを含有した衣料用洗剤組成物を提供すること。さらには、濯ぎ工程において柔軟仕上剤で処理した衣類や綿タオルなどを用いても、汚れの再汚染を防止する衣料用洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）Ｎ−ビニルピロリドン由来の構成単位とＮ−ビニルイミダゾール由来の構成単位とを有してなる共重合体であって、共重合体中におけるモル比〔Ｎ−ビニルピロリドン／Ｎ−ビニルイミダゾール〕が１０／９０〜５０／５０であり、１０，０００〜１００，０００の重量平均分子量を有する共重合体、
（ｂ）ポリオキシアルキレンアルキルエーテルを含有する非イオン性界面活性剤、及び
（ｃ）２，０００〜２０，０００の重量平均分子量を有するポリエチレングリコール、
を含有する洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストアッシング工程後の残留物を効果的に除去すると同時に、ウエハ上に留めたい緻密構造を侵食したり潜在的に劣化させることがない化学配合物を提供する。
【解決手段】フッ化物源を１〜２１重量％と、有機アミンを２０〜５５重量％と、含窒素成分（例えば含窒素カルボン酸またはイミン）を０．５〜４０重量％と、水を２３〜５０重量％と、金属キレート剤を０〜２１重量％とを含む半導体ウエハ洗浄配合物。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する有機残渣やパーティクルなどを、銅配線の腐蝕や酸化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸、及び、（Ｂ）包接化合物を含有する洗浄剤である。包接化合物としては、シクロデキストリンなどが好ましい。 （もっと読む）

本願発明は単離されたアルファ-ガラクトシダーゼ酵素を含む洗浄剤組成物を与える。ある特に好ましい実施態様では、単離されたアルファ-ガラクトシダーゼ酵素はトリコデルマ・レセイ(Trichoderma ressei)由来のアルファ-ガラクトシダーゼに関係するアミノ酸配列を含む。本願発明は、また洗浄剤用途にアルファ-ガラクトシダーゼを使用する方法も提供する。 （もっと読む）