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Fターム[4H003EB13]の内容

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【課題】高濃度の界面活性剤を含有する濃縮タイプの組成において、被洗物への除菌性付与効果と外観安定性のいずれも優れた液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】非イオン界面活性剤(A)と、一般式(b1)で表される化合物(B)と、酵素(C)と、水(D)50質量%以下と、を含有することを特徴とする液体洗浄剤。式(b1)中、nは2〜6の整数である。Rは炭素数8〜18のアルキル基であり、Rは水素原子、炭素数8〜18のアルキル基、又は(CHNHである。mは2〜6の整数である。
[化1]
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【課題】洗浄時には豊かな泡立ちと洗浄時の泡の持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a)特定のスルホコハク酸ジ若しくはモノアルキルエステル又はその塩、(b)炭素数8〜21の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し(a)を除く〕5〜35質量%、及び(c)スルホベタイン型界面活性剤を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】特定の洗浄剤成分及び袋を併用することで、洗濯機あるいはブラシでこする等の機械力を必要とせず、優れた洗浄力とすすぎ性、泡切れ性に優れる洗浄剤組成物及び使用方法を提供する。
【解決手段】(A):下記一般式(1)で示される非イオン性界面活性剤1〜10質量%


[式中、R1は炭素数8〜22の疎水基であり、R2は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素数2〜6のアルケニル基であり、−X−は連結基を示し、EOはエチレンオキサイド基、POはプロピレンオキサイド基を示す。n及びmはこれらの基の平均付加モル数、nは3〜20の整数であり、mは0〜6の整数である。](B):金属イオン封鎖剤30を超える50質量%以下。(C):脂肪酸塩を除く陰イオン性界面活性剤。(D):水に溶解して過酸化水素を発生する過酸化物。(E):アルカリ剤1〜50質量%以下。上記の(A)〜(E)成分を含有する洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】フォトレジストパターンの残渣物及びエッチング残渣物を効果的に剥離除去することができ、金属に対する防食性に優れ、さらには長時間の継続使用も可能なフォトリソグラフィ用剥離液、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィ用剥離液は、(A)フッ化水素酸、(B)一般式(b−1)で表される塩基性化合物、及び(C)水を含有する。式中、R1bからR5bは、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を示し、R1bからR5bの少なくとも1つは水素原子である。R1bからR4bのうちいずれか1つとR5bとが相互に結合して環構造を形成してもよい。Y1b及びY2bは炭素数1〜3のアルキレン基を示し、nは0〜5の整数を示す。nが2以上のとき、複数のR5b同士及び複数のY1b同士は互いに同一であっても異なっていてもよく、R5b同士が相互に結合して環構造を形成してもよい。
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【課題】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を選択的に除去できる組成物であって、上記組成物に対して同様に露出している可能性のある金属に破壊的化学作用を及ぼさない組成物を提供することを課題とする、また、極微量の酸化シリコンを呈し、一般的に絶縁体に対するエッチング速度の低い組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、a)少なくとも約50重量%の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒;b)約0.005〜約0.8重量%のフッ素ソース;c)上限約49.9重量%の水;及び、d)上限約20重量%の腐食抑制剤を含むことを特徴とする組成物を含む。また、本発明は、基板からフォトレジスト及び/又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】洗浄力に優れ、洗浄時には豊かな泡立ちと洗浄時の泡の持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a)炭素数8〜21の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤1〜50質量%、(b)重量平均分子量100,000〜3,000,000のカチオン化セルロース、並びに(c)含マグネシウム無機化合物及び/又はアルキレンジアミン化合物を含有し、(d)アミンオキシド型界面活性剤及びアルカノールアミド型界面活性剤から選ばれる界面活性剤、及び(e)シリコーン系消泡剤を実質的に含有しない、手洗い用食器洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄時には豊かな泡立ちを示すが、すすぎ時には瞬時にヌルツキがなくなることにより、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a)特定のスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩、(b)炭素数8〜21の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し(a)を除く〕、及び、(c)分岐の炭化水素基を有する炭素数8〜24のアルコール0.0001〜0.1質量%を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄時には豊かな泡立ちと洗浄時の泡の持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a)特定のスルホコハク酸ジ若しくはモノアルキルエステル又はその塩、(b)炭素数8〜21の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し(a)を除く〕5〜35質量%、及び(c)スルホベタイン型界面活性剤を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの3種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル:ジエステル:トリエステル=30〜70:20〜60:1〜30、より好ましくは、モノエステル:ジエステル:トリエステル=40〜60:30〜50:2〜20である。 (もっと読む)


【課題】幅広い臭気を防臭できる繊維製品用洗浄剤を提供する。
【解決手段】アニオン界面活性剤(A)と、銅、マンガン、ニッケル、鉄及び亜鉛から選択される少なくとも1種(B)と、前記(B)成分に含まれる金属と錯体を形成するアミノカルボン酸型金属イオン封鎖剤(C)と、カチオン化セルロース(D)とを含有することよりなる。前記(B)成分/前記(C)成分で表されるモル比は、1/3〜5であることが好ましく、特定の有機過酸前駆体(E)と、過酸化水素又は水中で過酸化水素を発生する過酸化物(F)とを含有することがより好ましい。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス用基板、特に表面にCu配線を有する半導体デバイス用基板におけるCMP工程後の洗浄工程に用いられ、Cu配線に対する十分な防食性を有し、残渣の発生及び基板表面への残渣の付着を抑制することができる洗浄液を提供する。
【解決手段】以下の成分(A)〜(E)を含有してなり、かつpHが10以上である半導体デバイス用基板洗浄液。
(A)一般式(1)で表される有機第4級アンモニウム水酸化物
(R14+OH- (1)
(但し、R1は水酸基、アルコキシ基、又はハロゲンにて置換されていてもよいアルキル基を示し、4個のR1は全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。)
(B)界面活性剤
(C)キレート剤
(D)硫黄原子を有するアミノ酸
(E)水 (もっと読む)


【課題】溶剤系洗浄剤は引火の危険性や揮発による環境や人体への影響があり、水系洗浄剤は洗浄後の界面活性剤やアルカリ剤などの残留物を除去するために、さらに水ですすぐといった手間があり、また洗浄面の腐食といった問題があった。
【解決手段】非水溶性溶剤、界面活性剤およびアルカリ剤を使用せず、(A)界面活性化作用および耐腐食性を有する気化性化合物、(B)水、(C)水溶性溶剤を使用し、pHの範囲が5.0〜13.5である水系洗浄剤を用いて前記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】起泡性界面活性剤と共に使用することにより泡立ち速度に優れる増泡剤及びそれらを含む洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)


[但し式中Rは炭素数6〜10のアルキル基を示し、AO、AOは、各々独立にオキシエチレン基、オキシプロピレン基から選ばれる基を示し、AO、AOが同時にオキシエチレン基、オキシプロピレン基の混合でも良い。m,nは互いに独立に0以上の整数であり、1≦m+n≦2の関係がある。]で表される脂肪族第1級アミンのアルキレンオキサイド付加物からなる増泡剤。 (もっと読む)


【課題】繊維製品から発生する生乾き臭、特に、繊維製品を乾燥後、湿潤(湿気を帯びること)によって生じる再発性の生乾き臭に対して優れた抑制能を有する衣類用液体洗浄剤組成物、及びこれを用いた効率的な生乾き臭抑制方法の提供。
【解決手段】成分(A)、(B)、(C)及び(D)を含有する繊維製品用液体洗浄剤組成物。(A)一般式(1)で表される非イオン界面活性剤15〜70質量%。R(CO)pO−[(C24O)q/(AO)r]R'(1)、(B)水混和性有機溶剤1〜40質量%、(C)一般式(2)〜(4)のいずれかで表される1以上のカルボニル化合物0.01〜5質量%、(D)水。
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【課題】人体や環境への影響が小さくしつつも、有機酸を高濃度に溶解でき、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準(100重量%)として、有機酸(A)を0.5重量%以上25重量%以下含有し、有機酸(A)に対する中和率が100%以上150%以下となるようにアミンを含有し、さらに、アミンに対する中和率が80%以上となるように有機酸(B)及び/又は無機酸を含有し、有機酸(A)が、蓚酸、スルファミン酸、グリシン、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸及びグリオキシル酸のうちの少なくとも1種であり、有機酸(B)が、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、ブチル酸及びメタンスルホン酸のうちの少なくとも1種であり、無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸及び燐酸のうちの少なくとも1種である、さび除去剤水溶液とする。 (もっと読む)


【課題】起泡性界面活性剤と共に使用することにより泡立ち速度に優れる増泡剤及びそれらを含む洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式(1)の構造を有する3級アミン化合物からなる増泡剤および増泡剤と起泡性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物。


[但し式中Rは炭素数5〜9のアルキル基を示し、Xは連結基であり−NR−,−(OR)pO−(ただし、式中Rは分枝してよい炭素数1〜3のアルキレン基、pは0〜3の数、Rは水素原子、ヒドロキシ基を含んで良い炭素数1〜3のアルキル基を示す。)を示し、mは0又は1の数を示し、nは1〜3の数を示す。R、Rは互いに独立に水酸基を含んで良い炭素数1〜3のアルキル基を示す。] (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも1種を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 金属配線を腐食することなく、化学的機械研磨工程で発生した結晶シリコンやアモルファスシリコンシリコン表面に残留した金属残渣や砥粒残渣を除去することができる洗浄剤を提供することを目的とする
【解決手段】 表面に単結晶シリコン、多結晶シリコンもしくはアモルファスシリコンと銅配線を同一面に有する半導体用洗浄剤であって、4級アンモニウムヒドロキシド(A)、オキシエチレン鎖を有する脂肪族アミンのアルキレンオキサイド付加物(B)および水を必須成分として含み、そのpHが12.5〜14.0であり、かつ単結晶シリコンの表面に滴下したときの接触角が30°以下であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】研磨材や研磨屑等の無機粒子に対する洗浄性が向上したガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程(1)〜(4)を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。(1)pHが1.0〜4.0である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。(2)工程(1)で得られた基板を、pH1.0〜4.0の酸性洗浄剤組成物Aに浸漬しながら、洗浄工程(3)に搬送する工程。(3)工程(2)で搬送された基板を、pH8.0〜13.0のアルカリ性洗浄剤組成物Bを用いて浸漬洗浄する工程。(4)工程(3)で得られた基板を、pH1.0〜4.0の酸性洗浄剤組成物Cを用いてスクラブ洗浄する工程。 (もっと読む)


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