【課題】 低いふき取り摩擦で汚れ物質を容易に取り除くことができ、失禁臭等の悪臭の低減も可能な、皮膚清浄清拭剤を提供すること。
【解決手段】 多価アルコール、ポリフェノール系消臭剤、水、前記水１００質量部に対して２．６〜３．９質量部のポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、及び前記水１００質量部に対して０．５〜１．７質量部のポリオキシエチレンソルビタンエステルを含有する皮膚清浄清拭剤。 （もっと読む）

自動食器洗浄機用洗剤組成物であって、ａ）組成物の少なくとも９重量％の被覆漂白剤粒子であって、粒子の少なくとも５重量％の風解性材料を含む被覆層を有する粒子、及びｂ）活性酵素を含有している、組成物の少なくとも０．５重量％の粒剤、を含み、粒剤が風解性材料を含む、自動食器洗浄機用洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面における有機物汚染やパーティクル汚染を、銅配線の腐食を引き起こすことなく除去することができ、基板表面を高清浄化しうる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】ポリカルボン酸およびジエチレントリアミン五酢酸を含有し、ＳｉＯＣを構成成分として含有する誘電率が３．０以下の絶縁膜上に銅拡散防止用バリア膜及び銅配線を備える半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】褪変色及び異臭発生を防止でき、漂白効果に優れた漂白性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：たとえば、下記式（Ｉ）等、で表されるアミノカルボン酸より選ばれるキレート化合物と、銅化合物及びマンガン化合物の少なくとも一種との混合物及び／又は反応物を含む触媒体を水不溶性無機粉体で被覆した被覆触媒体と、（Ｂ）成分：界面活性剤と、（Ｃ）成分：過酸化物と、を含むことよりなる。前記水不溶性無機粉体は、Ａ型ゼオライトであることが好ましい。
（もっと読む）

【課題】 化粧落ちが防止されて、化粧持ちの良好な化粧料を提供する。
【解決手段】 この化粧料は、化粧基剤に特定のポリウレタン粒子群を配合させ含有させたものである。この特定のポリウレタン粒子は、ポリウレタン粒子本体と、粒子本体表面を被覆している親水性シリカ微粉末群よりなる。ポリウレタン粒子本体は、ポリイソシアネート成分とポリテトラメチレングリコールを含むポリオール成分との反応により得られるイソシアネート末端ウレタンプレポリマーを、３官能以上の多官能アミンで三次元的に高分子化してなるものである。このポリウレタン粒子群は、親水性シリカ微粉末群と、上記のように三次元的に高分子化してなるポリウレタン球体群とを水中に分散させてなる混合水性分散液を、噴霧乾燥機で噴霧乾燥することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れると共に基板上の金属汚染が低減でき、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 スルファミン酸（Ａ）、分子内に少なくとも１個のスルホン酸基又はその塩基を有するアニオン性界面活性剤（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）及び水を含有してなる電子材料用洗浄剤であり、２５℃でのｐＨが３以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】塗料の洗浄剤を再生する場合、使用済みの洗浄剤を濾過した後に洗浄剤原液を添加していたので、洗浄剤の再生効率が低く、コスト低減や環境問題の解消の効果が不十分であった。
【解決手段】不純物を含んだ水性塗料用洗浄剤廃液を濾過して不純物を取り除き、水性塗料用洗浄剤として再利用するための水性塗料用洗浄剤廃液の再生方法であって、不純物を含んだ水性塗料用洗浄剤廃液を濾過する濾過工程と、濾過後の水性塗料用洗浄剤廃液に対して、水性塗料用洗浄剤原液に含有されるアミンとは異なるアミン、およびブチルセロソルブを添加する添加工程とを備え、水性塗料用洗浄剤原液に含有されるアミンとは異なるアミンは、トリエチルアミンである。 （もっと読む）

アミン官能基を含む酸性キレート剤の塩であって、該塩がキレート剤がもたらす酸性プロトン１モル当たり少なくとも０．２５モルのアルカリ土類金属を含み、酸性キレート剤がエチレンジアミン二コハク酸ではない塩。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】洗髪時におけるすばやい泡立ちの早さと泡質に優れ、すすぎ時における髪の感触で、指通り、きしみのなさ、滑らかさに優れ、泡切れが早く、すすいだ後も、髪の滑らかさに優れるにもかかわらず、髪のべたつきが認められない、毛髪洗浄料を提供すること。
【解決手段】下記(A)〜(C)に従う、毛髪洗浄料を提供することにより、上記の課題を解決し得ることを見出した：(A)N-アシル-N-メチルタウリン型アニオン界面活性剤を、洗浄料の0.1〜30質量%含有する、(B)シリコーンエマルジョンを、シリコーンの実質量として、洗浄料の0.01〜5質量%含有する、(C)カチオン化グアガム(C1)及びカチオン化ローカストビーンガム(C2)を含有し、C1の含有量は洗浄料の0.005質量%以上であり、かつ、C1及びC2の総量は洗浄料の0.01〜2質量％であり、当該両成分の洗浄料における含有比は、質量比でC2／C1=0.05〜10、の範囲である。 （もっと読む）

【課題】 優れた泡保持性、洗浄性を有するとともに、被洗浄面に白化を生じることなくアルミニウム材質に対して腐食性のない飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供。
【解決手段】
下記の（Ａ）成分から（Ｆ）成分を、組成物全体に対し下記の割合で含有するとともに、（Ｇ）成分としての水を残質量％含有することを特徴とする飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物を用いる。（Ａ）アルカリ剤０．１〜５質量％、（Ｂ）アニオン界面活性剤０．５〜５質量％、（Ｃ）炭素原子数が１２〜１８のアルキル基またはアルキレン基を有するアルキルジメチルアミンオキサイド０．５〜５質量％、（Ｄ）芳香族スルホン酸塩０．５〜５質量％、（Ｅ）水溶性カルシウム化合物０．１〜５質量％、（Ｆ）金属イオン封鎖剤１〜１０質量％。 （もっと読む）

連続的水相、１５〜５０ｗｔ％を含む効果的な汚れ除去量のアルカリ源および２〜３０ｗｔ％の非イオン性界面活性剤、０．１〜１０ｗｔ％を含む効果的な水調整量または金属イオン封鎖量の水調整剤または金属イオン封鎖剤、０〜１０ｗｔ％を含む効果的な汚れ除去量およびエマルジョン安定化量のアルキルポリグルコシド界面活性剤、１〜２５ｗｔ％を含む効果的な増粘化量のポリカルボン酸、０．２５〜５ｗｔ％を含む効果的な増粘化量の脂肪酸を含む相安定性の増粘化されたエマルジョンを含む液体クリーナー濃縮組成物であって、分散相が、非イオン性界面活性剤の一部分を含み、そして該増粘されたエマルジョン濃縮物が製造および使用の間に吐出を可能にするずり減粘を示し、そして粘度が２０℃においてＢｏｈｌｉｎ ＣＶＯレオメーターを使用して、０．２／秒のずり速度の回転せん断モードで測定して、１００、０００ｃＰ超を含む、組成物。
（もっと読む）

【課題】水溶性切削油剤、水溶性研削油剤、水溶性研磨剤、水溶性塑性加工油剤及び水溶性洗浄剤等に使用される水溶性潤滑油剤における消泡剤（発泡抑制剤）を提供することを目的とする。
【解決手段】pHが８〜１１．５の範囲内において等電位点を持つ特定のアミン化合物からなる消泡剤である。 （もっと読む）

【課題】エネルギーコストをかけることなく安価に、高品質の自動食器洗浄機用固形洗浄剤を製造する方法と、それによって得られる自動食器洗浄機用固形洗浄剤を提供する。
【解決手段】非加熱、非冷却、非加圧下において、下記の（Ａ）〜（Ｅ）成分を配合して撹拌混合し、ついで下記の（Ｆ）成分を配合して撹拌混合した後、注型固化させる。
（Ａ）アルカリ剤５〜３０質量％。
（Ｂ）水 １５〜６０質量％。
（Ｃ）非イオン界面活性剤 ０．０１〜５質量％。
（Ｄ）水溶性キレート剤 ５〜５０質量％。
（Ｅ）高分子電解質重合体 ０．１〜１０質量％。
（Ｆ）無水水酸化アルカリ金属塩 １０〜５０質量％。 （もっと読む）

【課題】極微量油剤供給方式により被加工部材を切削・研削加工する方法において、切りくず除去のための水溶性切りくず流し用油剤に加工油剤が混入しても加工油剤との分離性に優れ、腐敗が起こりにくく、排水処理性にも優れると共に、十分な切りくずの洗浄性が確保され、且つ被加工物の錆や変色、環境への悪影響等を引き起こさない洗浄用原液組成物および洗浄液を提供する。
【解決手段】組成物全量基準で、（Ａ）ポリアルキレングリコールの脂肪酸エステル：５〜３０質量％、（Ｂ）炭素数８〜１２の一塩基脂肪酸及び／又は二塩基脂肪酸：１〜１０質量％、（Ｃ）ひまし油脂肪酸の縮合物：５〜２０質量％、（Ｄ）アルカノールアミン及び脂肪族アミン：１５〜２５質量％および（Ｅ）水：１５〜７４質量％を含有することを特徴とする金属加工の切りくず洗浄用原液組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄時において微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れ、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する
【解決手段】 炭素数２〜８の脂肪族第１級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ）を含有してなり、前記（Ａ）の２級アミン価と３級アミン価の合計（Ｙ）に対する２級アミン価（Ｘ）の比率［（Ｘ）／（Ｙ）］が、０．５以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカ等の研磨材に由来する微粒子汚れを高い清浄度で除去できる、ハードディスク基板用の洗浄剤組成物、およびハードディスク基板の洗浄方法の提供。
【解決手段】ハードディスク基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物において、アルカリ金属の水酸化物（Ａ）と、遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）と、キレート剤（Ｃ）と、過酸化物（Ｄ）とを含有し、かつ、前記キレート剤（Ｃ）の割合は、前記遷移金属を含む水溶性塩（Ｂ）に対して０．５モル当量以上であることを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶等の製造工程における銅、アルミニウム及びこれらからなる合金等の腐食性金属の酸化等による腐食防止を特徴とするビアリール化合物を用いた防食剤及び当該化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物の提供を課題とする。
【解決手段】
本願発明者らは、上記課題を達成するために研究を重ねた結果、ビアリール化合物から、銅等の腐食しやすい金属に対し、高い防食効果を発揮しつつ、廃液からの回収も可能な防食剤、及び同化合物と剥離性能を有する化合物とからなる防食性能と剥離性能とを併せ持つ組成物を見出した。 （もっと読む）

この発明はタンパク質工学に関する方法、及びこれにより製造されるセリンプロテアーゼ変異体に関する。特に、この発明は参照セリンプロテアーゼとの比較において１以上の置換を有するセリンプロテアーゼ変異体に関する。さらに、これらのセリンプロテアーゼ変異体を含む組成物に関する。いくつかの実施形態は、この発明はこれらのセリンプロテアーゼ変異体を含む洗浄組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】光重合性インクジェット材料の硬化膜を十分に除去すると共に、当該硬化膜により皮膜される基板や金属配線などを腐食しない、優れた剥離特性を有する剥離液の提供。
【解決手段】テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（Ａ）を０．０５重量％以上２重量％以下、有機アミン（Ｂ）を１重量％以上１０重量％以下、水溶性有機溶媒（Ｃ）を６０重量％以上９５重量％以下、及び水（Ｄ）を０．５重量％以上２０重量％以下含有する、剥離液。 （もっと読む）