【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】弱酸性乃至中性領域で大腸菌及び黄色ブドウ球菌に対する殺菌力に優れ、更に泡立ち、泡のクリーミー性、及びすすぎ性に優れ、皮膚刺激性の少ない液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸カリウム６質量％〜２０質量％、（Ｂ）ノニオン性殺菌剤、及び（Ｃ）キレート剤のカリウム塩を含有し、前記（Ａ）成分の含有量と、前記（Ｃ）成分の含有量との質量比（Ａ／Ｃ）が、３〜２００である液体洗浄剤組成物である。２５℃でのｐＨが４〜７である態様、更に（Ｄ）多価アルコールを含有する態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】生乾き臭の発生を抑制し、かつ香りの保存安定性に優れ、香り立ちもよい繊維製品用液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】成分(A)〜(D)を含有する繊維製品用液体洗浄剤組成物。
(A) 一般式(1)で表される非イオン界面活性剤 30〜70質量％
Ｒ(ＣＯ)_pＯ−[(Ｃ₂Ｈ₄Ｏ)_q／(ＡＯ)_r]Ｒ' (1)
(B) 過酸化水素 0.3〜10質量％
(C) カチオン界面活性剤 0.1〜５質量％
(D) 成分(d1)を20〜100質量％含有し、成分(d2)の許容含有量が10質量％である香料組成物
(d1) ジヒドロミルセノール、γ-ウンデカラクトン、クマリン等から選ばれる１又は２以上の香料
(d2) ジメチルベンジルカルビニルアセテート、フェニルヘキサノール、酢酸シトロネリル及びヘリオトロピンから選ばれる１又は２以上の香料 （もっと読む）

【課題】金属の混入や露光などの過酷な条件下においても過酸化水素を安定に配合でき、ガス発生レベルで過酸化水素分解を抑制すると共に、長期保存後も液の黄変化や分離など、品質劣化を起こさない、過酸化水素と高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）過酸化水素、（Ｂ）特定の非イオン界面活性剤、（Ｃ）有機ポリホスホン酸又はその塩、（Ｄ）特定のヒドロキシフェニル化合物、（Ｅ）（Ｅ１）炭素数８〜２２の脂肪酸又はその塩及び（Ｅ２）カルボキシ基を有する構成単位を有する高分子重合体から選ばれる１種以上のカルボン酸系化合物、並びに水を含有し、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３．０〜６．０である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨後の表面粗さの悪化を抑制し、かつ、洗浄性に優れる酸性洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】平均付加モル数が１０〜９０である炭素数２〜４のオキシアルキレン基と、アニオン性基（カルボン酸基を除く）又はその塩とを有する水溶性化合物、酸、及び水を含み、２５℃におけるｐＨが０．５を超え５．０未満である、シリカ研磨材及び／又はシリカ研磨屑が付着した電子材料基板を洗浄するための電子材料基板用酸性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】研磨材や研磨屑等の無機粒子に対する洗浄性が向上したガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）〜（４）を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。（１）ｐＨが１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ａに浸漬しながら、洗浄工程（３）に搬送する工程。（３）工程（２）で搬送された基板を、ｐＨ８．０〜１３．０のアルカリ性洗浄剤組成物Ｂを用いて浸漬洗浄する工程。（４）工程（３）で得られた基板を、ｐＨ１．０〜４．０の酸性洗浄剤組成物Ｃを用いてスクラブ洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】繊維製品の生乾き臭の生成を抑制し、再発性の生乾き臭に対しても抑制効果の高い液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】非イオン界面活性剤（Ａ）、特定の陽イオン界面活性剤（Ｂ）、過酸化水素（Ｄ）をそれぞれ特定範囲で含有し、水を含有する液体洗浄剤組成物であって、（Ａ）として下記一般式（Ａ１）で示される非イオン性化合物（Ａ１）を組成物中に０．５〜１０質量％含有し、（Ｂ）成分に対する、脂肪酸及びその塩以外の陰イオン界面活性剤（ｃ１）の割合が（ｃ１）／（Ｂ）の質量比で０〜１であり、ＪＩＳ Ｋ３３６２：１９９８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３．０〜７．０である、液体洗浄剤組成物。
Ｒ−Ｏ−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_x−Ｈ （Ａ１）
〔式中、Ｒは炭素数１２の直鎖アルキル基であり、Ｒ−Ｏ−の酸素原子に結合するＲの炭素原子が第１級炭素原子である。ｘはエチレンオキシ基の付加モル数であって２〜５の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤と、（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤と、（Ｃ）成分：ノニオン界面活性剤とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．０５〜１５、（Ａ）成分／［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］で表される質量比が０．３５〜０．９５であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】クレンジングバー系の香料性能デリバリー、及び、より詳細には香料性能（香料性能増進率即ち“ＰＥＦ”として測定）を増進させる方法であり、香料の効果（例えば、持続性）を比較バーに比べて増進させた香料含有バー組成物を提供する。
【解決手段】香料含有バーに約３５重量％未満の可溶性界面活性剤を含有させる。更に、例えば、不溶性有効成分に相対的な可溶性有効成分のレベルをコントロールすることによって、及び／または、香料のレベルを増加することによって、香料の付着／持続を増進させる方法を含む。 （もっと読む）

【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、（ｂ）配位子数が１０個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、及び（ｃ）配位子数が１１個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％を含有するものとする。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 フラボノイド化合物（Ａ）および水を必須成分として含有する電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】疎水性汚れや色素汚れといった複数の汚れに対しても優れた漂白効果や洗浄効果が得られる液体漂白剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素又は水中で過酸化水素を発生する化合物、（ｂ）特定のアルキルポリグリコシド、（ｃ１）アルキル基の炭素数が８〜１８、オキシアルキレン基の平均付加モル数が７〜１２のポリオキシアルキレンアルキルエーテル、（ｃ２）アルキル基の炭素数が８〜１８、オキシアルキレン基の平均付加モル数が２〜５のポリオキシアルキレンアルキルエーテル、及び（ｄ）水を混合する工程を有する液体漂白剤組成物の製造方法であって、混合する全成分中の割合が、（ａ）０．１〜３０質量％（過酸化水素として）、（ｂ）０．５〜１０質量％、（ｃ１）と（ｃ２）の合計が１〜２０質量％であり、且つ（ｂ）と（ｃ１）と（ｃ２）とを（ｂ）／〔（ｃ１）＋（ｃ２）〕＝１／１０〜２０／１０の質量比で、（ｃ１）と（ｃ２）とを（ｃ１）／（ｃ２）＝１２／１〜４０／１の質量比で混合する、液体漂白剤組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】
基板に付着したパーティクルは時間が経過するとともに除去しづらくなるが、基板の保管や運搬などで時間が経過した基板からこれらのパーティクルを除去するメディアイ工程でも、パーティクルを十分に除去することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される脂肪族アルコールもしくはそのオキシアルキレン付加物の硫酸エステル塩、アルカリ、キレート剤および水を必須成分として含有することを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。
ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−ＳＯ_３⁻・1/f Ｍ^f+ （１）
［式（１）中のＲが脂肪族炭化水素基；Ｍ^f+はアルカリ金属、アンモニウムまたはアミンのカチオン；ＡＯはオキシアルキレン基。ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を表し０〜２０の数である。］ （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）酸性ｐＨ条件下で、非アルファスルホン化カルボン酸を酸化剤と接触させて、スルホペルオキシカルボン酸を製造する工程を含む、化学式Ｉ：


｛式中、Ｒ１は、（非）置換Ｃｍアルキル基であり；Ｒ２は、（非）置換Ｃｎアルキル基であり；Ｘは、水素、カチオン性基、またはエステル形成部分であり；ｎ，ｍは、１〜１０であり；そしてｍ＋ｎは、１８以下である。｝の化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】繊維製品に対し、優れた残香性で賦香できる漂白性組成物及びこれを用いた洗濯方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：過酸化水素又は水中で過酸化水素を発生する過酸化物と、（Ｂ）成分：Ｃａ^２＋に対するキレート安定度定数の対数値が５．５以上、Ｆｅ^３＋に対するキレート安定度定数の対数値が１０以上、かつＣｕ^２＋に対するキレート安定度定数の対数値が１０以上のキレート剤と、（Ｃ）成分：１−オクタノール／水分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰが３．８未満の香料成分とを含有し、脂肪酸トリグリセライド２〜２００μｇ／ｃｍ^３を含有する水に分散して用いることよりなる。 （もっと読む）