説明

Fターム[4H006AA01]の内容

有機低分子化合物及びその製造 (186,529) | 発明の種類 (31,005) | 物質 (8,853)

Fターム[4H006AA01]に分類される特許

181 - 200 / 8,853


【課題】Rhoキナーゼ阻害剤であるファスジルやその類縁体に存在するイソキノリン環に[11C]で標識化されたメチル基を導入した11C標識イソキノリン誘導体及びその製造方法並びにその11C標識イソキノリン誘導体を製造するのに好適に用いることができる前駆体を提供する。
【解決手段】11C標識イソキノリン誘導体として、(S)−ヘキサヒドロ−2−メチル−1−[(4−[11C]メチル−5−イソキノリニル)スルホニル]−1H−1,4−ジアゼピン等が例示される。該化合物はトリハロアセチル基などの保護基を有する前駆体を使用し、前駆体のイソキノリン環上に[11C]メチル基を導入してから塩基性条件下で保護基を脱離させることによって短時間に得ることができる。このため、PET法などにより組織を画像化する際にイメージング薬として好適に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ELに優れると共に、得られるパターンのLWRを低減し、リソグラフィー特性を向上させることができるフォトレジスト組成物を与え得る感放射線性酸発生剤を提供することである。
【解決手段】本発明の化合物は、下記式(1)で表される。また、下記式(1)におけるRは、炭素数1〜20の鎖状炭化水素基であることが好ましい。さらに、本発明は、[A]本発明の化合物、及び[B]酸解離性基を含む構造単位(I)を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物も含む。
(もっと読む)


【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】ジカルボン酸化合物(2−ニトロテレフタレート)と、周期表の2族、7〜12族に属する金属のイオンと、式(II)(式中、R5〜R12はそれぞれ同一または異なってH、置換基を有し得るアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基等又はハロゲン原子である。)で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。
(もっと読む)


【課題】粒径が小さく、かつ粒度分布が狭い薬剤多量体微粒子およびその薬剤多量体微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】水混和性の有機溶媒に下記一般式(I)で表わされる化合物を溶解させた溶液を水に注入して得たことを特徴とする、薬剤二量体微粒子の製造方法。


(式中、Dは、抗がん剤を示し、Lは、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル等を示し、Rは、−C(=O)-、−C(=O)O-、−C(=O)NR1-、−C(=O)OC(=O)-、−C(=O)OC(=O)O-、-O-、−NHR1-、−S(=O)-、−SO2-、−SO(NR1)-、−SO2NR1、−P(=O)(OR1)O-、−P(=O)(NR)O-およびアルキレンからなるグループから選択されたものを示し、R1は、水素、アルキル、置換されていてもよいシクロアルキル又は置換されていてもよいアリールを示す。) (もっと読む)


【課題】優れたガス吸着性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】ビフェニルジカルボン酸化合物と、下記一般式(II);で表される化合物を配位子とする金属錯体。(例えば亜鉛酢体)


(例えば、4,4’−ビフェニルジカルボン酸) (もっと読む)


【課題】 化粧料、家庭用洗剤等の広範囲の分野において利用可能な光分解性界面活性剤として有用なクマル酸アミド誘導体を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で示されることを特徴とするクマル酸アミド誘導体。
【化1】


(式中、Rは炭素数4〜8の炭化水素基である。R及びRは同一もしくは異なってもよい水素又は置換基であって、該置換基は、オキシエチレン基を有していてもよい。) (もっと読む)


【課題】リビングカチオン重合の開始種に用いることができ、かつ、可逆的付加開裂連鎖移動重合可能な部位を含有するビニルエーテル並びにそれを開始種としてリビングカチオン重合可能なビニル系モノマーを重合して得られ、可逆的付加開裂連鎖移動重合によるリビングラジカル重合が可能な重合体の提供。
【解決手段】次の式(1)



(式中、Xは、酸素原子又は硫黄原子である)で表わされるビニルエーテル及びこれを開始種としてビニル系モノマーをリビングカチオン重合して得られる重合体。 (もっと読む)


【課題】第三級及び第四級α‐トリフルオロメチルケトン誘導体及びその製造法。
【解決手段】下記一般式(2)で示されるγ-トリフルオロメチルジシアノアルキリデン


(式中,R1,R2及びR3は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基,又はアリールオキシ基を示す。なおR1およびR2,R1およびR3又はR2およびR3が一体となって,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。)を過マンガン酸カリウム処理することにより、下記一般式(1)で示される第三級及び第四級α-トリフルオロメチルケトン、および下記一般式(1)で表される第三級及び第四級α-トリフルオロメチルケトン誘導体。


(式中,R1,R2及びR3は式(2)記載の通りである。) (もっと読む)


【課題】優れたガス吸着性能、優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】2−メトキシテレフタル酸に代表される下記一般式(I)で表される芳香族ジカルボン酸化合物と、亜鉛イオンに代表される周期表の2族及び7〜12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な1,2−ビス(4−ピリジル)エタンに代表される窒素原子を含む芳香族複素環式化合物とからなる金属錯体。
(もっと読む)


【課題】優れたガス吸着性能及び優れたガス吸蔵性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式(I);(式中、R〜Rはそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子である。)で表されるジカルボン酸化合物(I)と、周期表の2族及び7〜12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、特定の二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。
(もっと読む)


【課題】レジスト組成物の酸発生剤として好適な化合物、及び当該化合物を含有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。


[式(I)中、Aは、有機カチオンを表す。Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Lb1及びLb1‘は、炭素数1〜17の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。Yb1は、炭素数1〜5のアルキル基を有していてもよいフェニレン基を表す。Xは、メトキシメトキシ基等を表す。]、および、式(I)で表される化合物と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【解決課題】
亜鉛四核クラスターとテレフタル酸の配位子から構成される多孔性配位高分子(MOF−5)に水酸基を導入して、水素貯蔵量を増大する。
【解決手段】
ZnOクラスターと配位子からなり、各々の配位子がBDC又はHBDC又はであり(但し、全ての配位子がBDCである場合は除く。)、該クラスターと配位子が交互に配位結合されてなる多孔性配位高分子。(ここで、BDCは、p−(OOC−Ph−COO)であり、HBDCは、p−(OOC−Ph(OH)−COO)であり、Phはフェニル基を表す。) (もっと読む)


【課題】重合することにより、優れた耐熱性を有する硬化物を形成することができる新規のエポキシ化合物、その製造方法、前記新規のエポキシ化合物を得る上で有用な新規のケトン化合物、その製造方法、前記新規のエポキシ化合物を含む樹脂組成物、及び前記樹脂組成物を硬化して得られる優れた耐熱性を有する硬化物を提供する。
【解決手段】本発明の脂環式エポキシ化合物は、下記式(1)で表される。式(1)中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子、鎖状脂肪族炭化水素基、環状脂肪族炭化水素基、及びこれらが組み合わされてなる基から選択される基を示す。R1、R2は、隣接する炭素原子と共に結合して5員環又は6員環を形成していてもよい。
【化1】
(もっと読む)


【課題】医農薬、香料等の中間体として有用な光学活性α−ヒドロキシケトンを提供すること。
【解決手段】α−ケトアルデヒドと他のアルデヒドとの不斉触媒アルドール反応により、高収率、高エナンチオ選択率で、光学活性α−ヒドロキシケトンを製造する。不斉触媒はプロリン誘導体を用いることが好ましい。該製造方法は基質汎用性が高く、従来合成しにくかった光学活性α−ヒドロキシアルキルケトンも容易に合成することができる。製造される光学活性α−ヒドロキシケトンの反応性を利用し、C−C結合の増加や、ポリオールへの変換等ができる。 (もっと読む)


【課題】700nmよりも短波長の領域の光による非共鳴2光子吸収を、高感度で行うことが可能で、かつ十分な記録再生特性を有する2光子吸収材料、2光子吸収記録材料、記録媒体およびそれに使用可能な2光子吸収化合物を提供する。
【解決手段】例えば、下記式(6)で表される化合物を含む非共鳴2光子吸収記録材料からなる記録層を有し、かつ入射光に対して奥側から、基板、ガイド層、反射層、スペーサー層、中間層に挟まれた記録層の積層構造、及び入射光表面側にカバー層、ハードコート層を有する光情報記録媒体。
(もっと読む)


【課題】電子線やEUVを露光源とする光リソグラフィー技術により、優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンの製造できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物に含有される新規な化合物を提供すること。
【解決手段】以下の〔1〕及び〔2〕の提供。
〔1〕式(I)で表される化合物。


[式中、
Xは、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。
、R及びRは、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基などを表すが、R及びRが互いに結合して脂肪族炭化水素基を形成していると好ましい。]
〔2〕前記化合物と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】殺微生物活性、特に殺真菌活性を有する三環式アミン誘導体に使用される新規な中間体の提供。
【解決手段】式(D)で表される


(式中、R2及びR3はそれぞれ、独立に、水素、ハロ、C1-4アルキル、C1-4アルコキシ、C1-4ハロアルキル又はC1-4ハロアルコキシである)の化合物。 (もっと読む)


【課題】ルテニウム化合物配位子、ルテニウム化合物、固体ルテニウム化合物触媒及びその調製方法と用途を提供する。
【解決手段】ルテニウム化合物配位子IIの構造式はそれぞれ以下の通りである:ルテニウム化合物と固体ルテニウム化合物触媒は活性が高く、安定性が高く、分解しにくく、回収しやすくて繰返し使用できるなどの優れた点がある。
(もっと読む)


【課題】解像度が良好なレジストパターンを製造可能なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される塩。


[式(I)中、
は、置換基を有してもよい炭素数6〜18の芳香族炭化水素基を表す。
は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。
及びXは、それぞれ独立に、炭素数1〜12の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
は、有機アニオンを表す。]、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】近赤外域で発光する高効率かつ長寿命な発光素子、この発光素子を備える発光装置、認証装置および電子機器を提供する。
【解決手段】発光素子は、陽極と、陰極と、陽極と陰極との間に設けられた発光層とを有し、発光層は、下記式(1)で表わされる化合物と、下記式IRH−1で表わされる化合物とを含んで構成される。


[前記式(1)中、Aは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、アリールアミノ基、またはトリアリールアミンを示す。]


[前記式IRH−1中、nは、1〜10の自然数を示し、Rは置換基または官能基を表し、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、アリールアミノ基を示す。] (もっと読む)


181 - 200 / 8,853