【課題】過酸化水素等の漂白成分を含有せず、水性しみ汚れに対して充分な洗浄力を発揮する洗濯用前処理剤組成物、及び当該洗濯用前処理剤組成物を用いた洗濯方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ホウ酸及び／又はその塩（Ａ）、エチレンオキシドの平均付加モル数が３〜２００のノニオン性化合物（Ｂ）、両性界面活性剤（Ｃ）及び水を含有し、ｐＨ７〜１１であることを特徴とする洗濯用前処理剤組成物である。また、本発明は、当該洗濯用前処理剤組成物を、衣料のしみ汚れ部位に塗布し、当該塗布後、室温にて２〜１２時間放置した後で洗濯に供することを特徴とする洗濯方法である。 （もっと読む）

【課題】水溶性の付着物を洗浄除去することが可能な洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】被洗浄物に付着した付着物を洗浄除去するための洗浄剤組成物である。洗浄剤組成物は、炭化水素系の基材と水とアルコールとからなる。水の含有量は、洗浄剤組成物全体において０．０１〜５重量％であり、アルコールの含有量は、重量％で水の１〜２００倍であり、かつ洗浄剤組成物全体において９０重量％以下であり、残部が、基材よりなる。基材は、軽油あるいはガソリンであることが好ましい。基材は、有機溶剤であってもよい。基材は、３０℃における動粘度が０．５〜２０ｍｍ²／ｓであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
有機質および無機質汚れの洗浄性、低泡性、ゴム腐食防止性、低温および高温における貯蔵安定性に優れ、特に−５℃以下の低温から４０℃以上の高温においても貯蔵安定性に優れた酸性ＣＩＰ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】
（ａ）硝酸５〜５０質量％、（ｂ）非イオン性界面活性剤０．５〜５質量％、（ｃ）尿素０．０５〜１質量％、（ｄ）ジ短鎖アルキル尿素０．０１〜６質量％、（ｅ）水を残質量％、さらに（ｆ）リン酸１〜３０質量％を含有することを特徴とする酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物およびそれを用いたＣＩＰ洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】新規な安定剤によりノルマルプロピルブロマイドの安定化を図る。
【解決手段】ノルマルプロピルブロマイド１００重量部に対して、ニトロメタンおよびニトロエタンのうちの少なくともどちらか一方の安定剤を０．１重量部〜１０重量部、また、１，３−ジオキソラン、トリメトキシメタン、１，１，１−トリメトキシエタンおよび１，２−ブチレンオキサイドの中から選ばれる少なくとも１種の安定剤を０．１重量部〜１０重量部、さらに、次の（Ａ）〜（Ｄ）の中から選ばれる少なくとも１種の安定剤を０．００５重量部〜１０重量部、含有する。（Ａ）３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート。（Ｂ）ε-カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート。（Ｃ）ビニルシクロヘキセンモノオキサイド。（Ｄ）１，２：８，９ジエポキシリモネン。 （もっと読む）

【課題】環境汚染を引き起こすリン化合物や窒素化合物を実質的に含有することなくｐＨ値が１０．５〜１２．０の範囲で優れた脱脂洗浄性を発揮することができ、しかも長期間の使用によって油脂類が比較的多量に含有した場合においても脱脂洗浄性を十分に維持することが可能な脱脂液を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種のアルカリケイ酸塩を含む２種以上のアルカリビルダーと、下記一般式（１）：
Ｒ^１Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒ^１は、炭素数が１０〜１２であるアルキル基を示し、ｎは、７〜９の整数を示す。）
で表される第一の非イオン系界面活性剤と、下記一般式（２）：
Ｒ^２Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｍ−Ｈ （２）
（式中、Ｒ^２は、１分子中に少なくとも２つの芳香族環を有する基を示し、ｍは、６〜１０の整数を示す。）
で表される第二の非イオン系界面活性剤と、を含むものであり、
ｐＨ値が１０．５〜１２．０であり、且つリン化合物及び窒素化合物を実質的に含まないことを特徴とする脱脂液。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、半導体集積回路に用いられる半導体素子の配線工程における、ドライエッチング後に残存する強固に固着したエッチング残渣を短時間で除去し、かつ、銅配線素材や絶縁膜材料等を酸化または腐食しない洗浄液、および洗浄法を提供する。
【解決手段】
第４級アンモニウム水酸化物０．０１〜１５重量％と水溶性有機溶媒４０〜９５重量％を含んだ洗浄液を用いて洗浄することにより、ドライエッチング後に残存する強固に固着したエッチング残渣を短時間で除去でき、かつ、銅配線素材や絶縁膜材料等の酸化または腐食することがなかった。 （もっと読む）

機械的な食器洗浄用の洗浄調製物は、ａ）以下ａａ）〜ｄｄ）の重合によって得られる１つ以上のコポリマー１〜２０質量％ ａａ）１つ以上のモノエチレン性不飽和モノカルボン酸またはその塩５〜８０質量％、ｂｂ）１つ以上のモノエチレン性不飽和ジカルボン酸またはその塩または無水物５〜６０質量％、ｃｃ）１つ以上のスルホン酸基含有モノマーまたはその塩１〜５０質量％およびｄｄ）さらに別のイオン性または非イオノゲン性のモノマー０〜５０質量％；ｂ）ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸およびグリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸−誘導体、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸、イミノ二コハク酸、ヒドロキシイミノ二コハク酸、Ｓ，Ｓ−エチレンジアミン二コハク酸、アスパラギン酸二酢酸およびその塩から成る群からの１つ以上の錯化剤１〜５０質量％；ｃ）非イオン性界面活性剤１〜１５質量％；ｄ）漂白剤および場合によって漂白活性化剤０〜３０質量％；ｅ）さらに別のビルダー０〜６０質量％；ｆ）酵素０〜８質量％およびｇ）１つ以上のさらに別の添加剤、例えばアニオン性または両性イオン性の界面活性剤、漂白触媒、アルカリキャリア、腐食抑制剤、消泡剤、染料、香料、充填剤、有機溶剤および水０〜５０質量％を含有する。 （もっと読む）

【課題】 連続的に金属製工業製品・部品を洗浄する際に、初期洗浄力にすぐれ、加工油などの汚れが混入しても優れた洗浄力を発揮する金属用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】 下記（Ａ）成分ないし（Ｅ）成分が、それぞれ次の割合で配合されてなることを特徴とする、金属用液体洗浄剤組成物。
（Ａ）成分：次の一般式（１）によって表される（ａ１）化合物と、一般式(２)とによって表される（ａ２）化合物とが、これら両者の質量比｛（ａ１）／（ａ２）｝が１／１０〜２０／１とされてなる非イオン界面活性剤１〜５０重量％、
（Ｂ）成分：ケイ酸塩化合物０．１〜６．０重量％、（Ｃ）成分：エチレンジアミン四酢酸および／またはそのアルカリ金属塩０．１〜６．０重量％、（Ｄ）成分：オキシカルボン酸および／またはそのアルカリ金属塩０．１〜６．０重量％、（Ｅ）成分：水３２．０〜９８．７重量％。


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【課題】基板洗浄液中の防食剤の効果を長期間維持させることによって、銅配線を腐食させずに多数の基板を洗浄することができる基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩、防食剤、界面活性剤、および、水系溶媒を含有する基板洗浄液であって、前記防食剤をトリアゾール化合物とし、界面活性剤を、ポリエーテルポリオール、アルキルベタイン、リン酸エステル化合物、および、ポリスチリルフェニルエーテルからなる群から選ばれる一種以上とする。 （もっと読む）

本発明によって物品洗浄用洗剤組成物が提供される。物品洗浄用洗剤組成物は洗浄剤、アルカリ源、及び腐食防止剤を含む。洗浄剤は洗浄力のある量の界面活性剤を含む。アルカリ源は、約５以上のｐＨを有する使用組成物を提供するのに有効な量で提供される。腐食防止剤は、アルミニウムイオン源及びカルシウムイオン源又はマグネシウムイオン源の少なくとも１種を含む。カルシウムイオン又はマグネシウムイオンの量は、希釈の水の硬度に応じて選択できる。物品洗浄用洗剤組成物に使用法が提供される。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離の性能に優れるレジスト剥離剤及び優れた溶解力を有する溶剤及び洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記式で表されるレブリン酸アミド類、又はこのレブリン酸アミド類と水を含むレジスト剥離剤。
ＣＨ_３−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−ＮＲ^１Ｒ^２
（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基であり、互いに同一であっても異なっていてもよく、さらに互いに結合して環構造を形成してもよい。） （もっと読む）

液体形態のアルカリ性床洗浄組成濃厚物と固体形態のアルカリ性洗浄組成濃厚物が提供される。アルカリ性洗浄組成濃厚物は生油脂よごれ及び重合よごれを床面から除去するために使用されることができる。 （もっと読む）

本発明は、溶解性担体物質中における、良くても難溶性の物質の逆溶解性ナノ分散体を作製する方法を提供し、この方法は、(i)a)１つの溶媒または混和性溶媒の混合物と、b)溶媒(a)に可溶で、搭載物質(c)に対して逆溶解性でもあり、周囲温度で固体である少なくとも1つの担体物質と、c)溶媒(a)に可溶である少なくとも1つの搭載物質との単一相混合物を提供するステップと、(ii)この混合物を乾燥させて溶媒(a)を除去し、それにより搭載物質(c)が内部にナノ粒子として分散している固体状の担体物質(b)を得るステップを含む。 （もっと読む）

毒素、化学兵器、昆虫、プリオン、微生物又は他の感染因子により汚染されている可能性がある非生体表面、生体組織、土壌又は大気などの物質を無害化或いは処理するための組成物及び方法を記述する。組成物を調製する方法も記載する。 （もっと読む）

本開示は、半導体基板から残留物を除去するのに有用な非腐食性洗浄組成物を提供する。前記組成物は、水と、少なくとも１種のヒドラジノカルボン酸エステルと、少なくとも１種の水溶性カルボン酸と、任意で少なくとも１種のフッ化物含有化合物と、任意でカルボキシル基を含まない少なくとも１種の腐食抑制剤とを含有する。本開示はまた、非腐食性洗浄組成物を用いた、半導体基材から残留物を洗浄する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】繊維製品を通過する紫外線量を減少させると共に、粉体白度を向上させた粉末洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（A）界面活性剤；（B）スチルベン型紫外線吸収剤；及び（C）ビフェニル型蛍光増白剤を含有し、（B）成分と（C）成分との合計量が、組成物の全量を基準にして０．２〜０．７質量％であり、（B）成分の配合量と（C）成分の配合量の比が、質量比にして、０．５≦（B）/（C）≦８．０であり、ハンター白度が７５以上である粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

可逆性ペプチドプロテアーゼ抑制剤を含む液体洗剤組成物が提供される。可逆性ペプチドプロテアーゼ抑制剤を用いて液体洗剤組成物を安定化する方法もまた提供される。 （もっと読む）

トリペプチド酵素阻害剤を含む液体洗剤組成物が提供される。トリペプチド酵素阻害剤を使用して液体洗剤組成物を安定化する方法もまた提供される。トリペプチド酵素阻害剤が液体洗剤組成物中での少なくとも１つの微生物植物相又は動物相の増殖を少なくとも阻害する、液体洗剤組成物もまた提供される。 （もっと読む）

【課題】医療器具の前処理用の発泡組成物を提供する。
【解決手段】医療器具前処理用発泡組成物は、0.1重量%〜15重量％の範囲内の過酸化水素、0.5重量％〜20重量％の範囲内の界面活性剤、および、0.1重量%〜10重量％のシリコーンを含有する発泡増進剤を含む。この組成物は、医療処置で使用後の医療器具を洗浄するのに先立って器具に前処理をするためのものである。 （もっと読む）

【課題】レジスト由来のアッシング残渣、Ｓｉ系材料由来のエッチング残渣、銅等の配線材料由来のエッチング残渣、および酸化銅からなる自然酸化膜からなる種々の残渣を十分に除去することができ、かつ半導体を形成する銅等の配線材料、絶縁膜、および低誘電層間絶縁膜を腐食させない基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩、下記一般式（Ｉ）で表されるチオール化合物、防食剤および水を含有する基板洗浄液。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｒ^２はＣＯＯＲ^３（Ｒ^３は、水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基である。）である。） （もっと読む）