説明

Fターム[4H003FA21]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 洗浄剤・配合剤の機能・物性・目的 (10,916) | 仕上げに関するもの(ウォータースポット、風合、清涼感、撥水性、帯電防止性、糊付け) (1,214)

Fターム[4H003FA21]の下位に属するFターム

Fターム[4H003FA21]に分類される特許

1 - 20 / 843





【課題】メイクなどの油脂汚れに対する除去効果に優れるとともに、べたつき感を抑え、洗い流した後にさっぱりした感触が得られるクレンジング化粧料を提供する。
【解決手段】(1)グリセリン脂肪酸エステル、ジグリセリン脂肪酸エステル、及びソルビタン脂肪酸エステルから選択される1種又は2種以上からなるHLBが7以上12以下である非イオン界面活性剤、(2)ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、及びポリオキシエチレングリセリルエーテル脂肪酸エステルから選択される1種又は2種以上からなるHLB12以上である非イオン界面活性剤、(3)多価アルコール、及び(4)水を含有してなり、非イオン界面活性剤(1)と非イオン界面活性剤(2)との質量比が10/90〜60/40であり、水の含有量が65〜96質量%であるものとする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、起泡性(泡量)、泡質(泡のきめ細かさ)、洗浄時及びすすぎ時の使用感(毛髪への指通り、皮膚に対するしっとり感)、生分解性のすべてを兼ね備え、コンディショナー及びリンス等のなじみ、コンディショニング効果を向上させる洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 一般式(1)で表されるアミドベタイン型両性界面活性剤(A)並びに1個以上のカルボキシル基若しくはカルボキシレート基を有する下記一般式(2)及び/又は一般式(3)で表されるアニオン性界面活性剤(B)を含有する洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】極めて微細且つ高精度パターンを洗浄乾燥するための、フッ素イオンを遊離せず、且つ引火点を持たない洗浄乾燥剤、および基板の洗浄乾燥方法を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄乾燥剤は、一般式(1)


で表される含フッ素3級アルコールまたは一般式(2)


で表される含フッ素3級ジオールを含む。 (もっと読む)


【課題】金属の洗浄において、低起泡性能、防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)と下記一般式(2)で表される非イオン界面活性剤とを含有するものとする。




式(1)中、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、nは1〜30の数であり、式(2)中、POはオキシプロピレン基、EOはオキシエチレン基、p、rはそれぞれ平均付加モル数として、p=0〜5、r=3〜15である。 (もっと読む)


【課題】油剤を多量に配合しているにも拘らず、経日安定性に優れ、使用感が良好で、かつ皮膚に対してマイルドであり、洗浄後にしっとりとした肌感触を与えることができる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の(A)〜(E)成分を含有する洗浄剤組成物。
(A)高級脂肪酸と分岐状アルコールからなる脂肪酸エステル30〜80質量%
(B)シリカ
(C)アクリロイルジメチルタウレート・ビニルピロリドン共重合物
(D)アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤から選択される1種以上の洗浄剤成分
(E)水 (もっと読む)


【課題】毛髪や皮膚等の洗浄時、洗浄後の使用性に優れた洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】(A)一般式RO(CHCHO)SOMで表される、Rは炭素数8〜16のアルキル基、Mはアルカリ金属等であり、エチレンオキサイドの平均付加モル数が0.5〜3の硫酸エステル塩であるアニオン界面活性剤、(B)一般式RCH(OH)CH(CH)(CH)−CHCH(OH)CHSOで表される、Rは炭素数6〜24のアルキル基を有するヒドロキシアルキル型両性界面活性剤、及び(C)炭素数8〜20の炭化水素基を有する脂肪酸アルカノールアミド型ノニオン界面活性剤を含有し、かつ(A):(B)=1:1〜30:1、((A)+(B)):(C)=1:1〜10:1の配合比であり、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の配合量の合計が組成物全体の5〜25質量%である洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】流れずに肌に留まり、伸ばしやすく、なめらかな泡で、洗いにくい部位まで、すみずみ洗え、しかもすすぎ直後は残留感がなく、乾き際にはべたつかない素肌感が得られる皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)
【化1】


(式中、R1は炭素数4〜22のアルキル基を示し、nは0〜20の数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す)
で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩であって、R1の平均炭素数が10.8〜12.8であり、n=0の成分を9.6質量%を超え27質量%以下、n=1の成分とn=2の成分を合計で21質量%以上40質量%未満含むアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 0.5〜15質量%、
(B)両性界面活性剤 0.25〜10質量%、
(C)水
を含有する皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】肌に低刺激で、泡立ちに優れ、すすぎ時にはヌルつきがなく、すすぎ時に肌の上になめらかな保護膜を感じられ、肌と肌が擦れず、ざらつかない感じが得られ、乾燥後の肌がしっとりなめらかな皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)
【化1】


(式中、R1は炭素数4〜22のアルキル基を示し、nは0〜20の数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す)
で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩であって、R1の平均炭素数が10.8〜12.8であり、n=0の成分を9.6質量%を超え27質量%以下、n=1の成分とn=2の成分を合計で21質量%以上40質量%未満含むアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 1〜25質量%、
(B)ミリスチルアルコール 0.05〜2.5質量%、
(C)水
を含有する皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】泡立ちに優れ、体から泡が垂れ落ちにくく、耐皮脂性が高く、洗浄力に優れ、すすぎ時にぬるつかず、さっぱりした使用感が得られる皮膚洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)
【化1】


(式中、R1は炭素数4〜22のアルキル基を示し、nは0〜20の数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す)
で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩であって、R1の平均炭素数が10.8〜12.8であり、n=0の成分を9.6質量%を超え27質量%以下、n=1の成分とn=2の成分を合計で21質量%以上40質量%未満含むアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 0.1〜20質量%、
(B)アシル化アミノ酸塩 0.1〜20質量%、
(C)水
を含有する皮膚洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄時には豊かな泡立ちを示すが、すすぎ時には瞬時にヌルツキがなくなることにより、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】(a)特定のスルホコハク酸アルキルエステル又はその塩、(b)炭素数8〜21の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し(a)を除く〕、及び、(c)分岐の炭化水素基を有する炭素数8〜24のアルコール0.0001〜0.1質量%を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】多量の界面活性剤を必要とせず、簡便な操作で皮脂やメイクアップ化粧料等の皮膚や毛髪上の汚れを洗浄除去できる新たな洗浄剤を提供する。
【解決手段】皮脂等の油性成分の新たな除去手段として、比表面積が大きく、かつ多孔質である無機粉体と揮発性液状油剤と水とを組み合わせによる下記粉体乳化組成物が、油性成分を皮膚や毛髪から効率良く除去できる。次の成分(A)〜(C):(A)比表面積が600〜2000m2/gの多孔質無機粉体、(B)室温で揮発性の液状油剤(C)水を含有する洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】近年の消費者の多種多様なニーズにおいて、泡の特性が良好で低刺激性の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】特定の脂肪酸アミドベタインとアスパラギン酸誘導体とをそれぞれ一種又は二種以上を配合して洗浄剤組成物とする。洗浄剤組成物は、皮膚に対する刺激性が低く、前記脂肪酸アミドベタインやアスパラギン酸誘導体を単独で使用する場合と比較して、泡質が向上する効果があり、両者の配合比率が特定の範囲において。その効果が高くなることによる。 (もっと読む)


【課題】銅系材や亜鉛系材について付着有機物の除去を適切に行いつつ、耐食層の除去に基づいて生じる洗浄上がりおよびめっき後の外観不良を抑制することが可能な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水溶性リン酸イオン物質、当該水溶性リン酸イオン物質以外の水溶性アルカリ性イオン物質、キレート剤、および界面活性剤を含有し、pHが10〜12であって、腐食抑制剤を含有しない水系組成物。 (もっと読む)


【課題】機器や配管等の金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを良好に洗浄する難溶解性付着物の洗浄技術を提供する。
【解決手段】難溶解性付着物の洗浄剤は少なくともギ酸を成分に有し、金属表面に付着したカルシウム塩のスケールを洗浄する。遠心薄膜乾燥機20においてこの洗浄剤を供給する供給タンク31が接続されている。例えば、乾燥処理の対象となる廃液が、ホウ酸カルシウムを主成分とする懸濁液である場合、洗浄剤のギ酸濃度が0.5〜10wt%、好ましくは1〜5wt%の範囲に調整される。 (もっと読む)


【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルキルアミンオキサイド0.01〜10重量%、(B)硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤0.01〜20重量%、(C)スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤0.01〜20重量%、(D)キレート剤0.01〜20重量%を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】研磨後の基板の表面に、有機残渣が生じることの少ないCMP研磨液用添加液を提供するものである。また、欠陥の発生数を低減できることが可能なCMP研磨液を提供し、半導体デバイス生産のスループットを向上させることを目的とする。
【解決手段】アルコール類及びフェノール類からなる群から選択される少なくとも1種の有機残渣抑制剤と、含有率が0.1質量%以上であるポリカルボン酸と、水と、を含有するCMP研磨液用添加液である。 (もっと読む)


【課題】洗浄時の良好な泡立ち、泡質を有し、洗浄後の滑らかさ、さっぱり感に優れた洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記一般式で表されるヒドロキシアルキル型両性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物。


(式中、R、Rの少なくとも一方/又は両方は、RCH(OH)CH−なるヒドロキシアルキル基であり、残りは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、Mは水素原子またはアルカリ金属原子およびアミン類から選ばれる少なくとも1種を示す。) (もっと読む)


1 - 20 / 843