【課題】被洗物への柔軟性付与効果に優れた粒状洗剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、α−スルホ脂肪酸エステル塩（Ａ）と、石鹸（Ｂ）と、カチオン化セルロース（Ｃ）とを含有し、該（Ａ）成分と該（Ｂ）成分との質量比が（Ａ）／（Ｂ）＝２５／７５〜９５／５であることを特徴とする粒状洗剤組成物である。本発明の粒状洗剤組成物においては、４質量％以下の直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩（Ｄ）が含有されることが好ましい。 （もっと読む）

バシルス種（Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｓｐ．）７０７番由来アルファ‐アミラーゼの変異体、前記変異体を含む組成物、及び変異体の使用方法を開示する。使用方法は、表面洗浄、繊維洗濯、湯通し、多様な物質を放出するバイオフィルムを加水分解し、及びデンプン処理（例えば、液化及び糖化）の方法を含む。
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本発明は、、１００〜１，０００μｍの平均粒径を有し、少なくとも５０％水素添加されたヒマシ油を含有する洗浄体を２〜２５重量％と、界面活性剤を２〜３０重量％と、増粘剤を０．１〜１０重量％と、水及び所望により他の補助剤と、を含む、皮膚洗浄剤に関する。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する有機残渣やパーティクルなどを、銅配線の腐蝕や酸化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸、及び、（Ｂ）包接化合物を含有する洗浄剤である。包接化合物としては、シクロデキストリンなどが好ましい。 （もっと読む）

【課題】自動食器洗浄器用洗浄剤として機能トラブルの元凶である界面活性剤や漂白剤その他水不溶性水難溶性物質を排除しても同等の洗浄力はもとよりすすぎ性、食器材料への影響力の少ない組成物を提供する。
【解決手段】その為に ヒドロキシカルボン酸として クエン酸、グルコン酸、グリコール酸のナトリウムとカリウムの複塩を併用しカリウム塩のシェアを１０〜３５Ｗ％と特定したことと 多価アルコールとしてグリセリン、ＰＧ、１、３、ＢＧＰＰＧから選ばれた 安定剤が安全性だけでなく湿潤仕上りをより鮮やかに奏すること 及びｐＨを９〜１０．９にした水溶液とした本来の食器洗浄器そのものメインテナンスをより有利にすることを可能としたものである。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する不純物を、銅配線の腐蝕や酸化、或いは、平坦化されたデバイスの表面性状の悪化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）ポリカルボン酸、（Ｂ）アニオン性界面活性剤、及び、（Ｃ）テトラゾール誘導体を含み、ｐＨが１〜５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用途に使用することもできる、水晶のような基材表面の前処理ステップにおいて使用する、様々なｐＨ領域と伝導度を持つアルカリ性ベースの組成物を用いる方法を提供する。
【解決手段】ＮＨ_４ＯＨ：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２Ｏが、容積比で１：２：２００〜１：１：１００となる希釈比で、水酸化アンモニウム、過酸化水素及び脱イオン水を含有する、ｐＨが８〜１２の_ｕｄＳＣ１組成物を用いて基材表面を処理し、次いで、ノニオン系洗浄剤と脱イオン水を容積比で１〜１００となる希釈比で含有し、ｐＨが８〜１１のノニオン系洗浄剤組成物を用いて前記基材の表面を処理する基材表面の洗浄方法。前記_ｕｄＳＣ１のｐＨが、前記ノニオン系洗浄剤組成物のｐＨより高いことを特徴とする。 （もっと読む）

半導体ウェハ、ハードディスク、フォトマスク又はインプリントモールドなどの電子基板を清浄化するための方法及び清浄液。この方法は、基板の表面を、ポリホスフェートからなる清浄液に接触させる工程と、続いて、この清浄液を先の表面から除去する工程とを含んでいる。追加の任意の工程は、清浄液が先の表面に接触している状態で、この清浄液に音響エネルギーを加える工程と、先の表面を、リンス液を用いて、音響エネルギーを加えて又は加えずにリンスすることによって、先の表面から清浄液を除去する工程を含んでいる。洗浄液は、あらゆる水溶性ポリホスフェートなどのポリホスフェートを含んでいる。用途に応じて、清浄液は、塩基又は多量の懸濁粒子を更に含んでもよい。錯化剤、アミン、殺生剤及び／又は他物質をこの清浄液に更に添加してもよい。 （もっと読む）

本発明は、機械による自動食器洗浄のための穏やかな食器用洗剤配合物である、アルカリトリポリリン酸塩およびイミノ二コハク酸ナトリウムをベースとするリン酸塩抑制ビルダーシステムの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】水溶性汚れ及び油性汚れに対する洗浄性能に優れ、かつ繊維製品の収縮防止効果に優れた、ドライクリーニング方法において、溶剤の再生を容易にできる方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）プロピレングリコールモノプロピルエーテル９０〜５０重量％と（Ｂ）水１０〜５０重量％とを含有する洗浄剤で繊維製品を洗浄し、洗浄後に繊維製品から分離され（Ｂ）水の含有量が３０〜５０重量％である洗浄剤を５０℃〜８０℃に加温してプロピレングリコールモノプロピルエーテル層と水層を分離させ、水層部分を取り除くことで洗浄時に溶け込んだ水溶性汚れを洗浄剤から除去する、繊維製品の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 マイクロエレクトロニクス基板の洗浄のためのマイクロエレクトロニクス洗浄組成物、特にＡｌまたはＡｌ（Ｃｕ）金属被覆基板と同様に、二酸化珪素、高感度低κおよび高κの誘電体、および、銅、タングステン、タンタル、ニッケル、金、コバルト、パラジウム、白金、クローム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ハフニウム、チタン、モリブデン、錫、及びその他の金属被覆が特色であり、かつ相互接続技法が進んだものである、マイクロエレクトロニクス基板との適合性を改良した、それらの洗浄に有用な洗浄組成物を提供する。
【解決手段】 ハロゲン酸素酸、それらの塩および誘導体を含むマイクロエレクトロニクス洗浄組成物を使用する。 （もっと読む）

【課題】本発明の洗浄液は、芳香族系溶剤を一切含有しておらず、引火点も高く、近年、関心の高いＶＯＣ（揮発性有機化合物）対策にも有効である。更に、人体への安全性の高い成分で構成されており、低臭で作業環境が一層改善され保健衛生面からも好ましい。また、インキに対する優れた洗浄性を有しつつ、印刷機中の耐溶剤性の比較的低い部材にも影響を与えない。
【解決手段】
下記成分（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）からなる紫外線硬化型インキ用洗浄液。
（ａ）アルキレングリコール
（ｂ）パラフィン系炭化水素及びナフテン系炭化水素から選ばれた１種以上の成分
（ｃ）グリコールエーテル （もっと読む）

プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するための洗浄組成物および方法。組成物は、チタン含有、銅含有、タングステン含有、および／またはコバルト含有のエッチング後残留物を含む残留材料の、マイクロ電子デバイスからの非常に有効な洗浄を達成するが、同時に、マイクロ電子デバイス上に同様に存在する層間誘電体、金属相互接続材料、および／またはキャッピング層に損傷を与えない。さらに、組成物は、窒化チタン層をその上に有するマイクロ電子デバイスからそれを除去するためにも有用であり得る。 （もっと読む）

【課題】半導体素子製造工程で用いられる石英部材からなる治具において、基材表面の腐食を抑えつつ付着物のみを効率的に除去可能であり、且つセラミックス等の部材からなる治具の洗浄にも適用可能な、人体に非常に有害なフッ化水素酸そのものを使用しない、経済的且つ安全性に優れる、使用済み治具の洗浄方法を提供する。
【解決手段】硝酸等の無機酸とフッ化アンモニウム等のフッ化水素酸以外のフッ化物を混合した洗浄液組成物を用い、この洗浄組成物を治具に接触させて使用済み治具の洗浄を行い、再利用を可能とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄除去性、保管性、および加工基材への非侵食性が優れ、経済的な濃縮型の接着剤用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくともアルカリ金属水酸化物とアルカリ金属リン酸塩を含有するアルカリ剤（ａ）と、少なくとも非イオン界面活性剤を含有する界面活性剤（ｂ）とを、親水性有機溶媒と水とからなる水性媒体（ｃ）中に含有してなり、曇点が２５℃を超えることを特徴とする接着剤用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】低臭気で、作業環境許容濃度による取り扱い上の制約が無く、かつ、十分な洗浄性を有し、吸湿性が低く、酸化安定性が高く、加えて、精密部品を構成する洗浄対象材料に悪影響を与えない、精密機械部品、電子・電気部品、光学部品等を洗浄するための洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、沸点が１４０〜３５０℃の芳香族化合物を２５〜９５重量％、Ｎ置換の炭化水素基の炭素数が２〜８であるＮ−ヒドロカルビル−２−ピロリドン、好ましくはＮ−エチル−２−ピロリドンを７５〜５重量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液性が中性で、環境安全性、作業安全性に優れるとともに、アルカリ性洗浄剤と遜色のない優れた洗浄性能と貯蔵安定性を有する１剤で使用可能な自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）非イオン界面活性剤１〜１５質量％、（Ｂ）有機酸若しくはその水溶性塩から選ばれる少なくとも１種の有機酸類２．５〜１５質量％、（Ｃ）酵素０．５〜５質量％、（Ｄ）水溶性溶剤１０〜４０質量％、（Ｅ）可溶化剤、（Ｆ）カルシウム添加剤、（Ｇ）水を含有し、且つ、洗浄剤原液のｐＨ（ＪＩＳ−Ｚ−８８０２：１９８４「ｐＨ測定方法」）が２５℃で、６．０〜８．０に設定されていることを特徴とする自動食器洗浄機用中性液体洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

腐食防止剤系、および活性ハロゲン系の漂白系、および水溶液を含み、特に、金属表面上の組成物の乾燥前に洗浄組成物が処理金属表面から洗い流されない場合に、この組成物が適用された金属表面の腐食を防止するための洗浄組成物が開示される。腐食防止剤は、少なくともアルキルホスホネート化合物およびその塩であり、ここで、アルキル基は６個以上の炭素原子を含む。漂白系は、安定化次亜塩素酸塩溶液、特にＮ−クロロスルファミン酸塩の混合物などの、次亜ハロゲン酸源または次亜ハロゲン酸イオン源を１種類以上含む。 （もっと読む）

【課題】乾燥後に表面汚れや洗浄残渣油の滲み出しがなく、乾燥温度が水系洗浄剤よりも低く、乾燥から部品冷却までを短時間で行うことができる、経済的で、洗浄性に優れ、安全性が高い、焼結部品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の焼結部品の洗浄方法は、（Ａ）焼結部品を炭化水素系洗浄液と接触させて洗浄する洗浄工程、（Ｂ）次いで防錆剤を濃度が１〜１０重量％となるように有機溶剤に均一に溶解して得た防錆剤溶液と接触させて焼結部品表面に防錆皮膜を形成するコーティング工程、及び（Ｃ）次いでハイドロフルオロカーボン及び／又はハイドロフルオロエーテル（ＨＦＣ／ＨＦＥ）と接触させて焼結部品に付着する炭化水素系洗浄液及び／又は有機溶媒を前記ＨＦＣ／ＨＦＥで置換するリンス工程を含む洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】 肌に安全で使用感の良い、抗酸化効果を有する抗酸化性植物抽出物並びに外用剤、化粧料、浴用剤及び洗剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 オウレン、オウバク、オウゴンおよびサンシシの混合物の抽出物からなる抗酸化性植物抽出物並びに該抽出物を含有する抗酸化性外用剤、化粧料、浴用剤および洗剤組成物。上記生薬の一定比を煎じたものは漢方でオウレンゲドクトウとよばれ、内服により、鼻出血、不眠症、ノイローゼ、胃炎、二日酔、血の道症、めまい、どうきに効果があるとされている。これら生薬の混合物の抽出物は単独の抽出物を混合したものに比べ、相乗的抗酸化効果を有し、外用により肌荒れ、シワの防止など抗老化作用などに奏効する。 （もっと読む）