【課題】合成樹脂を含む複合材料、又は合成樹脂が付着した固体基材から、合成樹脂を溶解・剥離するための溶剤組成物の提供。
【解決手段】（ａ）Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ノルマルプロピルブロマイド、γ−ブチロラクトン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミンからなる群より選択される有機溶媒３０質量％〜９５質量％、（ｂ）塩基性無機化合物０．５質量％〜５．０質量％、及び（ｃ）グリセリン４．５質量％〜６５質量％からなる合成樹脂溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体製造における大型のメタル等の洗浄において、プラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去する高い洗浄力を発揮し、部材の剥離や変色を抑制し、さらには必要によりメタル材料の表面荒れをも抑制しうる半導体基板用洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄組成物により、エッチング工程及び／又は前記アッシング工程において半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣を洗浄除去する洗浄工程を含む半導体素子の製造方法であって、該洗浄組成物は、水と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、有機溶媒とを組み合わせて含有し、ｐＨが１．５〜５．０に調整されたことを特徴とする半導体素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】セルロースアシレート製膜の流延支持体の汚れを、より短時間でより確実に除去する洗浄液及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄液として良溶媒である液体と一般式（１）の化合物とを含む。
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【課題】 乗用車の窓ガラスやボディー面を脱脂剤で脱脂した後、塗布する親水性や撥水性コーティング剤を長期間維持する脱脂剤組成物の適用方法を提供する。
【解決手段】 Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎであり、Ｒはアルキル基又はスチリル基であり、該アルキル基はエポキシ基、グリシドキシ基、３、４−エポキシシクロヘキシル基、１級アミノ基、２級アミノ基、ウレイド基、クロロ基、イソシアナート基の１または２以上を含有する炭素数１〜１２のアルキル基であり、ｎは１〜３の整数であり、Ｘは炭素数１〜４のアルコキシ基などの加水分解性基で表わされるシラン化合物、または該シラン化合物の部分加水分解物もしくは部分縮合物の１種または２種以上からなるシラン化合物からなるＡ成分と、Ａ成分を０．０１〜３０質量％の範囲で含有する溶剤のＢ成分からなる脱脂剤の、コーティング剤の塗布予定面に前処理用として適用するための適用方法。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第１剤と第２剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第１剤がアミン化合物を含有し、前記第２剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】ポリマーが付着した硬質表面、特に、インクジェット用インクの製造ラインを構成する硬質表面に対して十分な洗浄性を有する洗浄方法、該方法で得られる洗浄液から環境負荷の小さいポリマー含有水分散体を製造する方法、及び該製造方法で得られる水分散体を含むインクジェット記録用水系インクを提供する。
【解決手段】〔１〕硬質表面を洗浄温度４５〜８５℃の水系洗浄剤で洗浄する硬質表面の洗浄方法であって、該水系洗浄剤が、（ａ）アルカリ剤、（ｂ）特定のアルキルアミンオキシド、及び（ｃ）ＳＰ値が８〜１２である有機溶剤を含有し、ｐＨが１１〜１４であるである、硬質表面の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】２種以上の水系顔料分散体を１つの製造装置を用いて工業的スケールで製造する場合でも、洗浄の際に水系顔料分散体製造装置に付着した付着物を速やかに除去することができるようにする。
【解決手段】 酸型の水不溶性ポリマーを分散剤として含む水系顔料分散体の製造装置の洗浄方法は、水系顔料分散体製造装置における水系顔料分散体が接触する部分を、炭素数６〜１２のグリセリルエーテルを含む洗浄剤で洗浄する炭素数６〜１２の有機溶剤洗浄工程、及び／又は、メチルエチルケトン若しくはメチルイソブチルケトンとアルカリ剤とを含んだアルカリ系溶液からなる洗浄剤で洗浄するアルカリ系溶液洗浄工程を備える。 （もっと読む）

【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、油共存下で使用しても洗い始めは泡量が多く、その泡量の持続性が良好であり、かつ、スポンジに含ませて握った際に弾力感が感じられ、さらに香り立ちの良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式（ａ１）［式中、ＡＯはオキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基を表す。ｍはＡＯの平均繰返し数を表し、６〜１２である。ｘとｙは１〜６の整数であり、６≦ｘ＋ｙ≦１２である。］で表される化合物（ａ）と、陰イオン界面活性剤（ｂ）と、両性界面活性剤及び／又は半極性界面活性剤（ｃ）と、１，８−シネオール、ベンジルベンゾエート、メチルジヒドロジャスモネート、リナロール、Ｌ−カルボン及びα−ヘキシルシンナミックアルデヒドからなる群から選ばれる二種以上の香料成分（ｄ）とを含有し、［（ｂ）＋（ｃ）］／（ａ）で表される質量比が２〜１０である液体洗浄剤組成物。
［化１］
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本発明は、数多くの用途における有用性を有する共沸混合物様の組成物、方法、及びシステム、特に有効量の、以下の構造（Ｉ）：
【化１】


を有する化合物：シス−１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテン（Ｚ−ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚｍ）、及び水、フルオロケトン、アルコール、ヒドロクロロフルオロオレフィン、及びこれらの２以上の組合せからなる群から選択される他の材料を含む共沸混合物様の組成物に関する使用に関する。これらの組成物は、発泡剤、冷媒、加熱剤、動力サイクル薬剤、洗浄剤、エアゾール噴射剤、滅菌剤、潤滑剤、香味料及び香料抽出剤、燃焼性減少剤、及び炎抑制剤のような広範囲の用途において用いることができる。要約はこのプログラムにコピーされない構造（図）を含むことに留意されたい。完全な要約に関しては電子ファイルを検討されたい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを有するシリコンウェハの製造方法において、パターン倒れを誘発しやすい洗浄工程を改善するためのシリコンウェハ用洗浄剤を提供することを課題とする。
【解決手段】シリコンウェハ用洗浄剤は少なくとも水系洗浄液と、洗浄過程中に凹凸パターンの少なくとも凹部を撥水化するための撥水性洗浄液とを含み、該撥水性洗浄液は、シリコンウェハのＳｉと化学的に結合可能な反応性部位と疎水性基を含む撥水性化合物からなるもの、又は、該撥水性洗浄液の総量１００質量％に対して０．１質量％以上の該撥水性化合物と、有機溶媒とが混合されて含まれるものとすること。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを有するシリコンウェハの製造方法において、パターン倒れを誘発しやすい洗浄工程を改善するためのシリコンウェハ用洗浄剤を提供することを課題とする。
【解決手段】シリコンウェハ用洗浄剤は少なくとも水系洗浄液と、洗浄過程中に凹凸パターンの少なくとも凹部を撥水化するための撥水性洗浄液とを含み、該撥水性洗浄液は、シリコンウェハのＳｉと化学的に結合可能な反応性部位と疎水性基を含む撥水性化合物と、含窒素化合物溶媒を含む有機溶媒とが混合されて含まれるものであり、該撥水性化合物は、該撥水性洗浄液の総量１００質量％に対して０．１〜５０質量％となるように混合されて含まれ、さらに、該含窒素化合物溶媒は、窒素に結合する元素が炭素であるものとすること。 （もっと読む）

【課題】複数成分からなる洗浄液を効率よく再生することができ、しかも簡易かつ小型の洗浄液再生装置およびこれを用いてなる循環洗浄装置を提供する。
【解決手段】使用済洗浄液３０を減圧状態で加熱蒸発させることによって、洗浄液蒸気を生成するとともに、当該洗浄液蒸気を凝縮して、再生洗浄液１５とするための生成部１３と、再生洗浄液１５を連続的に回収するための回収部１３と、を備えた洗浄液再生装置１０等であって、生成部１３は、加熱するための蒸発部３１と、洗浄液蒸気を凝縮して、再生洗浄液１５とするための冷却部４１と、蒸発部および冷却部をつなぐ連結部と、を備えており、連結部の開口面積をＡ（ｍｍ²）とし、蒸発部を加熱するためのヒータ容量をＢ（ｋＷ）としたときに、下式で定義される洗浄液蒸気の移動係数Ｃを１００〜３０,０００ｍｍ²／ｋＷの範囲内の値とする。洗浄液蒸気の移動係数（Ｃ）＝開口面積（Ａ）／ヒータ容量（Ｂ） （もっと読む）

表面から高分子材料を除去する、好ましくは、リソグラフ装置を完全には分解しないでリソグラフ装置から汚染物質の蓄積を清浄化する組成物および前記組成物の使用方法。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率化を可能とする硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄剤であって、ラクタムを有する化合物と酸性化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物の洗浄剤および該洗浄剤で硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄方法であり、さらには洗浄後の廃液の安定性が高く、一般的な廃液処理が可能となった。 （もっと読む）

本発明は、ジカルボン酸ジエステルを含む剥離組成物に関する。この組成物は、塗料を剥離させるのに有用であり、特に有効である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の表面を効果的に洗浄できるシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、洗浄する表面に洗浄流体を提供する流体供給システムを含む。洗浄流体は、２５〜９８．９９重量％の水と、１種又は数種のグリコールエーテル、エステル、アルコール及びケトンから選択される１〜７４．９９重量％の溶媒と、０．０１〜５重量％の界面活性剤とを含む。 （もっと読む）

【課題】液晶汚れに対する洗浄力が高く、かつ、環境への排水負荷を低減できる液晶除去用洗浄剤組成物及び液晶パネルの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）［式中、Ｒ^１はＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３を示し、Ｒ^２はＣＨ_３、ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３を示す。］で表される芳香族化合物を含有することを特徴とする液晶除去用洗浄剤組成物；前記液晶除去用洗浄剤組成物を用いることを特徴とする液晶パネルの洗浄方法。前記液晶除去用洗浄剤組成物は、一般式（１）で表される芳香族化合物と水とを混合してなるものであることが好ましい。
［化１］
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【課題】顔料を含有する硬化性組成物の除去性能に優れた硬化性組成物除去液を提供する。
【解決手段】顔料を含有する硬化性組成物の除去液であって、（Ａ）脂環式ケトン類および（Ｂ）一般式（１）で示されるグリコールジアルキルエーテル類を含有し、化合物（Ａ）の含有量が除去液全体に対して３０質量％以上であることを特徴とする硬化性組成物除去液。
Ｒ^１−Ｏ−［Ｃ_ｎＨ_２ｎ−Ｏ］_２−Ｒ^２ （１）
（式中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、ｎは正の整数である) （もっと読む）

【課題】顔料分散型着色樹脂組成物およびその固化物の溶解性および除去性に優れ、しかも顔料分散型着色樹脂組成物と接触しても凝集物を発生しない顔料分散型着色樹脂組成物用洗浄液の提供。
【解決手段】５員環または６員環の環状エーテル系溶剤（ａ）と、ケトン系溶剤（ｂ）と、モノカルボン酸とモノアルコ−ルからなるエステル系溶剤（ｃ）とを含有する洗浄液であって、洗浄液中の溶剤（ａ）の含有量が３重量％以上５０重量％以下であり、溶剤（ｂ）の重量／溶剤（ｃ）の重量が１／９から９／１である顔料分散型着色樹脂組成物用洗浄液。 （もっと読む）