【課題】アルキルエーテルサルフェート組成物の流動化剤として有用な新規なアニオン界面活性剤用添加剤、並びに該添加剤を含むアニオン界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】式（１）：ＺＯ（Ａ¹Ｏ）ｎＳＯ₃Ｍ¹、（１）（式中、Ｍ¹はアルカリ金属またはＮＨ₄を示し、Ｚは水素原子又はＳＯ₃Ｍ²（式中、Ｍ²はアルカリ金属、ＮＨ₄又は水素原子を示す）を示し、Ａ¹はＣ２〜４のアルキレン基、ｎは平均値で１．０〜１２の数を示し、−（Ａ¹Ｏ）_n−の分子量は１００〜５５０である）で表される化合物を１種以上含んでなるアニオン界面活性剤用添加剤、および、Ａ成分として前記式（１）で表される化合物を１種以上、Ｂ成分として式（２）：ＲＯ（Ａ²Ｏ）_mＳＯ₃Ｍ³、（２）（式中、ＲはＣ９〜２４の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基、Ａ²はＣ２〜４のアルキレン基、Ｍ³は水素原子、アルカリ金属又はＮＨ₄、ｍは０〜１００の数を示す）で表される化合物を１種以上、及び水を含むアニオン界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】アルキルエーテルサルフェートと流動化剤；アルキレンエーテルグリコール硫酸エステル塩を含むアニオン界面活性剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ＲＯ（Ａ¹Ｏ）_mＨ（Ｒは炭素数９〜２４の直鎖、分岐鎖のアルキル基、アルケニル基、Ａ¹は炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは平均値で０〜１００）、カルボニル価が２μｍｏｌ／ｇ以下の化合物と、ＨＯ（Ａ²Ｏ）_nＨ（式中、Ａ²は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは平均値で０．１〜１００）を、０〜５０℃で混合し、（Ｂ）（Ａ）工程の混合物を三酸化硫黄ガスで硫酸化し、（Ｃ）アルカリ金属化合物、アンモニア水で中和して、ＲＯ（Ａ¹Ｏ）_mＳＯ₃Ｍ¹（式中、Ｍ¹はアルカリ金属、ＮＨ₄）、ＺＯ（Ａ²Ｏ）_nＳＯ₃Ｍ²（Ｍ²はアルカリ金属、ＮＨ₄、Ｚは水素原子、ＳＯ₃Ｍ³（式中、Ｍ³はアルカリ金属、ＮＨ₄、水素原子）、Ａ²及びｎは前記と同じ）で表される化合物および水を含むアニオン界面活性剤組成物の製造。 （もっと読む）

【課題】広い範囲の工業上及び商業上の用途における使用に適切な特性を有する新規の界面活性剤を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）
Ｒ_４ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＲ_２Ｒ_３ＺＲ_１ （Ｉ）
（式中、ＺはＳ，ＳＯ又はＳＯ_２である）による界面活性剤化合物を含む組成物は、Ｚ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４の特定の値によってある範囲の平衡及び／又は動的表面張力及びある範囲の気泡性能を有することができる。式（Ｉ）の化合物はチオールとグリシジルエーテルとの反応を含むプロセスによって製造されうる。 （もっと読む）

【課題】優れた洗浄力を提供するとともに、洗浄と同時にコーティング処理を行う。
【解決手段】脂肪族チオールを水に乳化して又は有機溶媒に溶かして洗浄及びコーティング剤を作り、その洗浄及びコーティング剤を容器に入れそれに金属を浸漬し、その洗浄及びコーティング剤を金属表面から除去する。金属を浸漬した際に容器に振動を加えてもよい。脂肪族チオールは炭素数が１６のものが最も望ましく、また、脂肪族チオールの含有量は約１．０〜１０重量％である。 （もっと読む）

【課題】 繊維間のような形状が複雑な部分に付着し、通常の洗浄では落ちにくい有機物と無機物からなる泥汚れのような混合汚れであっても、効果的に落とすことができる洗浄組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 還元剤（Ｉ）と、フッ化物（ＩＩ）と、窒素を含有する界面活性剤（ａ−１）、または、４級アンモニウム基または３級アミノ基を有するビニル単量体を構成単位として含む高分子化合物（ａ−２）の少なくとも一方（ＩＩＩ）とを含有する洗浄組成物である。この洗浄組成物を含む液中に被洗物を浸漬する工程、または、この洗浄組成物を含む液を被洗物に塗布する工程を有する洗浄方法により、汚れを効果的に洗浄できる。 （もっと読む）

本出願は、活性成分、ポリマーコーティング及び顆粒の中に浸透させる可塑剤から成る力学的に強固な水溶性又は水懸濁性の低粉塵顆粒及びこれらと同様のものを得る方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、洗浄性能および作業安定性が良く、被洗浄物へ悪影響を与える恐れが少なく、特にＩＣ及びＬＳＩ等の半導体素子や液晶パネル素子の製造に有用な洗浄剤組成物を提供することにある。
【解決手段】 含フッ素有機化合物、含酸素有機化合物、及びキレート化剤を含有する洗浄剤組成物を提供する。該洗浄剤組成物は、表面が金属で汚染された基板の洗浄に特に好適に用いられる。なお、含フッ素有機化合物としては、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルが好ましい。
また、本発明の洗浄剤組成物は、表面が金属で汚染された基板の洗浄に好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】 帯電を確実に防止でき、配線等の腐食を起こすこともない、歩留まりよく電気・電子部品の製造が可能となる洗浄剤。
【解決手段】 （１）炭化水素系溶剤が９３〜１００質量％、オクタノール等の（２）炭化水素系溶剤以外の有機溶剤が０〜７質量％、及びテトラオクチルアンモニウム・２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−（トリフルオロメタンスルフォニル）アセタミド等の（３）下記一般式（Ｉ）
【化１】


｛上記式中、ＺはＮ又はＰ、Ｒ^１〜Ｒ^４は炭素数４〜２０の置換されていてもよい炭化水素基を示し、該Ｒ^１〜Ｒ^４のうち最も炭素数の多い基と、最も少ない基との炭素数の比は２以下であり、Ｘ⁻は下記式（II）
【化２】


（上記式中、Ａ^１、Ａ^２はフルオロアシル基等を示す）で示されるアニオンを示す。｝で示される有機オニウム塩が（１）と（２）の合計１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部を主成分とする洗浄剤。
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マイクロエレクトロニクスの基板を洗浄するための剥離および洗浄組成物であって、少なくとも１種の有機剥離溶媒、少なくとも１種の求核性アミン、剥離組成物が約９.６ないし約１０.９の水中ｐＨを有するように、求核性アミンの重量の約３％ないし約７５％を中和するのに十分な量の少なくとも１種の窒素不含弱酸であって、水性溶液中のｐＫ値２.０またはそれ以上および１４０より小さい当量を有する弱酸、ジエチレングリコールおよびジエチレングリコールアミンからなる群から選択される少なくとも１種の金属除去化合物、および水を含む組成物、並びにこれらの組成物を用いてマイクロエレクトロニクスの基板を洗浄する方法。 （もっと読む）

【課題】初期抗菌性能や抗菌性能の持続性に優れるとともに、対応できる菌類の種類も多く、かつ、安全性からも問題のない抗菌性組成物および抗菌性組成物を備えた抗菌性樹脂成形体を提供する。
【解決手段】有機系抗菌剤と無機系抗菌剤を含有する抗菌性組成物であり、無機系抗菌剤として銀または銅を担持したリン酸ジルコニウムまたはその塩を、有機系抗菌剤として２−メルカプトピリジン−Ｎ−オキシドナトリウム、カルベンダジム（１Ｈ−２−ベンゾイミダゾールカルバミン酸メチル）、チアベンダゾール（２−（４−チアゾリル）−１Ｈ−ベンゾイミダゾール）を使用でき、これらの成分はハロゲンを含まないので、抗菌性組成物をハロゲンレスとすることができる。この抗菌性組成物は、樹脂材料と共に成形したり、塗布剤と共に樹脂成形体に塗布するなどにより抗菌性樹脂成形体として適用することができる。 （もっと読む）

本発明は、以下の成分：（ａ）０．１重量％〜１０重量％のアルコキシル化アニオン性洗浄界面活性剤と、（ｂ）１重量％〜２５重量％の非アルコキシル化アニオン性洗浄界面活性剤と、（ｄ）０重量％〜４重量％のゼオライトビルダーと、（ｅ）０重量％〜４重量％のホスフェートビルダーと、（ｆ）０重量％〜１０重量％のケイ酸塩とを含む固体洗濯洗剤組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 より長期間、防黴及び鮮度保持効果を持続可能な食品洗浄剤の提供。
【解決手段】 イソチアン酸エステル類のサイクロデキストリン包接化合物と貝殻焼成カルシウム含有成分とを含むことを特徴とする食品洗浄剤。 （もっと読む）

本発明は、半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物に関する。これらの組成物は、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 （もっと読む）

本発明は、新規のアルキルグリシドールカーボネート、及び補助界面活性剤としての該アルキルグリシドールカーボネートの使用に関する。補助界面活性剤は、家庭用洗剤、家庭用洗浄剤、ボディー用洗浄剤及びボディケア剤における使用のために適当である。 （もっと読む）

【課題】
添加剤を含む洗浄液で電子部品を洗浄した後、該電子部品表面に付着している添加剤を、電子部品表面を酸化させることなく除去し、添加剤による汚染が低減された良好な表面を実現するための新規な後洗浄液及び該洗浄液を用いた洗浄方法の提供。
【解決手段】
水溶性アルコール系溶媒及び／又は水溶性の酸化イオウ含有溶媒、フッ素化合物及び水を含有することを特徴とする電子部品用の後洗浄液及び該洗浄液を用いた電子部品の洗浄方法。 （もっと読む）

以下の式１および２（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立に、Ｈ、Ｃ_１〜５アルキルまたはＣ_１〜５置換アルキルであり、Ｘは−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−ＯＣＨ_３、−Ｃ（ＯＲ）_２Ｈ、−ＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ_３および−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^７（Ｒ^７はＣ_１〜５アルキルである）からなる群から選択される）のうちの１つを有する誘導体は、芳香剤として有用である。
【化１】

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【課題】
シリコンやシリコン部分以外の金属の侵食を抑制しながら、電子部品の表面に付着した微細なゴミや有機物を効率的に洗浄除去でき、かつ液が白濁しにくい新たな電子部品用洗浄液の提供。
【解決手段】
アニオン系界面活性剤、水酸化物、金属の腐食抑制剤、水、下記式（Ｉ）で示されるノニオン系界面活性剤及び／又は下記式（ＩＩ）で示されるノニオン系界面活性剤を含有することを特徴とする電子部品洗浄液。
ＨＯ−（（ＥＯ）_x−（ＰＯ）_y）_z−Ｈ （Ｉ）
Ｒ−［（（ＥＯ）_a−（ＰＯ）_b）_c−Ｈ］_m （ＩＩ）
（ＥＯはオキシエチレン基を表わし、ＰＯはオキシプロピレン基を表わす。ｘ及びｙはｘ／（ｘ＋ｙ）が、ａ及びｂはａ／（ａ＋ｂ）が０．０５〜０．５を満足する正の数を表わす。ｚ、ｃは正の整数を表わし、Ｒは、１価〜４価の基で表されるアルコール又はアミンの水酸基から水素原子を取り除いた残基等を表す。） （もっと読む）

【課題】基材から残留物を除去できる組成物及び方法の提供。
【解決手段】約２０％〜約８０％の有機極性溶剤、約１０重量％〜約６０重量％の水、約１重量％〜約１０重量％の第四級アンモニウム化合物、場合により約０．１重量％〜約５重量％のヒドロキシルアミン、また場合により約０．１重量％〜約１０重量％のフッ化物イオン源、及び、メルカプト含有腐食抑制剤を含む組成物。金属腐食抑制剤はメルカプトベンズオキサゾール等の特定のメルカプト基含有複素環化合物、−ＯＨ，−ＣＯＯＨ，−ＮＨ_２等を有する特定のアルキルメルカプタン，２−メルカプトチアゾリン，３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン及びその混合物から選ばれる。 （もっと読む）

例えば前述の銀合金である金属を処理する際に使用するために開示したものは、アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、前記処理剤を可溶化する上で有用な濃度の、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含む水性組成物である。好ましくは、本組成物が、少なくとも非イオン性であり比較的疎水性である界面活性剤（例えばココアミドDEA）を含む。本組成物は、 Ag-Cu-Ge 合金の処理に際して特に適している。 （もっと読む）

本開示は、半導体装置の製造中における化学的機械的平坦化（ＣＭＰ）後の半導体ウエハの洗浄を検討する。金属特に銅の相互接続を含有するウエハのＣＭＰ後洗浄のための酸性化学剤が開示されている。残存スラリー粒子、特に銅または他の金属粒子は、金属を有意にエッチングすることなく、表面に付着物を残すことなく、または有意の有機（炭素のような）汚染質を表面に与えることなく、しかも金属を酸化および腐食から保護しながら、表面から除去される。さらに、溶液中の金属イオンを錯化し、誘電体からの金属の除去を促進し、ウエハ上への再付着を防止するために、少なくとも１種の強力なキレート化剤が存在する。酸性化学剤を用いると、ＣＭＰ後に使用される洗浄溶液のｐＨをウエハ表面で使用された最後のスラリーのそれとマッチさせることができる。 （もっと読む）