【課題】毛髪や皮膚に良好な使用感とコンディショニング効果の付与に優れ、かつ低温安定性が良好で、特にダメージヘアに対する洗髪時の使用感（泡立ち、泡質、滑り性）と乾燥時の感触（滑らかさ、しっとり感）及び乾燥翌日の感触（うるおい感）が良好な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン界面活性剤の１種又は２種以上、（Ｂ）下記一般式（１）


（Ｒ¹ＣＯはイソステアリン酸残基、Ｒ²、Ｒ³はのアルキル基等、Ｒ⁴は炭素数１〜３のアルキレン等、Ｘは−ＣＯＯもしくは−ＳＯ_３を表す。）で表される両性界面活性剤及び（Ｃ）カチオン界面活性剤及び／又は３級アミンを含有してなる洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】腐食抑制剤システム、特にアルカリ条件（特に食品および製薬の産業における）下におけるアルミニウムまたは着色金属およびその合金の表面用洗浄・腐食抑制組成物を提供する。
【解決手段】表面用洗浄・腐食抑制組成物は、一般式


［式中、Ｚは−Ｏ−Ｍまたは


のいずれかである。］で示される少なくとも一種のアルキレンオキシ−アルキルホスフェートジエステルまたはトリエステルを含有する。 （もっと読む）

本発明は、ｐＨ調整可能なアミドゲル化剤と界面活性剤とを含む流体洗剤組成物、及び該組成物を構造化する方法を目的とする。
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本発明は、ジアミドゲル化剤と界面活性剤とを含む流体洗剤組成物、及びその組成物を構造化する方法を目的とする。
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本発明は、消費者製品組成物で使用するのに適しているｐＨ調整可能なアミドゲル化剤に関する。
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本発明は、消費者製品組成物で使用するのに適しているジアミドゲル化剤に関する。
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【課題】曳糸性がなく、剤を手に取った際には垂れにくく、剤を肌に塗布した際には、伸ばしやすく、更に十分な洗浄実感が得られる皮膚洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｅ）：
（Ａ）ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 ０．２５〜１８質量％、
（Ｂ）成分（Ａ）以外のカルボキシル基を有するアニオン界面活性剤 ２〜１５質量％、
（Ｃ）両性界面活性剤 ０．５〜１５質量％、
（Ｄ）アクリル酸／メタクリル酸アルキル共重合体 ０．１〜１．２質量％、
（Ｅ）水
を含有し、成分（Ｂ）及び（Ｃ）の質量割合が（Ｃ）／（Ｂ）＝０．２〜１．５であり、かつ成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の質量割合が（Ａ）／（（Ｂ）＋（Ｃ））＝０．１〜０．６である皮膚洗浄剤組成物。 （もっと読む）

泡適合性（compatability）及び改善された洗浄性を有する両用水性液体洗剤組成物であって、かかる組成物は、当該組成物の約１重量％〜約６０重量％の界面活性剤系を含有し、当該界面活性剤系は、当該界面活性剤系の少なくとも３５重量％のアルキルエトキシサルフェート、当該界面活性剤系の０重量％〜約１０重量％の非イオン性界面活性剤、当該界面活性剤系の０重量％〜約１０重量％の石鹸を含有し、当該組成物の約０．００１重量％〜約４．０重量％の、シリコーン樹脂及び修飾シリカである一次充填剤と結合したアリール又はアルキルアリール置換基を有するオルガノ修飾シリコーンポリマー、並びにこれらの混合物から選択される消泡剤を更に含有し、当該組成物の約０．０１重量％〜約２．５重量％の構造剤を含有する。紡織製品の洗濯のためのかかる洗剤組成物の使用方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤にも安定に配合可能で、溶液の色や匂いにも優れた高分子ビルダーを安定に製造する方法を提供する。
【解決手段】重合開始剤の存在下、液体反応媒体中で、一般式（Ｉ）で表される特定の不飽和カルボン酸系モノマー（Ｉ）と一般式（II）で表される特定のアリルエーテル系モノマー（II）とを重合反応させて洗浄剤用高分子ビルダーを製造するにあたり、重合開始剤として、過硫酸塩をモノマー（Ｉ）及びモノマー（II）の総モル数に対して１〜１０モル％使用し、液体反応媒体として、全液体反応媒体中低級アルコールを１５重量％以上含む液体反応媒体を使用する。 （もっと読む）

【課題】皮脂汚れ等の洗浄力が良好であり、かつ、使用時における冷水への希釈溶解性、防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）特定の非イオン性化合物、（Ｃ）水溶性銀塩、水溶性銅塩及び水溶性亜鉛塩から選ばれる１種以上の水溶性塩、並びに（Ｄ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／６０〜１００／５である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】酵素安定性が高く、少ない洗剤量でも高い洗浄力を発現でき、また組成物としての保存安定性が高く、更に洗浄時の再汚染防止作用に優れる液体洗浄剤組成物、及び酵素を安定に配合でき、その酵素活性を高い状態で維持可能な液体洗浄剤組成物の製造方法の提供。
【解決手段】ノニオン性界面活性剤（（Ａ）成分）と、酵素（（Ｂ）成分）と、コンドロイチン硫酸及びその塩の少なくともいずれか（（Ｃ）成分）と、多価カルボン酸（（Ｄ）成分）と、を少なくとも含有し、前記（Ｄ）成分が、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、ジグリコール酸、クエン酸、メチルグリシン二酢酸、及びこれらの塩から選択される少なくとも１種以上であり、前記（Ｃ）成分の含有量と、前記（Ｄ）成分の含有量との質量比が、（Ｃ）／（Ｄ）＝０．３３〜９であり、ｐＨが６．０〜８．０であり、前記（Ｂ）成分と、前記（Ｃ）成分とを事前混合した液体洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポストアッシュ及び／又はポストエッチフォトレジストに限定されないが、これらのような残渣を基材から除去するための水系組成物、及びそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】ある態様における、残渣を除去するための組成物は、（ａ）水、（ｂ）ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン塩化合物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種のもの、並びに（ｃ）水溶性有機酸を含まないという条件付の腐食防止剤を含み、添加された有機溶剤を実質的に含まない。 （もっと読む）

【課題】皮脂汚れ等の洗浄力が良好であり、かつ、使用時における冷水への希釈溶解性、防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤２５〜７０質量％、（Ｂ）特定の陽イオン性化合物、（Ｃ）特定の非イオン性化合物、及び（Ｄ）水を含有し、（Ａ）／（Ｃ）質量比が１００／６０〜１００／１０である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリオキシアルキレン付加型非イオン性界面活性剤を含有する希釈容易な界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）複合金属酸化物触媒の存在下、（Ｂ）高級アルコール及び／又は脂肪酸アルキルエステル並びに（Ｂ）１００質量部に対して２〜１５質量部の（Ｃ）炭素数１〜３のアルコールと、（Ｄ）エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドとを反応させることにより得られる、（Ｅ）特定の非イオン性界面活性剤及び（Ｆ）特定の非イオン性化合物を含有する（Ｇ）界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミ基板に由来するニッケルイオン、ステンレス製の洗浄設備等に由来する鉄イオンの再析出に対して優れた溶解性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで一旦吸着した後、基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつパーティクルの再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を分子内に有するキレート剤（Ａ１）、ホスホン基もしくはリン酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ２）および脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】皮脂汚れ等の洗浄力が良好であり、かつ、使用時における冷水への希釈溶解性、防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）過酸化水素、（Ｃ）炭素数２０〜３０の炭化水素、（Ｄ）有機酸及び／又はその塩、及び（Ｅ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／２０〜１００／１である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
酵素活性の持続性が高く、洗浄性能の持続性が高い自動食器洗浄機用の液体洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）、酵素（ａ）、界面活性剤（ｂ）及び水を含有する自動食器洗い洗浄機用液体洗剤組成物。
【化１】


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

本発明は、親酵素と比較して、キレート剤への改善された安定性を有するアルファ−アミラーゼの変異体含む洗浄組成物、及びそのような組成物を含む洗浄プロセスに関する。 （もっと読む）

【課題】研磨剤由来の研磨粒子残渣の除去性や絶縁膜上の金属残渣の除去性に優れかつ、タングステン配線のタングステン腐食抑制性能に優れたタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】有機アミン（Ａ）、第4級アンモニウムヒドロキシド（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）および水（Ｗ）を必須成分とし、ｐHが７．０〜１４．０であることを特徴とするタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

第１の組成物を収容する少なくとも１つの密封区画を有するパウチを開示する。少なくとも１つの密封区画の少なくとも１つの壁は、任意の好適な厚さを有する水溶性フィルムから形成される。水溶性フィルムは、フィルムが約７６マイクロメートルの厚さを有する場合に、フィルムが約６２０〜約９２０、又は約６６５〜約９２０、又は約７１０〜約９２０の溶解指数、及び約１４５〜約６２６、又は約１５５〜約４８０、又は約１６５〜約３２５の応力指数によって特徴付けられるように、ＰＶＯＨポリマーを含む。
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