【課題】解像度が良好なレジストパターンを製造可能なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｒ^１は、置換基を有してもよい炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^２は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。
Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。
Ａ⁻は、有機アニオンを表す。］、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】近赤外域で発光する高効率かつ長寿命な発光素子、この発光素子を備える発光装置、認証装置および電子機器を提供する。
【解決手段】発光素子は、陽極と、陰極と、陽極と陰極との間に設けられた発光層とを有し、発光層は、下記式（１）で表わされる化合物と、下記式ＩＲＨ−１で表わされる化合物とを含んで構成される。


［前記式（１）中、Ａは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、アリールアミノ基、またはトリアリールアミンを示す。］


［前記式ＩＲＨ−１中、ｎは、１〜１０の自然数を示し、Ｒは置換基または官能基を表し、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、アリールアミノ基を示す。］ （もっと読む）

【課題】皮膚の炎症の原因菌に対して抗菌活性を示す、抗菌剤及び皮膚外用剤を提供する。
【解決手段】式（１）等で表される化合物の少なくとも１種を有効成分とする、抗アクネ菌剤または抗黄色ブドウ球菌剤である抗菌剤及び皮膚外用剤。
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【課題】従来から知られる化合物は、有機溶媒への溶解性が必ずしも十分に満足できるものではなかった。
【解決手段】式（Ｉ）


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^３は、互いに独立に、スルホ基又はカルボキシ基を表す。Ｒ^２及びＲ^４は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又は水酸基を表す。］
で表される化合物、該化合物を有効成分とする染料及び該染料を含む着色組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、０〜３の整数を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造することができる新規な塩、および当該塩と樹脂とを含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、および当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｌは、０〜３の整数を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】青色発光し、発光特性（特に、外部量子収率）に優れた有機発光素子を提供する。
【解決手段】式１の錯体が含まれる有機発光素子。


（Ｒ₁〜Ｒ₆は、水素、アルキル基等を、Ｍは、Ｉｒ又はＰｔを表す。ａ、ｂは整数。） （もっと読む）

【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化１]


式中、Ｘ^１及びＹ^１は、互いに異なって、水素原子、−ＳＯ_３Ｍ、−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳＯ_３Ｍ、−ＰＯ_３Ｍ_２又は−Ｓ−（ＣＨ_２）_ｔ−ＣＯＯＭを表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^７は、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、価数を表す。 （もっと読む）

【課題】医薬的に活性な化合物、特に、アリスキレンなどのレニン阻害剤の合成に有用な新規製法、新規製法工程および新規中間体の提供。
【解決手段】式(II)で示される化合物またはその塩の製造法、


および式(VI)で示される化合物またはその塩(式中、Ｒ^３およびＲ^４ならびにActは特定の置換基)、およびそれらの製造法。
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【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−ＣＯ−（Ｌ^ａは、２価の炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。）又は＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ｂ−Ｏ−ＣＯ−（Ｌ^ｂは、２価の炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。）を表す。Ｘ^１は、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−を表す。Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、１又は２を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、および、当該塩とアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】融点が低く液体の状態で輸送が可能であり且つ蒸気圧が大きく気化させやすく、ＣＶＤ法等の化合物（プレカーサ）を気化させて薄膜を形成する方法において用いる薄膜形成用原料として好適なニッケル化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるアルコキシド化合物。
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【課題】本発明は、密集及び孤立の両トレンチパターン形成における焦点深度を共に高いレベルにすることができ、かつ断面形状が良好なレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び
［Ｂ］酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物であって、［Ｂ］酸発生剤が、下記式（１）で表されるカチオンと、炭素数６〜１５の脂環構造を有するアニオンとを含むことを特徴とする。下記式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基である。但し、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して、これらが結合している硫黄原子と共に環構造を形成していてもよい。Ｘは、単結合又は酸素原子である。
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【課題】高耐熱性、高架橋性、高屈折率、高透明性、低線膨張率などの優れた特性を効率よく付与するのに有用な化合物を提供する。
【解決手段】酸触媒の存在下で、フルオレノン類と、ヒドロキシル基を有する縮合多環式炭化水素とを反応させ、下記式（１）で表されるフルオレン骨格を有する化合物を得る。


（式中、環Ｚ^１およびＺ^２は縮合多環式炭化水素環、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂおよびＲ^２は同一又は異なって置換基を示す。ｋ１およびｋ２は同一又は異なって０〜４の整数を示し、ｍは０又は１以上の整数、ｎは１以上の整数を示す。）
上記式（１）で表される代表的な化合物には、９，９−ビス［（ポリ）ヒドロキシナフチル］フルオレン類などが含まれる。 （もっと読む）

【課題】簡便な手法により、繊維径が１０〜１０００ｎｍの範囲にあり、長さが１０μｍ以上であるナノファイバーを形成することが可能なナノファイバー形成化合物、これを用いたナノファイバーの形成方法およびナノファイバー集合体の形成方法を与えること。
【解決手段】下記一般式Ｉで示されるナノファイバー形成化合物。
【化１】


式中、Ｒ_１は炭素数６〜２９の炭化水素基を表し、Ｒ_２は水素原子もしくはメチル基を表す。Ｍ^＋はアルカリ金属イオンを表す。 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れる硬化物や重合体を与える含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及びそれを含有する光硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示す。）
で表される含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及び当該含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有する光硬化性樹脂組成物により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】機能性高分子材料や農薬・医薬品等の合成中間耐として有用な3-クロロ-4-メチル安息香酸イソプロピル、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】4-メチル安息香酸クロライドを塩素及びルイス酸触媒の存在下に核塩素化し、得られた3-クロロ-4-メチル安息香酸クロライドをイソプロピルアルコールでエステル化し（１）で表わされる3-クロロ-4-メチル安息香酸イソプロピルを製造する。
（もっと読む）

【課題】薬学的活性化合物、とりわけレニン阻害剤の合成に有用な新規製造方法、新規工程段階および新規中間体の提供。
【解決手段】式IIIのピロリジン環を、ヒドロキシル基をハロゲン置換、又は有機スルホン酸のスルホネートとした後、保護されたアミノ基との反応によって製造することを含む、式III


〔式中、Ｒ、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３は水素等、およびＰＧはアミノ保護基である。〕の化合物、またはその塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、この塩を含有する酸発生剤、この酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；環Ｗ^１は複素環；Ｒ^３は、水素原子又は炭化水素基を表し、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^４は、独立に炭化水素基を表し、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；ｍは０〜６の整数；Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 新規な有害生物防除剤の提供。
【解決手段】 本発明は、式（Ｉ）：
【化１】


〔式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はシアノであり、Ｒ^３はアルキル又はハロアルキルであり；ｎは０又は１の整数であり；Ｑは一般式［Ｑ−１］〜［Ｑ−６］（明細書参照）である〕で表される化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する有害生物防除剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】高収率でかつ高い光学純度で製造できるアミノ酸誘導体及びその製法並びに当該アミノ酸誘導体の製造中間体及びその製法を提供する。
【解決手段】式：


（式中、Ｒ¹、Ｒ²は置換基を有してもよい炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基又は置換基を有してもよい炭素数６〜１２のアリール基、Ｒ⁷はそれぞれ独立して水素原子又は式：


（式中、Ｒ⁵は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基又は炭素数６〜１２のアリール基）で表わされるアルコキシカルボニル基、Ｒ⁸は炭素数１〜４のアルキレン基）で表わされるアミノ酸誘導体及びその製法並びに当該アミノ酸誘導体の製造中間体及びその製法。 （もっと読む）