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Fターム[4H003FA15]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 洗浄剤・配合剤の機能・物性・目的 (10,916) | 劣化防止に関するもの(被洗物の劣化防止) (322)

Fターム[4H003FA15]に分類される特許

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【課題】従来の洗浄剤組成物は、枚葉処理装置に用いるには除去能力は必ずしも十分ではない。HSQ、MSQ等のシロキサン膜からなる低誘電率膜のドライエッチングにおいてはHSQ、MSQのエッチング表面に変質層が生成されるが、従来の洗浄剤組成物は、この変質層に対するエッチング速度が極めて速く、このため、この組成物を用いたドライエッチングの後処理洗浄においては意図するエッチング寸法よりも実際のエッチング寸法が拡大してしまう問題がある。
【解決手段】半導体回路の製造工程においてドライエッチング後及び/又はアッシング後の半導体基板からフォトレジスト残渣及び/又はポリマー残渣を除去する洗浄剤組成物であって、残渣除去成分(A)、半導体基板の配線材料に用いる金属の腐食防止成分(B)、半導体基板の層間絶縁膜材料の保護成分(C)及び水を含有し、(A)、(B)及び(C)が下記化合物であることを特徴とする洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】安全性が高く、金属配線の腐食を抑えることができ、かつ、循環再生使用にも適したリンス液、及びそのリンス液を用いた基体の処理方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜剥離後の金属配線を有する基体の洗浄に、防食剤及び水を含有するリンス液を用いる。防食剤の含有量は1〜30質量%が好ましく、水の含有量は20〜99質量%が好ましい。このリンス液は、さらに水溶性有機溶剤を含有してもよく、これにより、循環再生使用にさらに好適なものとなる。 (もっと読む)


【課題】プリオンに感染した物質を保有する表面を、アルカリ洗浄溶液により洗浄し、表面から可能な限り多くのタンパク様物質を除去する。
【解決手段】洗浄剤は、表面に残るプリオンを攻撃し、洗浄工程の間に表面から除去されたプリオンを攻撃するアルカリ洗浄剤である。洗浄溶液が、排出された後、界面活性剤、緩衝剤、および重金属を含まない腐食防止剤の溶液を、50〜60℃で表面上を循環させる。界面活性剤は、プリオン汚染された物質を分散させ、そして凝固解消させる。強酸化剤、好ましくは、過酢酸を1,000〜2,500ppmの濃度までこの溶液に加える。過酢酸または他の強酸化剤は、プリオン(特に凝固解消されたプリオン鎖を攻撃し、プリオンを不活性化させる。リンスおよび乾燥後、表面は、微生物不透過性バリアに包まれ、そして最終滅菌(例えば、蒸気オートクレーブ)に供される。 (もっと読む)


【課題】従来の銅配線半導体用洗浄剤は、銅配線に付着する研磨剤由来の有機残渣を除去する効果が不十分であるばかりか、金属配線材料(銅、タングステン等)が腐食するという問題がある。
【解決手段】有機アミン(A)、下記(I)〜(IV)からなる群より選ばれる少なくとも1種の多価水酸基含有化合物(B)及び水(W)を含有してなり、25℃でのpHが2〜14であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤。
(I)分子量が1,000未満の多価水酸基含有炭化水素
(II)エーテル基、エステル基、ホルミル基、スルホ基、スルホニル基、ホスホノ基、チオール基、ニトロ基及びアミド基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する分子量が1,000未満の多価水酸基含有炭化水素
(III)上記(I)、(II)を脱水縮合した分子構造を有する多価水酸基含有化合物
(IV)糖類
(V)変性されていてもよいポリビニルアルコール (もっと読む)


【課題】界面活性剤を1種単独で多量に含有しても液性が良好であり、泡立ちが低減され、かつ、柔軟剤製品の使用に伴う黄ばみが抑制された液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式(I)[式中、Rは炭素数9〜13の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基であり、Rは炭素数2〜4のアルキレン基であり、Rは炭素数1〜3のアルキル基であり;nはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示し、5〜30である。]で表されるアルキレンオキサイド付加体(A)50〜70質量%と、非石鹸系アニオン界面活性剤(B)1〜10質量%と、飽和脂肪酸(C)0.05〜3質量%とを含有することを特徴とする液体洗浄剤組成物。
[化1]
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【課題】ウイルスおよび細菌の双方に効果を発現する便座用除菌洗浄剤組成物およびこれを含有する除菌洗浄材、ならびにこれらを用いた除菌洗浄方法の提供。
【解決手段】下記の(A)〜(C)成分を、組成物全体に対し下記の割合で含有するとともに、(D)成分として水を含有し、且つ組成物の原液のpHが、25℃で8〜12の範囲に設定されている便座用除菌洗浄剤組成物。(A)低級アルコール35〜75質量%(B)(b1)有機酸およびそのアルカリ金属塩、および/または(b2)無機酸およびそのアルカリ金属塩0.05〜10質量%(C)モノグリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルから選ばれる少なくとも一種の非イオン界面活性剤0.05〜5質量%。 (もっと読む)


布地及びカラーケア利点が改善された組成物。組成物は、移染防止剤(類)及びシリコーンを含む。該組成物は、布地色の鮮やかさを向上させるための洗濯処理工程での使用に適する。 (もっと読む)


【課題】洗浄性が高く、安定性に優れ、且つアルマイトの防食性及びスケール付着防止性を向上できる、食器洗浄機用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)分子中に、アミノ基及び4級アンモニウム基から選ばれる基を1種以上有するモノマー単位(a)と、−SO2−で表されるモノマー単位(b)とを有し、モノマー単位(a)を全モノマー単位に対して10〜99モル%含み、かつモノマー単位(b)/モノマー単位(a)のモル比が0.01〜1である高分子化合物と、(B)一般式(B1)で表される脂肪酸又はその塩とを、(A)/(B)=10/90〜30/70の重量比で含有する食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】 香料を含有する水性組成物を、プラスティック容器に充填しても、内容物が目視でき、またくすみのない好ましい色合いを容器に付与することができ、且つ香料の安定性を損なわない物品の提供。
【解決手段】 シリコーン化合物(a)、香料(b)、及び水を含有し、(a)/(b)の質量比が50/50〜99/1である水性組成物を、下記要件A及びBを満足するプラスティック容器に充填した物品。
要件A:グレーインキ層を除く着色層を少なくとも1層とする、全厚さ50〜250μmの2層以上の積層フィルムを袋状に成形したプラスティック容器である。
要件B:JIS K7105-1981で測定した350nmの光透過率が10%以下であり、450nmの光透過率が10〜45%であり、且つ550nmの光透過率が40%以上である。 (もっと読む)


【解決手段】本発明の一つの実施形態は、集積回路の製造方法である。製造方法は、まず、金属-誘電体ダマシン・メタライゼーション(金属化)層を備える基板を準備し、金属上にキャップを析出させる。キャップの析出後、アミンを加えてpHを約7から13に調節した洗浄溶液で基板を洗浄する。本発明の別の実施形態は、基板の洗浄方法である。本発明のさらに別の実施形態は、洗浄溶液の組成である。 (もっと読む)


【課題】重大な金属腐食を伴わずにマイクロエレクトロニクスのデバイスを洗浄するのに有用であり、ILDに適合する洗浄製剤を提供する。
【解決手段】(a)フッ化物イオンを提供する少なくとも1種のフッ化物化合物、(b)アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物のアミンまたはアンモニウム化合物とのオリゴマー型またはポリマー型結合体である少なくとも1種の「褐変」アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物、および(c)水を含有する、半水性洗浄製剤を提供する。かかる製剤は、(d)少なくとも1種の極性、水混和性有機溶媒、(e)pH7以上、好ましくはpH約9.5ないし約10.8の最終組成物を産生するのに十分な量の、少なくとも1種の金属イオン不含塩基、および、1種またはそれ以上の(f)多価アルコール、および(g)界面活性剤を含む他の任意成分も含み得る。 (もっと読む)


クラブクリーナー、コンディショナーおよび保護剤は、アルファ−オレフィン類、低臭芳香族溶媒;ならびに水素異性化された高い基油およびHT切断水素化分解基油からなる基油グループから選択される少なくとも1種類の基油;さらに他の(任意の)成分を含む。この製品を製造するための方法および関連するプロダクトバイプロセスも開示する。この製品は、配合されたクリーニング混合物を用いてクラブのフェースをきれいにする、および修復する一方でグリップを若返らせる。本発明は、クラブフェース上にスプレーすると、外来の物質を除去し、拭いて乾かすと、クラブのフェースを土、草および肥料に関連する化学物質により引き起こされるざらざらした汚れから保護する。実験的な試験において、本発明はサイドスピンを低減させバックスピンを増大させることによりドライブの距離を増大させる。クラブは工場様仕上げの状態のままにされ、それは汚れを拭いてきれいにするのを容易にする。本発明は、グリップに適用すると、表面を修復して新しい感触にする。 (もっと読む)


【課題】洗濯を繰り返しても繊維製品が黄ばむのを防止する液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A) ノニオン界面活性剤、
(B) 長鎖脂肪族アルキルアミン、及び
(C) γ−オリザノール、タンニン酸、オウゴンエキス、スギナエキス、ホップエキス、マツエキス、レモンエキス、ローズマリーエキス、アスパラサスリネアリスエキス、ウーロン茶エキス、オトギリソウエキス、ボタンエキス、ユーカリエキス及びセージエキスからなる群から選ばれる1種以上の植物抽出物
を含む液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 (もっと読む)


【課題】鉄系金属および非鉄系金属の洗浄において、低温(50±5℃)で十分な洗浄性能、噴霧洗浄が可能な低起泡性能、および防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式(1)で表される非イオン界面活性剤、および下記の一般式(2)で表される非イオン界面活性剤を含有することを特徴とする金属洗浄剤組成物。
−CH(R)−CH−O−(AO)n−H ・・・(1)
(式中、R、Rは直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基を表し、AOは炭素数が2〜4のオキシアルキレン基を表し、nは1〜100である。AOの付加形態はランダム付加、ブロック付加またはこれらの混合付加である。)
−O−(CO)p−[(CO)q/(AO)r]−H ・・・(2)
(式中、Rは炭素数8〜15である脂肪族炭化水素基、p,q,rは平均付加モル数(p=0〜5、q=0〜15、r=0〜5、p+q+r>5)、AOは炭素数3または4のオキシアルキレン基、[(CO)q/(AO)r]はモル比q/rのランダム重合鎖である。) (もっと読む)


【課題】印刷用インキの洗浄性に優れると共に、社会的な環境問題や労働衛生問題を解消し、非引火性で安全性を向上し取り扱いやすく、またゴム、樹脂などの耐溶剤性に優れる、可溶化型で容易に水すすぎが可能な印刷インキ用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される非イオン性界面活性剤40〜90重量%、植物油1〜15重量%、及び水を含有してなることを特徴とする可溶化型印刷インキ用洗浄剤組成物である。
R−O−(AO)n−H ・・・(1)
(式中、Rは炭素数8〜20の炭化水素基、(AO)は炭素数2〜4のオキシアルキレン基を示す。nはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示し、4〜20である。) (もっと読む)


【課題】洗浄工程とバッチ式焼鈍を含む鋼帯の製造工程において、高い洗浄性とバッチ式焼鈍後の鋼帯の密着度を低減できるバッチ式焼鈍鋼帯用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】珪酸塩(a)0.1〜26重量%、特定の両性界面活性剤(b)0.15〜15重量%、炭素数4〜24のアルコールのアルキレンオキサイド付加物から選ばれる一種以上の非イオン界面活性剤(c)、一般式(d1)〜(d2)で表される特定のカルボン酸系化合物から選ばれる一種以上の化合物(d)、及び水を含有し、(b)+(c)の合計量、(b)/(c)重量比が、それぞれ特定範囲にあるバッチ式焼鈍鋼帯用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


布地を処理するための組成物。本発明の組成物は、布地が標準的な洗濯プロセス全体を行う必要なく、嗅覚認識及び/又は布地の外観などの布地の種々の特性を改善するために使用され得る。布地を処理するための方法もまた開示される。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造の間にウェハの化学機械平坦化(CMP)後の半導体ウェハの洗浄に関し、金属、特に銅、相互接続を含むウェハの後CMP洗浄用アルカリ薬品を提供する。
【解決手段】残留スラリーパーティクル、特に銅または他の金属パーティクルは金属を十分にエッチングする、表面に堆積物を放置する、十分な汚染物を与える、ことをせずに半導体表面から除去され、同時に金属を酸化および腐食から保護する。さらに、少なくとも1つの強キレート剤は溶液中で金属イオンを錯化するために存在し、誘電体からの金属除去を促進しかつウェハ上への再堆積を防止する。 (もっと読む)


【課題】洗浄性に優れ、被洗浄物の持込による洗浄液の劣化が少なく、さらに引火点がなく、人体や環境への影響が少ないウエハ又は板状物の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分(a)〜(e)を含有することを特徴とするウエハ又は板状物の洗浄剤組成物である。
(a)下記一般式(1)で示されるアルキルポリグルコシド 5〜40重量%
R−O−(G)n−H ……(1)
(式中Rは炭素数1〜22の直鎖又は分岐のアルキル基であり、Gは炭素数5〜6の還元糖を示し、nは1〜5である。)
(b)金属イオン封鎖剤(キレート剤) 1〜20重量%
(c)アルカリ剤 1〜30重量%
(d)エーテル型非イオン界面活性剤 1〜30重量%
(e)水 残部 (もっと読む)


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