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Fターム[4H003ED02]の内容

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Fターム[4H003ED02]に分類される特許

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【課題】香料の限定なしでオーバーキャップを開けたときの匂い立ちがよい液体漂白剤物品の提供を目的とする。
【解決手段】(A)香料組成物、(B)非イオン界面活性剤:2.5〜50質量%、(C)過酸化水素を含有する液体漂白剤組成物を、
前記液体漂白剤組成物を収納する収納容器に、前記容器の口元部に装着され注出ノズルを備えた中栓体と前記中栓体に装着されたオーバーキャップからなる注出具を前記収納容器の口元部に取り付けた液体注出容器に充填し、
液体漂白剤組成物500g中の溶存気体量が1.0mL以上2.0mL以下であり、液体漂白剤組成物を充填後の収納容器の空隙体積(mL)/注出具の容積(mL)の体積比が1/1〜4/1であり、かつ、収納容器の上部断面積(cm)/中栓体の断面積(cm)の面積比が2.5/1〜3.5/1であることを特徴とする液体漂白製物品。 (もっと読む)


【課題】低反射率をもたらす、シリコンウェハー表面でのピラミッドの均一かつ密な分布を与える。
【解決手段】1種以上の界面活性剤を有する、シリコンウェハーをテクスチャ形成するためのテクスチャ形成前処理組成物。1種以上の界面活性剤を有するテクスチャ形成前処理組成物でシリコンウェハーを濡らす工程に続いて、テクスチャ形成工程を有する、シリコンウェハーのテクスチャ形成方法。 (もっと読む)


【課題】泡質、皮膚刺激感、感触及び安全性の全てにおいて十分に満足のいくフォーマー容器入り液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)界面活性剤と(B)多価アルコール5〜20質量%を含有するフォーマー容器入り液体洗浄剤組成物であって、(A)界面活性剤が、(a1)N−アシルグリシン型界面活性剤、(a2)両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤、並びに(a3)高級脂肪酸石鹸を含有することを特徴とする、フォーマー容器入り液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、低温での安定性が良好で、油共存下でも洗い始めから泡量が多く、その持続性も良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】式(a1)及び、式(b1)で表される化合物と、両性及び/又は半極性界面活性剤(c)とを含有する液体洗浄剤組成物。
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【課題】アルカリ液中において腐食感受性である金属の洗浄に対して、特に、アルミニウムもしくはその合金のような軟質金属、または亜鉛めっき鋼のようなガルバナイズドスチールの洗浄に対して好適で、また追加の機械的処理を必要とせずに到達することが困難な内側の表面の洗浄を可能にするアルカリ洗浄組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄するための組成物であって少なくとも1種のアルカリ源、元素周期表の第2または第3の主族の元素から選択される少なくとも1種のカチオンを含む少なくとも1種の無機塩を含み、これにより組成物がいずれのトリアゾールおよび/またはいずれのアルカリ金属ホウ酸塩も含まない組成物、該組成物を含む水性濃厚物、該組成物または該水性濃厚物を含む使用溶液、ならびに、上記の水性濃厚物または任意の上記の使用溶液を用いて、アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄する方法である。 (もっと読む)


【課題】ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる1種又は2種以上の樹脂から形成された内壁表面を有する容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着又は収着を有効に防止して、良好な泡質と優れた低刺激性を兼ね備えながらも、殺菌効果に優れた洗浄剤を提供すること。
【解決手段】(A)N−アシル酸性アミノ酸又はその塩、(B)イソプロピルメチルフェノール、及び(C)ジプロピレングリコールを特定量で含有し、かつ(D)エタノール及びイソプロパノールの合計含有量が2質量%以下であり、或いは(D)エタノール又はイソプロパノールを含有せず、成分(B)の含有量に対する成分(C)の含有量が特定の関係にある洗浄剤を、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂から形成された内壁表面を有する容器に充填してなる洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、(A)成分として、アルカリ剤、(B)成分として、次亜塩素酸塩、(C)成分として、重合リン酸塩、(D)成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に1個以上のアミノ基および1個以上のスルホン酸基を有する化合物(A)またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】洗浄力を低下させることなく、従来以上に濯ぎ性に優れた、安定性の良い濃縮タイプの衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(I)で表される非イオン性界面活性剤、(B)陰イオン性界面活性剤、(C)水混和性有機溶剤5〜40質量%、及び(D)水を含有し、(A)成分と(B)成分の合計量が35〜55質量%であり、(A)成分と(B)成分の質量比〔(A)成分/(B)成分〕が70/30〜90/10であり、JISK3362:1998記載の25℃で測定する組成物のpHが6.5〜10.0である衣料用液体洗浄剤組成物。R1−Y−(EO)n−R2(I)(式中、R1は炭化水素基であり、−Y−は−O−又は−COO−であり、R1−Y−は総炭素数8〜22である。EOはエチレンオキシ基を表し、nは平均付加モル数を表し、nは14〜30の数である。R2は水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基である。) (もっと読む)


【課題】泡質、皮膚刺激感、感触及び安定性の全てにおいて十分に満足のいくフォーマー容器入り液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)界面活性剤と(B)多価アルコールを含有するフォーマー容器入り液体洗浄剤組成物であって、(A)界面活性剤が、(a1)N−アシルグルタミン酸系アニオン性界面活性剤、(a2)下記一般式(1)で表されるベタイン型両性界面活性剤及び(a3)高級脂肪酸石鹸を含有することを特徴とする、フォーマー容器入り液体洗浄剤組成物


(式中、Rは炭素数6〜20のアルキル基を示し、Rはメチル基、エチル基、又はヒドロキシエチル基を示し、R3はメチル基、エチル基、又は−CHCOOH基を示し、nは1〜3の整数を示す。) (もっと読む)


【課題】洗浄性、防曇性、防汚性、帯電防止性、吸湿性などの多機能性を有する防曇化及び/又は防汚化処理用水性組成物、及び防曇化及び/又は防汚化処理用水性組成物が含浸または塗布された基材をも提供する。
【解決手段】防曇化及び/又は防汚化処理用水性組成物は、下記式(1)


で表されるグアニジン骨格を含む非環式グアニジン化合物と、有機カルボン酸、その酸無水物、金属塩、エスエルの中から選ばれる少なくとも1種のカルボキシ化合物と、親水性多孔質無機微粒子とを、水性液中に含む。 (もっと読む)


【課題】基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。
【解決手段】
半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分(A)〜(D)を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。
(A)有機酸
(B)スルホン酸型アニオン性界面活性剤
(C)ポリビニルピロリドン及びポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシドブロック共重合体から選ばれる少なくとも1種の高分子凝集剤
(D)水 (もっと読む)


【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができるバイオフィルム除去剤、バイオフィルム除去用組成物、および、バイオフィルムの除去方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)
[化1]


(式中、Rは直鎖状又は分岐状の炭素数14〜20のアルキル基であり、Rは、−(C2mO)Hで表され、mが2〜4の整数、nが任意の整数の基であり、XはCl、F、Br、I、又はCHSOである。)
で表される化合物からなるバイオフィルム除去剤、このバイオフィルム除去剤を含有するバイオフィルム除去用組成物、および、このバイオフィルム除去用組成物を用いたバイオフィルムの除去方法に関する。 (もっと読む)


【課題】経時安定性に優れた液状及びゲル状洗浄剤組成物を提供する。
【解決方法】液状及びゲル状洗浄剤組成物は、(A)式(I)で示されるポリオキシアルキレンポリオール脂肪酸エステルと、(B)アルキル硫酸エステル塩及びポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩と、(C)アミノ酸系を含む上記(B)を除いたアニオン界面活性剤と、(D)両性界面活性剤と、(E)バッファ剤とを含有する。


(式中、Pはヒドロキシル基を除いたポリオール残基で、AOは炭素数3及び/又は4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、Rは炭素数8〜36の脂肪酸残基あるいは水素原子でエステル化率は50〜100%である。mは炭素数3及び/又は4のオキシアルキレン基の平均付加モル数でm×a=0〜10、nはオキシエチレン基の平均付加モル数でn×a=100〜250、aは4〜42の範囲でポリオールの価数を示す。) (もっと読む)


【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】高級アルコール硫酸エステル塩を高濃度で含有し、且つ流動性及び保存安定性に優れた陰イオン界面活性剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)高級アルコールの硫酸エステル塩55〜70質量%、(b)炭素数10〜22の高級アルコール0.10〜4.0質量%、(c)アルカリ金属炭酸塩0.10〜3.9質量%、(d)アルカリ金属水酸化物0.10〜1.9質量%、及び水を含有する、陰イオン界面活性剤組成物。 (もっと読む)


【課題】衣料の衿や袖口汚れ等の頑固な皮脂汚れに対して高い洗浄効果を有する塗布用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)下記一般式(a1)で示される非イオン界面活性剤、(b)陰イオン界面活性剤、(c)陽イオン界面活性剤を含有する塗布用洗浄剤組成物であって、(a)+(b)+(c)=40〜90質量%であり、(a)/〔(b)+(c)〕質量比が0.5〜5であり、(b)/(c)質量比が0.3〜2.5である塗布用洗浄剤組成物。R−O−[(EO)m/(PO)n]−H(a1)〔式中、RはC8〜20の炭化水素基、EOはエチレンオキシ基、POはプロピレンオキシ基、m及びnは平均付加モル数であり、mは14〜22、nは1〜5である。“/”はEOとPOはランダム付加体でもブロック付加体でも何れでも良く、EOとPOの付加順序は問わない。〕 (もっと読む)


【課題】角層を除去し、肌表面のつるつる感が得られる皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の皮膚洗浄剤組成物は、次の成分(A)〜(D):
(A)炭素数12〜22の脂肪酸またはその塩 0.25質量%以上25質量%以下、
(B)グリセリルエーテル2エチルヘキシル 0.04質量%以上10質量%以下、
(C)(C−1)炭素数8〜16の炭化水素基を有する高級アルコール及び/又は(C−2)炭素数8〜16の炭化水素基を有するモノグリセリン脂肪酸エステル 0.02質量%以上5質量%以下、
(D)水
を含有し、
0.92≧(A)/((A)+(B)+(C))≧0.68(質量比)
であって、5質量%となるように水で希釈したときのpHが7以上12以下(25℃)の範囲である。 (もっと読む)


【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力、衣料への香料成分の吸着力に優れ、原液は低泡性且つ消泡性に優れ、その一方で洗浄濃度の希釈液は高起泡性であり、更に水で組成物を希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)エチレンオキシ基と炭素数3〜5のアルキレンオキシ基とを特定条件で含む特定の非イオン界面活性剤、(b)陰イオン界面活性剤、(c)陽イオン界面活性剤、(d)シリコーン、(e)LogPが3以上である香料化合物及び(f)水混和性溶剤を、それぞれ特定比率で含有する液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】26〜40質量%の水酸化ナトリウムとエチレンジアミン四酢酸および/またはその塩を含有する洗浄剤組成物において、常温、つまり−5〜40℃において長期間結晶析出、あるいは凍結することのない安定で且つ高濃縮化した硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A)成分として水酸化ナトリウムを26〜40質量%、(B)成分としてエチレンジアミン四酢酸および/またはその塩、(C)成分としてトリエチレンテトラアミン六酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミン二コハク酸およびこれらの塩から選択される少なくとも1種の可溶化剤、および(D)成分として水を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


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