Fターム[4H006AA01]の内容
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Fターム[4H006AA01]に分類される特許
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感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、(A)バインダポリマーと、(B)光重合性化合物と、(C)光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、(C)光重合開始剤が、特定の式(1)で表される化合物を含む感光性樹脂組成物に関する。
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ω−ヨードパーフルオロアルキル置換アニリン誘導体およびその製造法
【課題】含フッ素ポリエーテル化合物の高分子主鎖両末端に有機過酸化物架橋可能な反応部位を形成し得る新規化合物およびその製造法を提供する。
【解決手段】一般式
(ここで、R1は水素原子または炭素数1〜3のアルキル基であり、nは4〜10の整数である)でで表わされるω-ヨードパーフルオロアルキル置換アニリン誘導体が、ハロゲン基がヨウ素基または臭素基であるハロゲノアセトアニリドまたは炭素数1〜3のアルキル基で置換されたそのN-モノアルキル置換体および炭素数4〜10のパーフルオロアルキレン基を有するω,ω′-ジヨードパーフルオロアルカン化合物をカップリング反応させた後、加水分解反応させることにより製造される。
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シクロアルキルフェニル置換環状ケトエノール
【課題】殺有害生物剤(pesticide)及び/又は除草剤として有用な新規シクロアルキルフェニル置換環状ケトエノール類の合成中間体を提供する。
【解決手段】式(XXVII)で表される化合物。
(式中、Jは、シクロプロピルを表し、Xは、水素、アルキル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ又はハロアルコキシを表し、Yは、水素、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン、アルコキシ又はハロアルコキシを表し、Zはハロゲン、アルコキシ、又はヒドロキシを表し、mは、数字1、2又は3を表す。但し、基J、X又はYのうちの少なくとも1つは、フェニル基の2位に位置しており且つ水素ではない。)
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】形状に優れたレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
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化合物
【課題】有機EL用発光材料として良好な、新規フルオレン誘導体の提供。
【解決手段】下式(G1)で表されるフルオレン誘導体。
(式中、R1〜R8は、H、C1〜6のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基いずれかを表す。α1〜α4は、フェニレン基を表す。)
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チゲサイクリンの結晶性固体形態およびその調製方法
【課題】チゲサイクリンの結晶性固体、フォームI、フォームII、フォームIII、フォームIV、およびフォームV、これらの結晶性固体を含む組成物、ならびにこれらの結晶性固体を提供すること。
【解決手段】チゲサイクリンの結晶性固体、フォームI、フォームII、フォームIII、フォームIV、およびフォームV、これらの結晶性固体を含む組成物、ならびにこれらの結晶性固体を調製する方法が本明細書に記載される。
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有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子
【課題】有機EL素子の構成材料として好適な電子受容性材料を提供する。
【解決手段】式(I)で表されるインデノフルオレンジオン誘導体。(式中、X1、X2は互いに同一でも異なっていてもよく、ジシアノメチレン基、シアノイミノ基等の二価の基を表し、R1〜R10は、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環、ハロゲン原子、フルオロアルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又はシアノ基である。R3〜R6、又はR7〜R10は、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。)
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Trp−p8活性の低分子モジュレーター
【課題】肺癌、乳癌、結腸癌および/または前立腺癌などの癌を含む疾患などのTrp−p8発現に関係する他の疾患の処置のための低分子モジュレーターの提供。
【解決手段】下式で示された化合物。
(式中、R1はH、アルキル、およびアリールなどから選択され、または、R1およびR2は窒素基と共に環状基または複素環基を形成でき、R2は、アリールおよびアリールアルキルから選択され、R3は、アルキルなどから選択され;R4は、H、アルキル、ヘテロアルキルなどから選択され;R3およびR4は、窒素基と共に脂肪族アミンを形成する。)
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1−11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1−11)中、R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。X−は、式(b−3)または(b−4)で表されるアニオンである。
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環状化合物及びその組成物
【課題】極端紫外光リソグラフィーにおいて、ラフネスの低減を実現できる材料を提供する。
【解決手段】下記式(A)で表される環状化合物。(式中、Rはカルボン酸誘導体基置換フェニル等、R1は水酸基、アルコキシ基、又はORL(RLは光反応性基を含む基)等、R2は水素原子等を表す。)
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スチルベン誘導体
【課題】発光効率の高い発光素子、色再現性に優れ消費電力の低減された発光装置、等に有用な、短波長の発光が可能な新規なスチルベン誘導体を提供する。
【解決手段】下式(G11)で示されるスチルベン誘導体。
[式中、R10〜R12のうち、少なくとも1つはtert−ブチル基で、残りは水素原子であり、R13〜R15のうち、少なくとも1つはtert−ブチル基で、残りは水素原子であり、Ar4〜Ar5は、それぞれ、炭素数6〜25のアリール基を表す。]
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ジアシルグリセロールと結合した分岐型ポリエチレングリコール、その製造方法およびポリエチレングリコール修飾リポソーム
【課題】2本のPEG鎖を有する、ジアシルグリセロールと結合した、高純度でリポソームの安定性を向上させる、ポリエチレングリコール誘導体を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるジアシルグリセロールと結合した分岐型ポリエチレングリコール。
(式(1)中、R1は炭素数1〜7の炭化水素基である。R2は炭素数9〜21のアルキル基またはアルケニル基である。nはポリエチレングリコール鎖の平均付加モル数であり、10≦n≦100である。Xは分岐型ポリエチレングリコールとジアシルグリセロールのリンカー部位であり、式(2)で表される。)
(式(2)中、Yはエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合、アミド結合またはカーボネート結合を表す。l、mは0〜6の整数である。)
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ラジカル抑制剤
【解決課題】新規なラジカル抑制剤、これを含有する組成物、及び、これを用いたラジカル生成抑制方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るラジカル抑制剤は2価金属のサレン錯体化合物からなる。
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環状ハイドロフルオロカーボン及びその製造方法、並びに環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法
【課題】新規な状ハイドロフルオロカーボン、この環状ハイドロフルオロカーボンを製造する方法、及び、前記環状ハイドロフルオロカーボンの製造原料である環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法を提供する。
【解決手段】1)下記式(I)で示される環状ハイドロフルオロカーボン、2)下記式(II)で示される環状ハイドロフルオロオレフィンをフッ素化する工程を有する、下記式(I)で示される環状ハイドロフルオロカーボンの製造方法、3)下記式(III)で示される環状パーフルオロオレフィンをアルキル化又はフルオロアルキル化する工程を有する、下記式(II)示される環状ハイドロフルオロオレフィンの製造方法。
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カチオン性脂質
【課題】核酸を、細胞内に導入することを容易にする新規なカチオン性脂質および該カチオン性脂質を含有する新規な組成物等を提供する。
【解決手段】式(I)(式中、R1、R2はアルケニル等であり、X1、X2は水素原子であるか、または一緒になって単結合もしくはアルキレンを形成し、X3はアルキル等であり、Yは存在しないか、陰イオンであり、a、bは0〜3であり、L3は単結合等であり、R3はアルキル等であり、L1およびL2は-O-、-CO-O-等である)で表されるカチオン性脂質。
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アゾベンゼン誘導体及びこれを含有する液晶組成物
【課題】高Δn化を実現した材料を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物、および当該液晶組成物を用いた液晶表示素子、コレステリック液晶表示素子を提供することである。
【解決手段】一般式(1)
アゾベンゼン部位とナフタレン構造を導入したビアリールアセチレン化合物、当該化合物を含有する液晶組成物、該液晶組成物を使用した液晶表示素子、一般式(1)であらわされる化合物の製造方法及び該製造方法で使用する原料である一般式(3)
で表される化合物。
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パターン形成方法及びレジスト組成物
【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。
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新規化合物及びその化合物を含む抗変異原性剤
【課題】本発明の主な目的は、癌の原因となる変異原性物質の活性を抑制できる新規な抗変異原性剤を提供することである。
【解決手段】ヤマブシダケ(Hericium erinaceum)の抽出物を有効成分とする、変異原性物質に対する優れた抑制作用を有する新規な抗変異原性剤、並びに該抗変異原性剤からなる食品添加剤、化粧品添加剤に関する。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)は、式(b1−1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有する[Z+は有機カチオン;Q1及びQ2は、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数1〜6のフッ素化アルキル基;Xは−(CH2)m1−;Yは単結合、−O−(CH2)L1−又は−C(=O)−O−(CH2)L1−;L1、m1は1〜6の整数;RxはC=C不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数2〜36の2価の脂肪族炭化水素基;Ryは酸解離性基である。]。
[化1]
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非水溶性イオン性ビニルモノマーの製造方法及びそれからなる帯電防止剤と帯電防止組成物
【課題】樹脂や有機溶媒との相溶性が良好であり、金属イオン及び有機溶媒と水が含有しない、高純度のイオン性ビニルモノマー、及び該モノマーからなる帯電防止剤又は帯電防止性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)(式中、R1は水素原子又はメチル基を、R2及びR3は各々独立に炭素数1〜3のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、R4は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルケニル基又はベンジル基を表し、Yは酸素原子又はNH−を表し、Zは炭素数1〜3のアルキレン基を表し、Rf1及びRf2は同じであっても異なっていてもよく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基又は炭素数0のフルオロ基を表す。)で示されるイオン性ビニルモノマーを高純度、高収率で合成し、該イオン性ビニルモノマーからなるポリマー等を帯電防止の有効成分として用いる。
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