【課題】生魚汚れによって生じる汚れの除去に特に有効である洗浄剤の提供。
【解決手段】少なくとも約９．５のｐＨを有する使用溶液を提供するのに有効な量のアルカリ度源としてのアルカリ金属炭酸塩と、約１〜７０ｗｔ％の量の水質調整剤と、無機カリウム塩、アルコールアルコキシレート、もしくは分枝脂肪酸塩、またはそれらの組み合わせから本質的に成る活性剤と凝固剤と、を含む、固体洗剤組成物であって、該固体洗剤組成物が、５ｗｔ％未満の水酸化ナトリウムおよび３ｗｔ％未満の活性塩素を含む、組成物。 （もっと読む）

【課題】 研磨剤由来の砥粒の除去性、絶縁膜上の金属残渣と有機残渣の除去性に優れ、かつ銅配線の耐腐食性に優れる銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって、アミン（Ａ）、グアニジンの塩またはグアニジン誘導体の塩（Ｂ）、および水を必須成分とし、使用時のｐＨが８．０〜１３．０であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】 優れた洗浄力を持ちながらも皮膚に対して低刺激であり、すすぎ性に優れ、かつ、低温での保存安定性にも優れる台所用液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】 （ａ）アルギニン誘導体を１〜１０重量％、（ｂ）エタノール、１−プロパノール、２−プロパノールから選ばれる少なくとも１種の低級アルコールを１〜１０重量％、（ｃ）ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩を５〜４０重量％、（ｄ）ＨＬＢが１０以上の非イオン性界面活性剤を３〜２０重量％、（ｅ）アルキルアミンオキシドを１〜１０重量％含有し、（ａ）成分の量と（ｃ）成分と（ｄ）成分と（ｅ）成分の合計量の重量比（ａ）／｛（ｃ）＋（ｄ）＋（ｅ）｝が１／５０〜１／３、（ｃ）成分と（ｄ）成分と（ｅ）成分の合計量が３０〜５０重量％であることを特徴とする台所用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）糖、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、並びに、（成分ｅ）有機酸、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする半導体基板洗浄用の洗浄組成物。前記洗浄組成物を用いた洗浄方法、及び、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】固型洗浄剤組成物に優れた水切れ性とウォータースポット抑制機能を持たせることにより、リンス剤を用いることなく、食器の乾燥を速めウォータースポットの発生を効果的に低減させることができる自動洗浄機用の固型洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）カチオン化澱粉の糊化物、（Ｂ）結晶水含有のアルカリ金属珪酸塩、
（Ｃ）無水アルカリ金属珪酸塩、（Ｄ）水酸化アルカリ金属塩、（Ｅ）炭酸塩、及び
（Ｆ）キレート剤を含有してなる自動洗浄機用固型洗浄剤組成物。
（ｉ）（Ｅ）、（Ｂ）及び（Ｄ）成分を水に加熱溶解させアルカリ水溶液を得る工程、
（ｉｉ）前記アルカリ水溶液に、（Ｆ）及び（Ａ）成分を添加、分散させ溶融物を得る工程、
（ｉｉｉ）前記溶融物を冷却後、（Ｃ）成分を添加、分散させ調製物を得る工程、
（ｉｖ）前記調製物を室温で冷却固化させる工程
を含む上記自動洗浄機用固型洗浄剤組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】配合安定性に優れ、且つ複合汚れに対しても高い洗浄力を有する自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）グルタミン酸２酢酸又はその塩、（ｂ）アクリル酸／マレイン酸のモル比が０．６〜９、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００のアクリル酸−マレイン酸コポリマー又はその塩、（ｃ）非イオン界面活性剤、並びに水を含有し、（ａ）及び（ｂ）の合計含有量が１５〜３０質量％であり、（ｃ）の含有量が０．０１〜３質量％であり、（ｂ）／（ａ）の質量比が０．３〜３であり、２５℃におけるｐＨが６〜８である、自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸（ＨＣｌ）水溶液に、（Ａ）平均分子量が１５０〜１５００の低分子ポリアミンと、（Ｂ）低分子カルボン酸（またはその塩）を含み、更に（Ｃ）アセチレンアルコール、（Ｄ）ヘキサメチレンテトラミン、（Ｅ）ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 （もっと読む）

【課題】起泡性が良好で、クリーミーな泡質であり、使用後のしっとり感に優れ、ひび割れ、べたつきや発汗といった外観上の不具合が生じ難い固形石けん組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）からなり、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）の合計が１００質量％である固形石けん組成物。
（ａ）式（１）で示されるアルギニン誘導体０．０１〜１５質量％、
（ｂ）脂肪酸塩３０〜９９質量％、
（ｃ）グリセリン、スクロース、ソルビトール、グリコシルトレハロースから選ばれる１種以上の多価アルコール０．１〜５０質量％、
（ｄ）水


（式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ水素原子またはヒドロキシプロピル基であり、Ｒ¹およびＲ²の少なくとも１つはヒドロキシプロピル基である。Ｒ³は水素原子、アルカリ金属原子、アルカノールアミンのカチオン性残基である。） （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩とを含有する粉末洗浄剤組成物において、アルカリ金属珪酸塩とアルミノ珪酸塩が合一して形成される水不溶分の発生を低減できる粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】平均粒径が１〜１０００μｍのアルカリ金属珪酸塩（ａ１）の表面に、表面処理剤（ａ２）が存在して複合化されているアルカリ金属珪酸塩粒子（Ａ）と、平均粒径が０．１〜５０μｍのアルミノ珪酸塩（Ｂ）とを含有する粉末洗浄剤組成物であって、（ａ２）が、融点４５℃〜９０℃、分子量２００〜７００、透湿率０〜２％、２０℃の水１００ｇに対する溶解度０．５ｇ以下の非イオン性有機化合物及び／又は陽イオン性有機化合物である、粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】従来のキレート剤と比較して十分な鉄イオンキレート能を有するＮ−ヒドロキシアルキルエチレンジアミン化合物を提供する。
【解決手段】Ｎ−ヒドロキシアルキルエチレンジアミン化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。


一般式（１）において、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立にヒドロキシルアルキル基を表し、Ｒ_４は水素原子、水酸基を表し、Ｍはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アンモニウムイオン、アミン塩を表す。 （もっと読む）

【課題】従来のキレート剤と比較して十分な鉄イオンキレート能を有するリンゴ酸構造含有アミノ化合物を提供する。
【解決手段】リンゴ酸構造含有アミノ化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。


上記一般式（１）において、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシルアルキル基、炭素数１〜２０のアルキル基、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＭ、を表し、Ｒ_４、Ｒ_５はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基を表し、Ｍはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アンモニウムイオン、アミン塩を表す。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】乾燥した尿汚れに対する洗浄力に優れ、かつトイレットペーパーを使用してもトイレットペーパーが破れることなく清掃でき、洗浄時に硬表面にべたつき・ヌルつきを与えることなく、さらに拭き跡を残さない、ｐＨ安定性に優れたトイレの洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ラウリン酸アミドプロピルベタイン等の両性界面活性剤 ０．３〜３質量％、
（Ｂ）エタノール １５〜２５％、及び
（Ｃ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はその塩 ０．７〜２．２％
を含有し、ｐＨが６．５〜７．５であるトイレ用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】医療器具の洗浄において特に細傷が付いた表面洗浄に関し、高度な洗浄性と液安定性を両立させた洗浄剤組成物に関する。
【解決手段】（Ａ）非イオン性界面活性剤及び／またはアニオン性界面活性剤から選ばれる少なくても１種の界面活性剤３，５〜２０質量％、（Ｂ）メチルグリシン二酢酸のアルカリ金属塩・アルカノールアミン塩及び/またはグルタミン酸二酢酸のアルカリ金属塩・アルカノールアミン塩 ２〜１０質量％、（Ｃ）モノイソプロパノールアミン １〜１５質量％を含有し、且つ（Ａ）成分／（Ｂ）成分の質量比が０．７〜７．０であることを特徴とする医療器具用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤の含有量が３０質量％未満と低濃度であっても、水に対する溶解性に優れる粒状洗剤組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】界面活性剤３０質量％未満と無機ビルダーとアルカリ剤とを含有する粒状洗剤組成物の製造方法において、前記界面活性剤と前記無機ビルダーと前記アルカリ剤とを混合し、水分含有量が１５質量％以下の混合物を調製する前処理工程と、前記混合物に、硫酸塩水和物と、分子内に窒素原子を含む有機キレート剤とを配合して造粒を行う造粒工程とを有することを特徴とする粒状洗剤組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】抗菌・殺菌作用を奏するポリヘキサメチレンビグアナイド塩酸塩の抗菌・殺菌作用を向上させ、低濃度での効果的な抗菌・殺菌作用を実現するとともに、黒ずみ汚れを抑制することができるトイレ洗浄用組成物を提供する。
【解決手段】抗菌・殺菌作用を奏するポリヘキサメチレンビグアナイド塩酸塩、および、下記一般式（１）で表され、式中ｌ、ｍおよびｎは任意の整数であり、ポリオキシプロピレン残基の平均分子量が９５０〜４２５０であり、かつエチレンオキサイドの含有率が０〜８０重量％であるノニオン性界面活性剤を含有するトイレ洗浄用組成物に関する。
ポリヘキサメチレンビグアナイド塩酸塩の重量濃度が０．３〜３．０ｐｐｍであることが好ましく、前記ポリヘキサメチレンビグアナイド塩酸塩１重量部に対して、下記一般式（１）で表されるノニオン性界面活性剤が５重量部以上５０重量部以下であることが好ましい。
［化１］
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本発明は、封入された固形の水溶性有益剤及びこのようなカプセルを含む製品、並びにこのようなカプセル及びこのようなカプセルを含む製品の製造方法及び使用方法に関する。一態様では、本発明は、本方法の乳化工程時に、固形の水溶性有益剤の溶解に向けて解決策を提供する、メラミンホルムアルデヒド及び／又は尿素ホルムアルデヒドの封入方法に関する。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性ポリマー0.01〜20質量％、（Ｂ）キレート剤：0.01〜30質量％、（Ｃ）水：40〜99.9質量％を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー（Ａ）は、（Ａ−１）炭素数２〜８のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも１種と、（Ａ−２）スルホ基（ＳＯ_３Ｈ）を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）