【課題】洗浄後の乾燥時に結露が発生しにくく、またブレーキダストが付着したホイール内側等を洗浄する場合においても洗浄性に優れ、さらにホイール表面等の塗膜に対する侵食性が低い洗浄剤組成物及びそれを用いたエアゾール組成物を提供することである。
【解決手段】特定のアミド化合物と、アルコールとを含有してなる洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】接合されるべき表面を効率的に調製し、そして目に見える残留物を増加させることなく、ＰＣＢ表面と、部品のリード線／端子と、溶融ろうとの間の表面張力を減少させることにより、ろう球およびろうブリッジの数を減少させる、ろう接用フラックス組成物の提供。
【解決手段】ろう接用フラックスは、溶媒、この溶媒中の活性剤、およびカチオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤を含む。このろう接用フラックスは、基板（例えば、プリント回路基盤上に、ろうが塗布される前に適用され得る。減少したミクロろう球、少ない残留物、少ない固形物、および未洗浄性能（ｎｏ−ｃｌｅａｎ ｃａｐａｂｉｌｉｔｙ）を提供するフラックスが本明細書中に記載される。１つの実施形態において、溶媒はアルコール（例えば、イソプロピルアルコール）である。カチオン性界面活性剤は、４級アンモニウムフルオロアルキル界面活性剤であり得る。 （もっと読む）

【課題】 脂肪酸と陽イオン性界面活性剤及び高濃度の非イオン性界面活性剤を用いた組成物において、低温安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】 下記一般式（１）に示される非イオン性界面活性剤（A)３０〜６５重量％と
【化１】


［式中R^１は直鎖状のアルキル基であり、nはエチレンオキサイドの平均付加モル数を表す］
脂肪酸及びその塩（B)と陽イオン性界面活性剤（C)とハイドロトロープ剤（D)と（E)成分として、下記の一般式（２）
【化２】


［ただし、ＡＯ^１はオキシアルキレン基の１種または２種以上の混合物で、Ｒ^２
はアルケニル基、Ｒ^３ はアルキル基、mはオキシアルキレン基の平均付加モル数である。］
で示されるアルケニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体で、この加水分解物及びこの塩を含有し、残りが水である液体洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を高濃度で配合する液体洗浄剤組成物において、洗浄力、衣類等繊維製品の消臭性、及び保存安定性に優れる、液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】界面活性剤（Ａ）を３５〜８５質量％、ハイドロトロープ剤（Ｂ）を０．１〜５質量％、過酸化水素（Ｃ）を０．３〜１０質量％、水混和性溶剤（Ｄ）を２〜４０質量％、並びに水を含有し、界面活性剤（Ａ）として、特定二種の非イオン界面活性剤（ａ１）、（ａ２）と陽イオン界面活性剤（ａ３）とをそれぞれ特定範囲で含有し、（ａ３）／（Ｂ）質量比が０．１〜３であり、ＪＩＳ Ｋ３３６２：１９９８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３〜７である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】安定性に優れた非水組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）で示される成分（ａ）多鎖多親水基型化合物と成分（ｂ）油性成分又は非水溶媒とを含有し、かつ実質的に水分を含有しないことを特徴とする非水組成物。
【化１】
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【課題】 ガラス面、光沢のある金属面や塗装面、プラスチック面の拭掃は勿論、処理液によって処理された面が光沢を失わないで汚れを防ぎ、長期間その効果が持続する表面処理液の製造方法を提供する。
【解決手段】 高速回転機能を有する撹拌機の回転槽内に、エタノ−ル６０％、精製水３９，７％、弗素０，７％ の割合で投入した後、２００００回転乃至２５０００回転の速度で１０数分回転させる表面処理液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】毛髪や皮膚に対して良好な使用感とコンディショニング効果を付与し、かつ低温安定性が良好で、特に洗浄時の泡立ち、泡質（きめの細かさ）と乾燥時の感触（滑らかさなど）及び乾燥翌日の感触（うるおい感）に優れる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）アニオン界面活性剤の１種又は２種以上と、（Ｂ）下記一般式（１）


（Ｒ¹ＣＯはイソステアリン酸残基、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜３のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、Ｒ⁴は炭素数１〜３のアルキレン基もしくはヒドロキシアルキレン基、Ｘは−ＣＯＯもしくは−ＳＯ_３、ａは１〜５の整数を表す。）で表される両性界面活性剤及び（Ｃ）カチオン性ポリマーを含有してなる洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】毛髪や皮膚に対して良好な使用感とコンディショニング効果を付与し、かつ低温安定性が良好である洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン界面活性剤の１種又は２種以上と、（Ｂ）下記一般式（１）


（Ｒ¹ＣＯはイソステアリン酸残基、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜３のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、Ｒ⁴は炭素数１〜３のアルキレン基もしくはヒドロキシアルキレン基、Ｘは−ＣＯＯもしくは−ＳＯ_３、ａは１〜５の整数を表す。）で表される両性界面活性剤及び（Ｃ）非イオン界面活性剤を含有してなる洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】垂直及び傾斜面での付着滞留性に優れると共に、処理面全体への均一な広がり性を有し、且つ、カルシウムやケイ酸等の除去しにくい蓄積無機汚れに対して高い洗浄力を持ち、保存安定性にも優れた硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記(a)〜(d)成分を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物：
(a) スルファミン酸 3〜10質量％、
(b) アルキルアミンオキシド 0.2〜1.5質量％、
(c) プロピレングリコール 0.5〜20質量％、及び
(d) 多糖類から選ばれる少なくとも一種の増粘剤 0.2〜0.8質量％。 （もっと読む）

【課題】過酸化水素の保存安定性に優れ、且つ保存後も高い漂白効果を発現する液体漂白剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素を１〜６質量％、（ｂ）特定の高分子化合物、、（ｃ）アルキル基の炭素数が１０〜１４、平均オキシアルキレン付加モル数が７〜１２のポリオキシアルキレンアルキルエーテルを１〜２０質量％、（ｄ）特定のアルキル（ポリ）グリコシド型化合物を０．２〜１０質量％、及び（ｅ）水を含有し、（ｂ）／（ｄ）の質量比が２／１〜１／１０である液体漂白剤組成物。 （もっと読む）

【課題】乾燥した尿汚れに対する洗浄力に優れ、かつトイレットペーパーを使用してもトイレットペーパーが破れることなく清掃でき、洗浄時に硬表面にべたつき・ヌルつきを与えることなく、さらに拭き跡を残さない、ｐＨ安定性に優れたトイレの洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ラウリン酸アミドプロピルベタイン等の両性界面活性剤 ０．３〜３質量％、
（Ｂ）エタノール １５〜２５％、及び
（Ｃ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はその塩 ０．７〜２．２％
を含有し、ｐＨが６．５〜７．５であるトイレ用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ノニオン活性剤を主な界面活性剤とする衣料用液体洗浄剤組成物において、洗濯、乾燥の後に発生する、菌に由来する異臭や悪臭を抑制する効果の高い組成を特定して、洗浄後の衣類の臭い抑制、抗菌効果において高い特性を有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る液体洗浄剤組成物は、（ａ）ノニオン界面活性剤、（ｂ）ベタイン基と疎水基を有する水溶性共重合体、（ｃ）ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、ブチルヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）、４−イソプロピル−３−メチルフェノール（ＩＰＭＰ）から選ばれる少なくとも１種の機能性成分、を含有する。 （もっと読む）

【課題】水による希釈前後において扱い易い濃縮洗浄剤組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）両性界面活性剤、（Ｃ）５〜１５質量％の１価又は２価のアルコール、（Ｄ）８〜１８質量％のＩＯＢ０．８〜１．１で分子量が５００以下のノニオン性界面活性剤、（Ｅ）４５質量％以下の水、を含み、（Ａ）及び（Ｂ）の合計が４０〜６０質量％、配合比（Ｃ）：（Ｄ）が３．５：１〜１：２．５である液状洗浄剤組成物であって、前記組成物を（Ａ）及び（Ｂ）の濃度が１５質量％となるまで希釈した際の粘度が３０℃において３００ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする濃縮液状洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力及び保存安定性に優れ、水で希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数８〜２２の炭化水素基を１つ有し、アルキレンオキシ基の平均付加モル数が１６〜３５（但し１４モル以上はエチレンオキシ基である）であるポリオキシアルキレンアルキル（又はアルケニル）エーテル型非イオン界面活性剤、（ｂ）炭素数８〜２２の炭化水素基を有し、少なくとも炭素数３及び／又は４のアルキレンオキシ基を有するポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、（ｃ）水混和性有機溶剤を、それぞれ特定比率で含有する衣料用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】腐食性を有さず、環境負荷が小さく、優れた洗浄性を有し、洗浄性が長期間持続する医療用具用洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物、酵素及び水を含有する医療用具用洗浄剤。好ましくはさらにＮ−アセチルアルギニンエチルエステル塩酸塩、アルギニン塩酸塩などの化合物を含有する。


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】異音や振動を抑制するとともに腐食抑制効果を高めることの容易なウインドウォッシャー液組成物を提供する。
【解決手段】ウインドウォッシャー液組成物には、水性基剤と、炭素数が８〜１４のアルキルコハク酸、及び炭素数が８〜１４のアルケニルコハク酸の少なくとも一方の化合物とが含有されている。水性基剤は、水、又は水及びアルコールの混合液であることが好ましい。ウインドウォッシャー液組成物には、更に、防錆剤及び界面活性剤が含有されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物において、洗浄力、低温保存安定性に優れ、衣料の仕上がり性を損なわない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭化水素基が７〜２２の非イオン界面活性剤、或いは炭化水素基が７〜２２の非イオン界面活性剤と陰イオン界面活性剤及び／又は陽イオン界面活性剤とからなる界面活性剤３０〜７５質量％、並びに（ｂ）下記一般式（１）で表される数平均分子量２００〜２０００の化合物を含有する液体洗浄剤組成物。
ＨＯ−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_a−（ＡＯ）_o−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_b−（ＡＯ）_p−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_c−Ｈ （１）
（式中、ＡＯは炭素数３〜５のアルキレンオキシ基を示し、“−”はＣ₂Ｈ₄Ｏ基及びＡＯ基がブロック結合していることを示す。ａ、ｂ、ｃ、ｏ、ｐは平均付加モル数であり、ｂ＝３〜２０、ｃ＝３〜２０、ａ＋ｂ＋ｃ＝５〜３０であり、ｏ＝１〜５、ｐ＝１〜５、ｏ＋ｐ＝２〜６である。） （もっと読む）