Fターム[4H006AA01]の内容
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Fターム[4H006AA01]に分類される特許
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ビス−陽イオン化合物およびそれらの使用
【課題】ホスホリパーゼB阻害剤、および微生物感染症の治療または予防のためのビス陽イオン化合物の提供。
【解決手段】下式のビス陽イオン化合物。(式中、Y1およびY2は同じであってもまたは異なってもよく、独立に、NおよびPから選択され、R1〜R6は同じであってもまたは異なってもよく、独立に、置換されていてもよいC1-10アルキルなどであり、R7、R7'、R8およびR8'は同じであってもまたは異なってもよく、独立に、水素、FおよびClから選択され、Aは、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、置換されていてもよいアルキニレン、置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよいC5-7シクロアルキルおよび-C(O)-から選択される1つまたは複数の基を含み、Aの長さは炭素原子数5〜18である。)
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表面処理剤と組成物、その処理加工品
【課題】キレート機能と防汚性の両方を兼ね添えた化合物の提供。
【解決手段】ポリフルオロポリエーテルの中間部または末端に金属キレート基を導入したキレート基含有ポリフルオロポリエーテル、該化合物を含んでなる洗浄用、表面処理用および有用金属回収用等組成物、並びに、MRI用造影剤としての該化合物と遷移金属との錯体。
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塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。
[式中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;Wは、脂環式炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置換されていてもよく、該基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置換されていてもよい;Rfは、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基;nは1〜10の整数;Z+は有機対イオンを表す。]
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新規ジヒドロキシベンゼン誘導体およびそれらを有効成分とする抗原虫剤
【課題】原虫類によって引き起こされる疾患を予防または治療するための新規な化合物を提供。
【解決手段】式(I)
(Xは、水素原子またはハロゲン原子を表し、R1は、水素原子を表し、R2は、水素原子または炭素数1−7のアルキル基を表し、R3は、−CHO、−C(=O)R5、−COOR5(式中R5は、炭素数1−7のアルキル基を表す)、−CH2OHまたは−COOHを表し、R4は、末端の炭素上および/若しくは非末端の炭素上に各種置換基を有する炭素数1−16のアルキル基、末端の炭素上および/若しくは非末端の炭素上に各種置換基を有する炭素数2−16のアルケニル基または末端の炭素上および/若しくは非末端の炭素上に各種置換基を有する炭素数2−16のアルキニル基を表す)の化合物、それらの光学異性体、およびそれらの医薬上許容される塩のうち1種または2種以上を用いる。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)として、一般式(b1−1)で表される基をカチオン部に有する酸発生剤(B1)を含有するレジスト組成物。
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活性エネルギー線硬化性を有する樹脂改質剤
【課題】 帯電防止性等の基本性能が良好なコーティング膜を得ることができる樹脂改質剤を提供すること。
【解決手段】 下記式(I)で表される活性エネルギー線硬化性を有する樹脂改質剤。
【化1】
(但し、式中、R1は炭素数6〜22の炭化水素基、B+は重合性不飽和基を有するアンモニウムイオン(C)を示す。)
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コレステロール管理およびそれに関連した使用に供するヒドロキシル化合物および組成物
【課題】老化、アルツハイマー病、癌、心臓血管疾患、糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖代謝障害、異脂肪血症、異リポタンパク血症、胆汁産生の亢進、脂質逆輸送の亢進、高血圧、インポテンス、インシュリン抵抗性、胆汁からの脂質排除、肥満、および血栓障害等を含めた疾患または障害を治療または予防する方法の提供。
【解決手段】式XVIIIの化合物、またはその薬学的に許容される塩、水和物、溶媒和物、もしくはそれらの混合物の提供。
例えば、化合物471等。
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塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される塩及びこの塩を含有するレジスト組成物。
[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す;L1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい;R1は、ヒドロキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基又は炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基を表す;sは、互いに独立に、1〜3の整数を表す;Z+は、有機対イオンを表す。]
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フェナンスレン化合物及びこれを用いた有機発光素子
【課題】高発光効率の有機発光素子を提供する。
【解決手段】陽極と陰極と、前記陽極と前記陰極との間に挟持される有機化合物層と、から構成される有機発光素子において、前記有機化合物層に下記一般式[1]で示されるフェナンスレン化合物が含まれることを特徴とする、有機発光素子。
(式[1]において、R1乃至R3は、それぞれ水素原子又は炭素数1乃至4のアルキル基を表す。Arは、場合によってはSあるいはOを含むアリール基からなる置換基である。)
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含フッ素エステル型単量体及びその製造方法、含フッ素エステル型高分子化合物並びにジフルオロヒドロキシカルボン酸化合物
【課題】波長200nm以下の放射線に対して優れた透明性を有し、適切なアルカリ加水分解性を有すると共に、構造の選択により撥水性、滑水性、表面偏在性など各種性能の調整が可能で、例えばフォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ArFレーザー露光リソグラフィー材料を構成する高分子化合物を提供する。
【解決手段】特定の含フッ素エステル型単量体及び該含フッ素エステル型単量体繰り返し単位を有する高分子化合物、及び該高分子化合物が可視光から波長200nm以下までの幅広い波長領域において優れた透明性を有し、また適切なアルカリ加水分解性を有することから、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用で、更に、フォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ArFレーザー露光リソグラフィー材料を構成するポリマーとして特に有用となる。
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アルカノールアミドの製造方法
【課題】 色相良好で副生するアルコール含有量が少ないアルカノールアミドを簡便な操作で効率的に製造する方法を提供することである。
【解決手段】 脂肪酸アルカノールアミドの製造方法は、脂肪酸とアルカノールアミンとを反応させる工程Aと、前記工程Aに引き続き、脂肪酸エステルと前記アルカノールアミンとを反応させる工程Bとを含み、前記脂肪酸のモル数をx(モル)、前記脂肪酸エステルに含まれるエステル基のモル数をy(モル)、前記アルカノールアミンのモル数をz(モル)としたときに、x<zおよびy<zを満足する方法である。
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新規アルケニルビフェニル誘導体
【課題】 TN-Iが高く、かつ粘性が3環化合物としては小さい液晶性化合物として新規アルケニルビフェニル誘導体を提供し、さらにこれを用いてより低粘性で液晶温度範囲が広い液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式(I)
【化1】
において、環Aがフッ素置換されていてもよい1,4−フェニレン基を表し、環Bがフッ素置換された1,4−フェニレン基を表す化合物を提供する。当該化合物を用いた液晶組成物は液晶相温度範囲が広く粘性が高い特徴を有することから、液晶表示素子の構成部材として有用である。
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有機化合物、発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置
【課題】発光素子の長寿命化と発光効率の向上を達成することが可能な新規物質を提供する。
【解決手段】一般式(G1)で表される構造を有するカルバゾール化合物を提供する。なお、一般式(G1)における置換基(R1、R2、Ar3及びα3)としては、当該置換基の結合手を水素で置換した化合物のHOMO準位が深く、LUMO準位が浅い置換基をいずれも用いるものとする。また、一般式(G1)における置換基(R1、R2、Ar3、及びα3)としては、当該置換基の結合手を水素で置換した化合物のバンドギャップ(Bg)が広く、T1準位が高い置換基をいずれも用いるものとする。
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アルキンカップリングによる抗がん活性三環式化合物の新規製法
【課題】アルキンカップリングによる抗がん活性三環式化合物の新規な製造方法の提供。
【解決手段】式(Ia)または(Ib):
[式中、R1は置換されていてもよいC1−6アルキルなどであり;WはO、SまたはNR2であり;R2は水素原子などである]で示される化合物の製造方法であって、相当するハロゲン、アミン又は水酸基含有の特定化合物を塩基、銅触媒およびパラジウム触媒の存在下、非プロトン性極性溶媒中にて反応させるアルキンカップリング工程を含む、方法。
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光電変換素子、フラーレン化合物の製造方法、及びフラーレン化合物
【課題】光電変換効率に優れた光電変換素子の材料として用いられうるジヒドロメタノ基付加フラーレン化合物を効率良く製造する方法、当該ジヒドロメタノ基付加フラーレン化合物、及び当該ジヒドロメタノ基付加フラーレン化合物を含有する光電変換素子を提供する。
【解決手段】
少なくとも一対の電極と活性層とを含む光電変換素子であって、該活性層は1つ以上のジヒドロメタノ基と1つ以上の有機基とで置換されたフラーレン化合物を含有し、該有機基は、式(n1)乃至(n7)で表される有機基のうちの1つ以上であることを特徴とする光電変換素子。
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4−ビニルフェノール重合化合物又はその薬学的に許容可能な塩の製造方法
【課題】優れた抗癌活性等の生理活性を有する4−ビニルフェノール重合化合物又はその薬学的に許容可能な塩を効率よく製造する方法を提供する。該化合物又はその薬学的に許容可能な塩は、抗癌剤、リパーゼ阻害剤、抗肥満剤、皮膚疾患治療剤等を提供する。
【解決手段】p−クマル酸をアルカリ条件下で加熱処理することにより4−ビニルフェノールの2量体又は3量体で表される重合化合物又はその薬学的に許容可能な塩を製造する。2量体は、下記式(1)で表される。
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ヒストン脱アセチル化酵素インヒビタープロドラッグ
【課題】ヒドロキサム酸ベースのヒストン脱アセチル化酵素(HDAC)インヒビターの水溶性プロドラッグの提供。
【解決手段】式(4)
で表されるスベロイルアニリドヒドロキサム酸誘導体。[式中、Raは、CORbであり、Rbは水素、あるいは、非置換もしくは置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、アルキルアリール、アルキルシクロアルキル、アルキルヘテロシクリル、アルキルヘテロアリール、または、アラニン、アルギニン、アスパラギンなどから選択されるアミノ酸残基である。]
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ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、及び電子部品パターン形成用溶剤組成物
【課題】バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い、電子部品パターン形成用溶剤組成物として好適なジプロピレングリコールジアルキルエーテルを提供する。
【解決手段】本発明のジプロピレングリコールジアルキルエーテルは、その2つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数5〜10の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であることを特徴とする。前記ジプロピレングリコールジアルキルエーテルは電子部品パターン形成用溶剤組成物、特に、カラーフィルタパターン印刷用溶剤組成物として使用することが好ましい。
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抗菌剤用組成物およびそれを用いた基材の表面処理方法
【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1):
(式中、R1、R2はフルオロアルキル基を、R3R5は水素原子等を、R6は単結合、2価の有機基を表す。)で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。
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フッ素アルコール化合物、含フッ素単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】一般式(1)で示されるフッ素アルコール化合物。
(R1は水素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の1価炭化水素基を示し、1価炭化水素基を構成する−CH2−が−O−又は−C(=O)−に置換されていてもよい。Aaは、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の(k1+1)価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基である。k1は1〜3の整数である。)
【効果】本発明のフッ素アルコール化合物は、波長500nm以下、特に波長300nm以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。
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