【課題】フォトレジストパターンの残渣物及びエッチング残渣物を効果的に剥離除去することができ、金属に対する防食性に優れ、さらには長時間の継続使用も可能なフォトリソグラフィ用剥離液、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィ用剥離液は、（Ａ）フッ化水素酸、（Ｂ）一般式（ｂ−１）で表される塩基性化合物、及び（Ｃ）水を含有する。式中、Ｒ^１ｂからＲ^５ｂは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を示し、Ｒ^１ｂからＲ^５ｂの少なくとも１つは水素原子である。Ｒ^１ｂからＲ^４ｂのうちいずれか１つとＲ^５ｂとが相互に結合して環構造を形成してもよい。Ｙ^１ｂ及びＹ^２ｂは炭素数１〜３のアルキレン基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。ｎが２以上のとき、複数のＲ^５ｂ同士及び複数のＹ^１ｂ同士は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ^５ｂ同士が相互に結合して環構造を形成してもよい。
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【課題】硬質材料表面に付着するスケールを材料表面の腐食・劣化を発生させることなく、効率的に除去する方法を提供する。
【解決手段】難除去性無機系スケール付着硬質材料表面に対し、以下に示す三つの処理ステップを実施する。第１ステップ：スケールが付着している硬質材料表面に対する酸性洗浄剤による洗浄処理の実施。なお、酸性洗浄剤としてメタンスルホン酸とヒドロキシカルボン酸との混合液の使用が特に好ましい。第２ステップ：第１ステップ処理面に対する乾燥処理の実施。第３ステップ：第２ステップ処理面に対するアルカリ性洗浄剤による洗浄処理の実施。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板、電極または配線上に存在する有無機汚染物またはパーティクルを除去することが可能な平板表示装置用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の平板表示装置用洗浄剤組成物は、組成物の総重量に対して、第４級アンモニウム塩化合物０．０１〜１０重量％、グリコールエーテル化合物０．０１〜１０重量％、リン酸エステル化合物０．０１〜１０重量％、グリセリン化合物０．０１〜５重量％及び接触角低下剤０．０１〜１重量％を含有し、残部が水からなる。 （もっと読む）

【課題】成形加工機の洗浄状態の目視による確認が容易である、成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂と亜リン酸エステルを含む酸化防止剤を含有する成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物であって、前記亜リン酸エステルが、6-[3-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロポキシ]-2,4,8,10-テトラ-t-ブチルジベンズ[d,f][1,3,2]ジオキソフォスフェピンである成形加工機洗浄用の熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物及び組成物が求められている。
【解決手段】本発明は、新規なスルホペルオキシカルボン酸化合物、組成物、化合物製造と使用の方法に関連している。本発明のスルホペルオキシカルボン酸化合物は貯蔵安定性を有し、水溶性で、低臭または無臭である。さらに、本発明の化合物は非石油系再生油から抽出されている。本発明の組成物は殺菌剤、および漂白剤として使用される。本発明の化合物はまた、カップリング剤としての使用にも適している。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第１剤と第２剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第１剤がアミン化合物を含有し、前記第２剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】 金属部品類の加工用油の基油組成を加工後における洗浄剤の組成と近づけることにより、良好な加工性及び洗浄性を維持しながら洗浄後の洗浄剤の蒸留回収率を高める。
【解決手段】 本発明に係る金属部品類の加工用油は、炭素数１０〜１３の飽和炭化水素成分を少なくとも９０容量％以上含有してなる金属部品類の洗浄用油を基油として、該基油に、添加剤として極圧剤、油性剤、粘度指数向上剤、酸化防止剤、流動点降下剤、さび止め剤のうち、少なくとも１種を混合してなる。 （もっと読む）

【課題】腐食抑制剤システム、特にアルカリ条件（特に食品および製薬の産業における）下におけるアルミニウムまたは着色金属およびその合金の表面用洗浄・腐食抑制組成物を提供する。
【解決手段】表面用洗浄・腐食抑制組成物は、一般式


［式中、Ｚは−Ｏ−Ｍまたは


のいずれかである。］で示される少なくとも一種のアルキレンオキシ−アルキルホスフェートジエステルまたはトリエステルを含有する。 （もっと読む）

マイクロエマルジョンを構成する複数の成分の相の挙動の識別に基づく方法を使用するマイクロエマルジョンの調製法が開示される。さらに開示されるのは、第一成分、カップリング剤および表面活性剤を含んでなるマイクロエマルジョン組成物である。 （もっと読む）

本発明は、１以上の冷水プロテアーゼを含む布地ケア製品及びホームケア製品、並びにこのような製品の製造及び使用プロセスに関する。このような組成物は、改善された洗浄性及び洗いたて特性を提供する。このような冷水プロテアーゼは、サブチリシンＢＰＮ’及びＢａｃｉｌｌｕｓ Ｌｅｎｔｕｓから誘導されるサブチリシンを含む、親酵素のアミノ酸を１つ以上置換、挿入及び／又は欠失することで、親酵素から誘導することができる。
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【課題】アンモニア、トリメチルアミン、メチルメルカプタン、そして硫化水素四大悪臭に対して消臭力を発揮する消臭石鹸を提供。
【解決手段】酸性ガスであるメチルメルカプタンと硫化水素に対しては強い効果を発揮するクロロフィリンとアルカリガスであるアンモニアとトリメチルアミンに対して強い効果を持つ柿タンニンを混合してなる、悪臭原因が偏ったものであろうと複合的なものであろうと万遍なく強い消臭効果を発揮する最強の消臭石鹸。 （もっと読む）

制御雰囲気鑞付けアルミニウム熱交換器を含む自動車冷却系の急速洗浄および保護のための方法および処理システムを開示する。該方法および処理システムは、任意にコンディショニング（不動態化）段階を含みうる。該処理システムは３つの異なる部分からなりうる。それは、（１）洗浄剤または洗浄液、（２）コンディショナーまたはコンディショナー溶液、および（３）相溶性ＣＡＢアルミニウム保護熱媒液である。
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優れたグリース洗浄及び光沢をもたらすための、キレート剤及び分枝状界面活性剤を含む食器手洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】選択ビタミンＢ類、すなわち、ピリドキシンおよびその塩類、ならびにチアミンおよびその塩類を使用する改良された眼科用溶液に関し、溶液をより効果的に防腐処理をし、コンタクトレンズ上にカチオン性防腐剤が沈着するのを一定程度減少させること。
【解決手段】０．００１〜１０重量％の、チアミン(B1)、リボフラビン(B2)、ナイアシン(B3)、デクスパンテノール、パントテン酸(B5)、およびピリドキシン(B6)からなる群から選択される防腐剤増強剤、ならびに少なくとも０．０００１重量％のカチオン性防腐剤を含むコンタクトレンズ用溶液であって、前記溶液が０．２モルパーセント以下の塩化物濃度を有する。 （もっと読む）

【課題】 微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れると共に基板上の金属汚染が低減でき、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 スルファミン酸（Ａ）、分子内に少なくとも１個のスルホン酸基又はその塩基を有するアニオン性界面活性剤（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）及び水を含有してなる電子材料用洗浄剤であり、２５℃でのｐＨが３以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性と再汚染防止性に優れ、洗濯物に帯電防止性を付与することができ、また洗濯物を消臭することのできるドライクリーニング用洗浄剤組成物及びそれを用いたドライクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 テルペン系溶剤を５容量％以上含む溶剤を洗浄用溶剤として用いるドライクリーニングにおいて、該洗浄用溶剤に添加されるドライクリーニング用洗浄剤組成物であって、リン酸エステル化合物及びアルカノールアミンを含有するドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

例えば、消毒剤および／または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水性調合物を酵素的に生成するための多成分ペルオキシカルボン酸発生システムが本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸発生システムは、過加水分解活性を有する少なくとも１つの炭水化物エステラーゼ族７酵素を含む。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明の一実施形態によると、腐食防止剤と、可溶化剤と、脱酸素剤と、ｐＨ調整剤としても機能する錯化剤とを含む洗浄溶液が提供されている。本発明の別の実施形態では、ｐＨ調整剤と、随意的な錯化剤と、腐食防止剤とを含む洗浄溶液が提供されている。洗浄溶液は、可溶化剤を随意的に有してもよく、界面活性剤を随意的に有してもよく、誘電体エッチャントを随意的に有してもよい。 （もっと読む）

この発明は、イオン性液体を含むチューイングガム改変組成物を用いて基材からチューイングガムおよびその残滓を除去するための方法に関する。一実施形態において、チューイングガム改変組成物は、１種または複数の酸化試薬と共に用いられ得る。別の実施形態において、チューイングガム除去組成物は、１種または複数の酵素および１種または複数の酵素メディエータ化合物をさらに含む。本発明は、さらに、チューイングガム残滓の除去における使用に好適である新規なイオン性液体および酵素組成物に関する。 （もっと読む）

多量の低アルカリ含有量で因襲的なアルカリ清浄剤よりも優れた清浄力を有し、飲用水において、および例外的な硬水においてさえも、１ガロン当たり約１／４０オンスから約１／１０オンスに希釈された場合であってさえも増大されたスケール制御性を有する効果硬質表面、医療器具および他の金属成分（部品、道具、家庭用品、容器、機器）の清浄において使用するためのアルカリ濃縮洗浄組成物。本発明の組成物は、使用中においてその優れた清浄力およびスケール制御性を維持する。 （もっと読む）