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Fターム[4H003EB21]の内容

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【課題】
高屈折率化可能とする硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を使用した、光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
(A)ラクタムを有する化合物、又は(A)ラクタムを有する化合物に(B)芳香環を有する化合物がアルキルベンゼンを添加した洗浄剤および洗浄方法を採用することにより、作業環境が良く、アルカリスクラバーのような特殊な排気装置を設ける必要がなくなった。 (もっと読む)


(A)少なくとも1つの界面活性剤;並びに(B)(i)界面活性特性を有する抗微生物剤;(ii)疎水性物質;及び(iii)極性溶媒を含む、抗微生物組成物を含む製剤を開示する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造の間にウェハの化学機械平坦化(CMP)後の半導体ウェハの洗浄に関し、金属、特に銅、相互接続を含むウェハの後CMP洗浄用アルカリ薬品を提供する。
【解決手段】残留スラリーパーティクル、特に銅または他の金属パーティクルは金属を十分にエッチングする、表面に堆積物を放置する、十分な汚染物を与える、ことをせずに半導体表面から除去され、同時に金属を酸化および腐食から保護する。さらに、少なくとも1つの強キレート剤は溶液中で金属イオンを錯化するために存在し、誘電体からの金属除去を促進しかつウェハ上への再堆積を防止する。 (もっと読む)


半導体集積回路及び/又は液晶のための半導体デバイス上に回路を作製し、及び/又は電極を形成するために有用な、金属及び合金エッチレート(特に銅エッチレート及びTiWエッチレート)の低下したレジスト剥離剤を、その使用方法とともに提供する。好ましい剥離剤は、添加された銅塩とともに、又は銅塩無しで、及び銅塩の可溶性を改善するための添加されたアミンとともに、又はアミン無しで、低い濃度のレゾルシノール又はレゾルシノール誘導体を含有する。更に、これらの方法によって製造された集積回路デバイス及び電気的相互接続構造を提供する。 (もっと読む)


〜Rが明細書に定義されたとおりである式(I)


で表わされるシステイン誘導体、および悪臭防止剤としてのそれらの使用。さらに、それらの製造方法およびそれらを含む消費者製品が記載されている。
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【課題】 人工透析装置や内視鏡などの医療機器に付着したタンパク質や脂肪などの汚れを洗浄し、かつこの汚れの再付着を防止する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩(P)および/または下記一般式(2)で表されるメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩(Q)を必須成分とすることを特徴とする医療機器用洗浄剤を使用する。
HS−(CH2m−SO3-・B+ (1)
HS−(CH2nCOO-・B+ (2)
(式中、mは1〜24の整数、;nは1〜24の整数;B+はプロトンまたは塩基が解離したカチオンを表す。) (もっと読む)


【課題】 酵素およびアルカリ性物質を使うことなく、衣料に付着した汚れに対する洗浄力が高く、かつ汚れを再付着させない衣料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩(P)および/または下記一般式(2)で表されるメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩(Q)、並びにアニオン性界面活性剤(A)からなることを特徴とする衣料用洗浄剤。
HS−(CH2)m−SO3-・B+ (1)
HS−(CH2)n−COO-・B+ (2)
(式中、mは1〜24の整数、;nは2〜24の整数;B+は塩基が解離したカチオンを表す。) (もっと読む)


【課題】 食品加工製造工程において、アルカリ性物質を使用することなく、タンパク質汚れおよび油脂汚れの両方を洗浄することができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩(P)および/または下記一般式(2)で表されるメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩(Q)を必須成分とすることを特徴とする洗浄剤を使用して、食品加工製造設備を洗浄する。
HS−(CH2m−SO3-・B+ (1)
HS−(CH2n−COO-・B+ (2)
(式中、mは1〜24の整数、;nは1〜24の整数;B+はプロトンまたは塩基が解離したカチオンを表す。) (もっと読む)


【課題】レジストアッシング工程後の残留物を効果的に除去すると同時に、ウエハ上に留めたい緻密構造を侵食したり潜在的に劣化させることがない化学配合物を提供する。
【解決手段】フッ化物源を1〜21重量%と、有機アミンを20〜55重量%と、含窒素成分(例えば含窒素カルボン酸またはイミン)を0.5〜40重量%と、水を23〜50重量%と、金属キレート剤を0〜21重量%とを含む半導体ウエハ洗浄配合物。 (もっと読む)


【課題】色剤濃度が高く、また顔料インクを使用するインクジェットプリンタに適用する場合でも優れた洗浄性を発揮し、かつ部材を侵すことなく既存のインクジェットプリンタで使用可能であり、消泡性、防腐防黴効果も優れる新規のインクジェット記録用メンテナンス液が望まれている。
【解決手段】本発明のインクジェット記録用メンテナンス液は、水と、可塑剤と、保湿剤とを含んでなることを特徴とする。さらに、グリコールエーテル類、1,2−アルキルジオール類、アセチレングリコール系界面活性剤等の浸透剤等を含ませることで、さらに洗浄性を向上させることが可能である。 (もっと読む)


本発明は、ジメチルスルホキシド(DMSO)の結晶点を低下させるためのジメチルスルホキシド添加剤としての、少なくとも1種類のジオールおよび/または少なくとも1種類のトリオールの使用に関する。DMSO配合物は、上記添加剤と共に、塗料剥離組成物、表面洗浄組成物、落書き洗浄組成物、マイクロエレクトロニクス分野における表面洗浄組成物、例えばフォトレジスト剥離剤、DMSO系農薬組成物として、または上記組成物の成分として、ポリマーを溶解させる溶媒として、または美容術もしくは薬学の分野で有用な組成物の成分として使用される。 (もっと読む)


【課題】
コンタクトレンズの眼球接触側に付着したタンパク質や脂質などの汚れを洗浄し、かつこの汚れの再付着を防止する洗浄剤を提供する。
【解決手段】
下記一般式(1)で表されるメルカプトアルキルカルボン酸塩(A)を必須成分とすることを特徴とするコンタクトレンズ用洗浄剤。
HS−(CH2)n−CO2-・B+ (1)
(式中、nは1〜24の整数を表し、Bは塩基を表す。) (もっと読む)


【課題】 マイクロエレクトロニクス基板の洗浄のためのマイクロエレクトロニクス洗浄組成物、特にAlまたはAl(Cu)金属被覆基板と同様に、二酸化珪素、高感度低κおよび高κの誘電体、および、銅、タングステン、タンタル、ニッケル、金、コバルト、パラジウム、白金、クローム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ハフニウム、チタン、モリブデン、錫、及びその他の金属被覆が特色であり、かつ相互接続技法が進んだものである、マイクロエレクトロニクス基板との適合性を改良した、それらの洗浄に有用な洗浄組成物を提供する。
【解決手段】 ハロゲン酸素酸、それらの塩および誘導体を含むマイクロエレクトロニクス洗浄組成物を使用する。 (もっと読む)


プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するための洗浄組成物および方法。組成物は、チタン含有、銅含有、タングステン含有、および/またはコバルト含有のエッチング後残留物を含む残留材料の、マイクロ電子デバイスからの非常に有効な洗浄を達成するが、同時に、マイクロ電子デバイス上に同様に存在する層間誘電体、金属相互接続材料、および/またはキャッピング層に損傷を与えない。さらに、組成物は、窒化チタン層をその上に有するマイクロ電子デバイスからそれを除去するためにも有用であり得る。 (もっと読む)


【課題】
コンタクトレンズの眼球接触側に付着したタンパク質や脂質などの汚れを洗浄し、かつこの汚れの再付着を防止する洗浄剤を提供する。
【解決手段】
下記一般式(1)で表される化合物(A)および/または下記一般式(2)で表される化合物(B)を必須成分とすることを特徴とするコンタクトレンズ用洗浄剤
【化1】


【化2】
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【課題】本発明は、十分な防錆性を維持した上でアルカノールアミンなどのアミン類を含まない排水処理性に優れたノンリンス型水溶性洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】アミン非含有タイプのノンリンス型水溶性洗浄剤組成物であって、(1)以下の式(I)で表される化合物と(2)有機酸と(3)無機塩類と(4)無機アルカリと(5)水を含有することを特徴とするノンリンス型水溶性洗浄剤組成物を提供すること。


(式(I)において、Ra、R3、Y、m、及びRbは、請求項1に記載の通りである。) (もっと読む)


【課題】 マイクロエレクトロニクス基板の洗浄のためのマイクロエレクトロニクス洗浄組成物、特にAlまたはAl(Cu)金属被覆基板と同様に、二酸化珪素、高感度低κおよび高κの誘電体、および、銅、タングステン、タンタル、ニッケル、金、コバルト、パラジウム、白金、クローム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ハフニウム、チタン、モリブデン、錫、及びその他の金属被覆が特色であり、かつ相互接続技法が進んだものである、マイクロエレクトロニクス基板との適合性を改良した、それらの洗浄に有用な洗浄組成物を提供する。
【解決手段】 ハロゲン酸素酸、それらの塩および誘導体を含むマイクロエレクトロニクス洗浄組成物を使用する。 (もっと読む)


【課題】化学構造が異なるため物性等が異なる多種類の液晶材料を効率的に除去できる液晶パネル用水系液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記(D),(E),(F),(G)成分および所定量の水を含むことを特徴とする液晶パネル用水系液体洗浄剤組成物。
(D)炭素数8〜20の炭化水素化合物;5〜50質量%
(E)アニオン性界面活性剤;1〜20質量%
(F)下記一般式(4)で示される化合物;1〜40質量%
4O(BO)o5・・・(4)
(式中、R4は炭素数4〜11のアルキル基もしくはアルケニル基、またはフェニル基もしくはベンジル基を、R5は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を、BOは炭素数2〜3のオキシアルキレン基を、oは1〜6の数を示す。)
(G)ジメチルスルホキシド;1〜20質量% (もっと読む)


【課題】洗浄及び殺菌のための濃縮物であって、不所望なホルムアルデヒド臭気を生じることのないシステム洗浄剤濃縮物を提供する。
【解決手段】(i)1つ以上のアルキルアルコールアルコキシレート、(ii)1つ以上のホルムアルデヒドドナー化合物、(iii)任意に、1つ以上の殺生物性の、特には殺菌性の活性成分、(iv)任意に、1つ以上のグリコール、及び(v)任意に、最大10重量%までの水を含有している濃縮物に関する。高含有量のホルムアルデヒドドナー化合物によって調合されうる。 (もっと読む)


本発明は、トイレにおけるN−アルキルチオリン酸トリアミドの使用を記載する。 (もっと読む)


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