本発明は、ストリッピング組成物と、注入フォトレジストを洗浄する方法でのそのようなストリッピング／洗浄組成物の使用とに関し、この組成物は、シリコン、チタン、窒化チタン、タンタル、およびタングステンに適合可能なものである。半導体デバイスの表面から高ドーズ量イオン注入フォトレジストを除去するための組成物であって、６５℃を超える引火点を有する少なくとも１種の溶媒、ニトロニウムイオンを提供する少なくとも１種の成分、および少なくとも１種のホスホン酸腐食防止剤化合物を有する組成物と、半導体デバイスの表面から高ドーズ量イオン注入フォトレジストを除去するための、そのような組成物の使用が提供される。 （もっと読む）

【課題】アルカリ性固体洗浄剤組成物における縮合ホスフェート金属イオン封鎖剤の逆反応または加水分解を含む、アルカリ性洗浄剤における有機材料の不安定性に関する長く未解決であった問題を解消する。
【解決手段】ビシナルヒドロキシルを有する有機組成物の使用により上記課題が解決できる。このような固体ブロック洗浄剤は、アルカリ性の源、縮合ホスフェート金属イオン封鎖剤を含む機能性材料、および２個のビシナルヒドロキシル基を有する有機化合物が注入可能な組成物または液体に組合せられる方法により製造することができる。このような液体は、プラスチックのカプセルに導入し、固化することができる。製造および固化の間、我々は、洗浄剤の使用の間有効な硬度イオン封鎖を維持する縮合ホスフェートの加水分解または逆反応を、ビシナルヒドロキシル化合物が実質的に防ぐことを見出した。その安定化剤は、色、塩素含有量および分配性をも安定化できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた洗浄性、および耐泡立ち性を呈し、さらにＣＯＤの少ないＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＮｉ−Ｐ含有層を有するＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、重量平均分子量が１,０００〜１０,０００であるポリアクリル酸アルカリ金属塩（成分(a)）と、ｐ−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩（成分(b)）と、水溶性アミン化合物（成分(c)）と、キレート剤（成分(d)）と、水（成分(e)）とを含有し、実質的に非イオン性界面活性剤は含まず、成分(a)、成分(b)、成分(c)、および成分(d)の総量中、成分(a)を５〜３５重量％、成分(b)を１５〜５０重量％、成分(c)を１５〜５０重量％、成分(d)を５〜２５重量％含有し、かつ成分(c)と成分(d)の重量比｛成分(c)/成分(d)｝が０．８〜５である。 （もっと読む）

汚れを除去するためのクリーニング組成物は、アルミニウム塩、ヒドロキシカルボキシレート、アルカリ源および任意選択的に、界面活性剤系を含む。このクリーニング組成物は、約９〜約１４のｐＨを有する。 （もっと読む）

【課題】 微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れると共に基板上の金属汚染が低減でき、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 スルファミン酸（Ａ）、分子内に少なくとも１個のスルホン酸基又はその塩基を有するアニオン性界面活性剤（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）及び水を含有してなる電子材料用洗浄剤であり、２５℃でのｐＨが３以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 優れた泡保持性、洗浄性を有するとともに、被洗浄面に白化を生じることなくアルミニウム材質に対して腐食性のない飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供。
【解決手段】
下記の（Ａ）成分から（Ｆ）成分を、組成物全体に対し下記の割合で含有するとともに、（Ｇ）成分としての水を残質量％含有することを特徴とする飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物を用いる。（Ａ）アルカリ剤０．１〜５質量％、（Ｂ）アニオン界面活性剤０．５〜５質量％、（Ｃ）炭素原子数が１２〜１８のアルキル基またはアルキレン基を有するアルキルジメチルアミンオキサイド０．５〜５質量％、（Ｄ）芳香族スルホン酸塩０．５〜５質量％、（Ｅ）水溶性カルシウム化合物０．１〜５質量％、（Ｆ）金属イオン封鎖剤１〜１０質量％。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤の含有量が少ない水性組成物を、口径が小さい吐出口を有する手動式トリガースプレーヤーを具備した容器から噴射する際の、吐出口での珪酸塩の固化／析出を防止できる技術を提供する。
【解決手段】珪酸塩（ａ）を０．０５質量％以上、界面活性剤（ｂ）を１質量％未満、及び（ａ）以外のアルカリ剤（ｃ）を０．６〜１０質量％含有する水性組成物を、所定の手動式トリガースプレーヤーを具備した容器に充填して噴射する際に、前記水性組成物に、グリセリン（ｄ）を、（ａ）／（ｄ）の質量比が１／１〜１／１００の質量比となるように配合して噴射することにより、前記吐出口における前記水性組成物からの珪酸塩（ａ）の析出を防止する。 （もっと読む）

【課題】極微量油剤供給方式により被加工部材を切削・研削加工する方法において、切りくず除去のための水溶性切りくず流し用油剤に加工油剤が混入しても加工油剤との分離性に優れ、腐敗が起こりにくく、排水処理性にも優れると共に、十分な切りくずの洗浄性が確保され、且つ被加工物の錆や変色、環境への悪影響等を引き起こさない洗浄用原液組成物および洗浄液を提供する。
【解決手段】組成物全量基準で、（Ａ）ポリアルキレングリコールの脂肪酸エステル：５〜３０質量％、（Ｂ）炭素数８〜１２の一塩基脂肪酸及び／又は二塩基脂肪酸：１〜１０質量％、（Ｃ）ひまし油脂肪酸の縮合物：５〜２０質量％、（Ｄ）アルカノールアミン及び脂肪族アミン：１５〜２５質量％および（Ｅ）水：１５〜７４質量％を含有することを特徴とする金属加工の切りくず洗浄用原液組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた柔軟性、低黄変性を与え、同時にシワを低減させる繊維処理剤組成物、洗剤及び柔軟仕上げ剤、並びにこれらにより処理された繊維製品を提供する。
【解決手段】式（１）で示される２５℃における粘度が１００〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓであるオルガノポリシロキサンを主成分とする繊維処理剤組成物。


［Ｒ¹は１価炭化水素基、Ｒ²は式：−Ｒ⁴（ＮＲ⁵ＣＨ₂ＣＨ₂）_aＮＲ⁶Ｒ⁷〔Ｒ⁴は２価炭化水素基、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は水素原子、１価炭化水素基又はＲ⁸で、Ｒ⁸は式：−（ＣＯ−Ｃ₅Ｈ₁₀Ｏ）_b−Ｒ⁹（Ｒ⁹は水素原子又は１価炭化水素基、ｂは１〜５０）で、ａは０〜４。但し、本オルガノポリシロキサンに存在するＲ⁵〜Ｒ⁷の１個以上はＲ⁸。〕の１価有機基、Ｒ³は水酸基、−ＯＲ¹⁰（Ｒ¹⁰は１価炭化水素基）、Ｒ¹、又はＲ²で、ｍは１０〜１，５００、ｎは０〜１００。但し、ｎ＝０の時、Ｒ³の一つ以上はＲ²。］ （もっと読む）

【課題】被洗浄物の腐食を抑制しつつ、酸性付着物を効果的に除去できる酸性付着物除去剤および酸性付着物の除去方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属の炭酸水素塩とアルカリ金属の炭酸塩とを含み、アルカリ金属の炭酸水素塩とアルカリ金属の炭酸塩との合計（１００質量％）のうち、アルカリ金属の炭酸水素塩の割合が９８〜７０質量％であり、アルカリ金属の炭酸塩の割合が２〜３０質量％である酸性付着物除去剤；および水と本発明の酸性付着物除去剤とを含む洗浄液を、硫黄化合物を含む酸性付着物が付着した被洗浄物に噴霧する酸性付着物の除去方法。 （もっと読む）

【課題】 固形石鹸に付着した水分、及び溶け崩れたゲル状の石鹸溶液の乾燥を早め、固形石鹸の消耗を減らし、ゲル状の石鹸溶液内の細菌の増殖を抑制し皮膚の傷害を招く恐れを抑制すると共に、下水道への流出を抑制し洗剤による水質汚染を減少させる。
【解決手段】 台座部と受け皿部を有し、台座と受け皿の間を隔離する支柱を設け、受け皿の上面に受け皿の略中央に向かい上方から下方に傾斜して集合した複数の溝を設け、この集合部分に集合部分より更に下方に受け皿の外縁に向かい傾斜した第２の溝を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズの種類によらず、洗浄、保存、親水化若しくは消毒又はこれらを組み合わせた多目的な用途で使用できるコンタクトレンズ用溶液を提供する。
【解決手段】非水溶性グルコマンナンを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低ｋ誘電体材料又は銅相互接続材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのＣＭＰ後の残渣及び汚染物質材料を効果的に洗浄を達成すること。
【解決手段】化学的機械的研磨（ＣＭＰ）後の残渣及び汚染物質を、自身上に前記残渣及び汚染物質を有するマイクロ電子デバイスから洗浄する洗浄組成物及びプロセス。洗浄組成物は新規の腐食防止剤を含む。 （もっと読む）

０．０５ｗｔ％から７．５ｗｔ％までの界面活性剤と０．１ｗｔ％から９０ｗｔ％までの式１の化合物とを含む食器洗浄機用の洗剤組成物であって、式中、Ｒは、−Ｈ、−ＣＨ_３、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＣＨ_３、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＯＨ、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＣＯＯＨ、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＳＯ_３Ｈ、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＮＨ_２、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＮＨＲ’、−Ｃ_ｎＨ_２ｎＮＲ’_２、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｒ’、及び−Ｃ_ｎＨ_２ｎＰＯ（ＯＲ’）_２からなる群から選択され、式中、ｎ≧１であり、Ｒ’は、Ｈ、アルキル、又はアリールであり、そしてさらに、組成物は、無機ペルオキシ化合物、有機過酸、並びにそれから誘導された塩から選択された漂白剤を含む。式１の化合物は、生分解性であり、漂白剤に対して安定であり、さらには効果的なビルダである。式１の化合物は過度に吸湿性ではないので、本発明の組成物は、タブレット組成物として必要に応じて容易に処方することができる。
【化１】
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【課題】耐アルカリ性を有しない微生物培養物を含む固形石鹸であり、固形石鹸中における微生物培養物の死滅を防止することができ、ひいては微生物培養物の有する作用を確実に発揮させることのできる固形石鹸及び当該固形石鹸を用いた送達方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の固形石鹸は、耐アルカリ性を有しない微生物培養物と、この微生物培養物を被覆しているゼラチン層と、このゼラチン層に外接している石鹸本体とを備えている。上記微生物は少なくとも乳酸菌を含むことが好ましい。一対のゼラチン層間に微生物培養物を積層した層状体が石鹸本体を少なくとも二片に分断するように配設されているとよい。本発明の固形石鹸を利用した送達方法は、微生物の体表面への送達方法であり、活性を有した状態で微生物を体表面に送達することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面を、銅配線の腐食を引き起こすことなく、有機物汚染、パーティクル汚染を、短時間で除去することができ、基板表面を高清浄化しうる洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、特定のトリアゾール化合物またはテトラゾール化合物を腐食防止剤化合物として含有する半導体基板表面用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する有機物汚染やパーティクル汚染を、銅配線の腐蝕を引き起こすことなく効果的に除去しうる洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を提供すること。
【解決手段】１分子中にカルボキシル基を２つ有する有機酸と１分子中にカルボキシル基を３つ以上有する有機酸を洗浄剤成分として用い、更に特定のアミノポリカルボン酸を用いることにより、銅配線の腐蝕を引き起こすことなく、半導体デバイスの表面に存在する有機物汚染やパーティクル汚染を効果的に除去しうる効果を達成しうる。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ５以下の酸性領域で使用することができるアルミニウム系金属の変色防止処理法を提供する。
【解決手段】アルミニウム系金属の変色防止処理法は、２５℃のｐＨが５以下の酸性環境において、配合量が、０．０５質量％以上、好ましくは０．０５〜１０質量％、更に好ましくは０．０５〜５質量％の範囲内であり、炭素数１〜３０の範囲内にあり、１個以上のカルボキシル基と、１個以上のヒドロキシル基を有するヒドロキシカルボン酸化合物で、アルミニウム系金属を処理する。 （もっと読む）

【課題】生体適合性材料の表面から生体物を洗浄することで、その再使用や清浄化を行えるようにすることを目的とする。
【解決手段】生体適合性材料の表面浄化方法は、リン酸系生体適合化合物の耐熱温度未満に加熱したアルカリ水溶液からなる洗浄液中に浸漬させた後、当該表面を酸素雰囲気中に暴露しながら、紫外線を照射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】石鹸組成物中で、化学変化及び色変化しないフェノール性抗酸化剤を提供する。
【解決手段】（ａ₁）特定のフェノール性抗酸化剤、並びに（ａ₂）式（３）の抗酸化剤、並びに（ｂ）長鎖アルキル又はアルケニルを含む界面活性剤を含む洗剤組成物。
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