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Fターム[4H003ED32]の内容

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Fターム[4H003ED32]に分類される特許

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【課題】油中製造法等の液中製造法により造粉された粉末に好適な洗浄剤、及びその洗浄剤を用いて油中製造法等により高い清浄度ではんだ粉末を製造する。
【解決手段】液中ではんだ粉末を造粉する造粉工程と、該造粉工程で得られたはんだ粉末を洗浄剤にて洗浄する洗浄工程とを有し、その洗浄剤として、N−メチルピロリドン、2−ピロリドンジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、スルホラン、γ―ブチロラクトンの中から選ばれる一種以上の成分を含む洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】半導体製造における大型のメタル等の洗浄において、プラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去する高い洗浄力を発揮し、部材の剥離や変色を抑制し、さらには必要によりメタル材料の表面荒れをも抑制しうる半導体基板用洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄組成物により、エッチング工程及び/又は前記アッシング工程において半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣を洗浄除去する洗浄工程を含む半導体素子の製造方法であって、該洗浄組成物は、水と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、有機溶媒とを組み合わせて含有し、pHが1.5〜5.0に調整されたことを特徴とする半導体素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】非有毒かつ環境に優しいクリーニング組成物、従来の高有機含有量系クリーニング組成物に比肩するクリーニング効率を有するクリーニング組成物を提供すること。
【解決手段】A半導体基材がアルミニウムを含む用途におけるフォトレジストおよびエッチング後/アッシング後残留物除去のための水に富んだヒドロキシルアミン調合物。クリーニング組成物は、約2〜約15wt%のヒドロキシルアミン;約50〜約80wt%の水;約0.01〜約5.0wt%の腐食防止剤;約5〜約45wt%の、:pKa<9.0を有するアルカノールアミン、水混和性溶媒、およびそれらの混合物からなる群から選択される成分を含む。そうした組成物の使用は、一方で両方の材料を含む基材でアルミニウムを保護しながら、Al基材での効率的なクリーニング能力、最小限のケイ素エッチングを示す。 (もっと読む)


【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第1剤と第2剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第1剤がアミン化合物を含有し、前記第2剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】液体吐出装置などの液体流路の洗浄液兼充填液であって、泡などの副作用が少なく従来よりも洗浄力の高い洗浄液兼充填液、並びに該洗浄液兼充填液を充填したカートリッジの提供。
【構成】液体吐出装置及びこの装置に用いるインクカートリッジの液体流路を洗浄するための洗浄液兼充填液であって、次の(1)又は(5)の群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する液体吐出装置及びインクカートリッジ用洗浄液兼充填液。
(1)パーフルオロアルキルスルホンイミド及びその誘導体
(ただし、アルキルの炭素数は1〜4である。)
(5)フッ化スルホンイミド及びその誘導体 (もっと読む)


【課題】油状物及び高分子樹脂状汚れに共通に作用し、洗浄力、安定性があり、耐久力、危険度の低いグレードであることと共にアルコールソルベントをも含ませて速乾性をキープすることを可能ならしめる水性処理組成物を提供する。
【解決手段】NMPとジメチルイミダゾリジノン,グルタル酸ジメチル,コハク酸ジメチルをメインのベースにして、相溶性のある親水性の界面活性剤と、テルペン系炭化水素、低級1価アルコールをバランスよく配合した。 (もっと読む)


【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、油共存下で使用しても洗い始めは泡量が多く、その泡量の持続性が良好であり、かつ、スポンジに含ませて握った際に弾力感が感じられ、さらに香り立ちの良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式(a1)[式中、AOはオキシエチレン基及び/又はオキシプロピレン基を表す。mはAOの平均繰返し数を表し、6〜12である。xとyは1〜6の整数であり、6≦x+y≦12である。]で表される化合物(a)と、陰イオン界面活性剤(b)と、両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(c)と、1,8−シネオール、ベンジルベンゾエート、メチルジヒドロジャスモネート、リナロール、L−カルボン及びα−ヘキシルシンナミックアルデヒドからなる群から選ばれる二種以上の香料成分(d)とを含有し、[(b)+(c)]/(a)で表される質量比が2〜10である液体洗浄剤組成物。
[化1]
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【課題】従来よりも洗浄力が高められた新規な界面活性剤、ならびに当該界面活性剤を用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】芳香環と、芳香環に結合した、酸素原子を含む直鎖状の2つ以上の連結部と、各連結部の末端に、四級アンモニウム基を介して結合された直鎖状の疎水性基とを含む化学構造を有する界面活性剤、ならびに、当該界面活性剤を用いて基材を洗浄するステップと、加圧流体溶媒を用いて前記基材から界面活性剤を除去するステップとを含む洗浄方法。界面活性剤は、下記一般式(I)で表わされる化学構造を有することが好ましい。


(式中、Aは酸素原子を含む直鎖状の連結部、Bは直鎖状の疎水性基、R及びR’は炭素数1〜16の炭化水素基、mは2〜4の整数である。なお、m個の芳香環以外の部分において、A、B、R、R’はそれぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。) (もっと読む)


【課題】種々の汚れ、特に金属加工油の種類に関わりなく、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを効果的に分離除去し、洗浄液中の汚れ濃度を洗浄液の洗浄力が低下する濃度レベル以下に抑えること。
【解決手段】20℃における蒸気圧が1.33×103Pa未満の成分を含有する溶剤(a)と、20℃における蒸気圧が1.33×103Pa以上の成分を含有する溶剤(b)とを、質量比(a)/(b)=29/71〜90/10で含む洗浄液を用いて、被洗物の汚れを洗浄した後に、該汚れを含んだ洗浄液の溶剤(a)と溶剤(b)の質量比を(a)/(b)=10/90〜29/71にすることで、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを分離除去する方法。 (もっと読む)


【課題】 アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料にダメージを与えることなく、エッチング残渣やレジスト残渣等の洗浄性能に優れた電子デバイスの洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)
【化1】


(式中、R、Rは各々独立して水素原子、メチル基又はエチル基を示し、R及びRが共に水素原子になることはない。)
で表されるアミン類、フッ化物、及び水を含む洗浄用組成物を用い、アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料を含有する電子デバイスの製造プロセスにおいて発生する有機物及び/又は無機物を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】インクジェットプリンタのノズル口内周辺に析出した金属塩を十分に洗浄することが可能で、且つインクを凝集させにくい、上記ノズルの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】インクジェットプリンタのノズルを洗浄する方法であって、水と、5〜25質量%の水溶性極性溶媒と、を含有する洗浄液でノズルを洗浄する工程を含む、洗浄方法。 (もっと読む)


【解決手段】本発明の実施形態は、ウエハ表面、特にパターン化ウエハ(又は基板)の表面を洗浄する改良された洗浄剤、装置及び方法を提供する。本明細書で説明する洗浄剤、装置及び方法は、微細なフィーチャを備えるパターン化基板を、フィーチャに実質的に損傷を与えることなく洗浄できるという効果がある。洗浄剤は、1つ以上の高分子化合物からなるポリマーを備える。洗浄剤は、広い粘度範囲と広いpH範囲で、さまざまな種類の表面洗浄に用いることができる。洗浄剤は液相であり、デバイス・フィーチャの周囲で変形し、基板上の汚染物質を捕獲する。ポリマーは、基板表面に汚染物質が戻らないように、汚染物質を取り込む。洗浄装置は、広い範囲の粘度を有する洗浄剤を供給して、すすぐように設計される。 (もっと読む)


【課題】 モリブデン又はモリブデン合金の防食剤を提供する。
【解決手段】 N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンは、モリブデン、モリブデン合金の腐食を抑制する。特に、銅とモリブデンが接触している場合の腐食を抑制できる。エチレンアミン類と併用することで、さらに防食効果は高まる。エチレンアミン類の量がN,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンに対し、重量比で20倍以下であるであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】安全かつ効果的に、シール剤吐出部品を洗浄する方法を提供すること。
【解決手段】下記(a)、(b)、(c)、(d)及び(e)を含む洗浄剤を用いてシール剤吐出部品を洗浄する工程を含む、シール剤吐出部品の洗浄方法。
(a)アジピン酸ジアルキル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジアルキル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジアルキル 5〜40質量%
(d)グリコールエーテル 5〜60質量%
(e)水 1〜20質量% (もっと読む)


【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 (もっと読む)


【課題】液晶性ポリエステル製造装置において、縮重合槽の内壁等にある残存液晶性ポリエステルのみならず、分縮器等に付着・残存している液晶性ポリエステル飛沫又は原料モノマーをも、有効に洗浄し得る洗浄用組成物及びこれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】グリコール類と、アミン類と、環状エステル類、アミド類及びスルホキシド類からなる群より選ばれる化合物とを混合して、洗浄用組成物とする。この洗浄用組成物中、アミン類の含有量は、5〜40質量%とし、環状エステル類、アミド類及びスルホキシド類からなる群より選ばれる化合物の含有量は、5〜30質量%とする。 (もっと読む)


本発明は、ストリッピング組成物と、注入フォトレジストを洗浄する方法でのそのようなストリッピング/洗浄組成物の使用とに関し、この組成物は、シリコン、チタン、窒化チタン、タンタル、およびタングステンに適合可能なものである。半導体デバイスの表面から高ドーズ量イオン注入フォトレジストを除去するための組成物であって、65℃を超える引火点を有する少なくとも1種の溶媒、ニトロニウムイオンを提供する少なくとも1種の成分、および少なくとも1種のホスホン酸腐食防止剤化合物を有する組成物と、半導体デバイスの表面から高ドーズ量イオン注入フォトレジストを除去するための、そのような組成物の使用が提供される。 (もっと読む)


【課題】環境安全問題に配慮しつつ、洗浄性に優れた洗浄剤組成物を提供するための洗浄剤組成物用原液、それを用いてなる洗浄剤組成物および洗浄方法をそれぞれ提供する。
【解決手段】所定量の水を後添加した状態で、白濁状態にて、被洗浄物を洗浄するための洗浄剤組成物用原液等であって、第1の有機溶剤として、SP値が6.5〜12の炭化水素化合物または芳香族化合物と、第2の有機溶剤として、SP値が8〜15の含窒素化合物または含イオウ化合物と、と、第3の有機溶剤として、SP値が8〜12のエステル化合物とをそれぞれ所定量含む。 (もっと読む)


【課題】 使用時にたれ落ちせず、使用感触が良好、特に肌上でののび、化粧料とのなじみに優れ、且つ化粧料洗浄効果が高い皮膚洗浄料を提供する。
【解決手段】 (スチレン/ブタジエン)コポリマー1.0〜10.0質量%を含有することを特徴とする皮膚洗浄料。 (もっと読む)


本発明は、少なくともアルファテルピンアルコールと環境に優しい溶媒の総重量に基づいて、約0.05から5.0重量%の少なくとも1つのアルファテルピンアルコール(アルファテルピネオール)を加えることによって、環境に優しい溶媒の引火点を上昇させる方法である。環境に優しい溶媒は植物などの有機物に由来する。それらは石油が含まれていない資源の製品ではない。好ましくは、2つのアルファテルピンアルコールが環境に優しい溶媒に加えられる。さらに、少なくとも1つのアルファテルピンアルコールの追加によって、最終的な環境に優しい溶媒の耐凍性と保存可能期間が改善される。 (もっと読む)


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