【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；
【化１】


（式中、Ｘ及びＲ^１〜Ｒ^１２は明細書に定義されるとおりである。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ化合物に対する要求特性を好バランスで具備し、蒸気圧が高く、低温での成膜が可能であり、更に、立体構造への成膜も可能な有機白金化合物を提供する。
【解決手段】化学蒸着法により白金薄膜又は白金化合物薄膜を製造するための有機白金化合物において、次式で示される、２価の白金にシクロオクタジエン及びアルキルアニオンが配位した有機白金化合物である。ここで、Ｒ_１とＲ_２とが、プロピルとメチル、プロピルとエチル、又はエチルとメチルの組合せのいずれかのものが特に好ましい。


（Ｒ_１、Ｒ_２はアルキル基であり、Ｒ_１とＲ_２とは相違する。また、Ｒ_１、Ｒ_２の炭素数は合計で３〜５である。） （もっと読む）

【課題】空調装置における熱媒体等として有用性の高い新規なクラスレート水和物を提供することであり、特に、分解圧力が低く、高い熱容量を有する熱媒体等として優れた性能を有する新規なクラスレート水和物を提供することである。
【解決手段】ホスト物質として水を含み、ゲスト物質として、１，１，１，２−テトラフルオロエタンとジフルオロメタンからなるハイドロフルオロカーボン混合物を包接するクラスレート水和物。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、強いＨＴＰを有する溶解性に優れた重合性キラル化合物を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で重合性キラル化合物は、強いＨＴＰ及び低い融点を有し、低融点であることから他の液晶化合物との優れた溶解性を有し重合性液晶組成物の構成部材として有用であり、ねじれ力が強いために優れた光学特性を有する光学異方体を作製することができる。本願発明の光学異方体は、偏向板、位相差板、選択反射板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】安定的かつ容易に薄膜を形成、あるいは有機薄膜層の多層化を容易に行うことができ、有機エレクトロニクス素子、特に高分子型有機ＥＬ素子の生産性を向上させる上で有用な電子受容性化合物を提供する。
【解決手段】第１の電荷輸送性化合物のカチオン及び／又はカチオンラジカルと、下記一般式（１ｂ）〜（５ｂ）で表されるアニオンのうちの１種とからなる電子受容性化合物。


（式中、Ｙ^１〜Ｙ^６は、それぞれ独立に二価の連結基、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立に電子求引性の有機置換基（これらの構造中にさらに置換基、ヘテロ原子をもっていてもよい。）を表す。Ｅ^１は酸素原子、Ｅ^２は窒素原子、Ｅ^３は炭素原子、Ｅ^４はホウ素原子又はガリウム原子、Ｅ^５はリン原子又はアンチモン原子を表す。） （もっと読む）

【課題】安定で分子対称性が低く、結晶性が低い、酸化に対して安定な有機化合物とそれを有する有機発光素子を提供する。
【解決手段】例えば下記式Ａ１で示されるベンゾ［ｈ］ヘキサフェン有機化合物。
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【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光の問題が無い化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で示される１，４−ジヒドロアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物。


（Ｚ^１はアクリロイル基又はメタクリロイル基を、Ｚ^２は水素原子、アルキル基、アシル基のいずれかを、Ｘ、Ｙは水素原子、アルキル基又はハロゲン原子のいずれかを示す。） （もっと読む）

【課題】樹脂や有機溶媒との相溶性が良好であり、金属イオン及び有機溶媒と水が含有しない、高純度のイオン性ビニルモノマー、及び該モノマーからなる帯電防止剤又は帯電防止性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に炭素数１〜３のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ４は炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルケニル基又はベンジル基を表し、Ｙは酸素原子又はＮＨ−を表し、Ｚは炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基又は炭素数０のフルオロ基を表す。）で示されるイオン性ビニルモノマーを高純度、高収率で合成し、該イオン性ビニルモノマーからなるポリマー等を帯電防止の有効成分として用いる。
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【課題】ビスフランアルコール誘導体、アミノホスホン酸誘導体への改良された方法、およびヒト自己免疫不全症候群（ＡＩＤＳ）の治療に有用なカルバメートスルホンアミドアミノエチルホスホン酸ジエステルの調製方法の提供。
【解決手段】ランタニドまたは遷移金属触媒の存在下でグリコアルデヒドまたはグリコアルデヒド二量体と２，３−ジヒドロフランを反応させてビスフランアルコールとし、これを用いて式Ｉ


で表される化合物を合成する。 （もっと読む）

【課題】植物が持つ内在性の防御システムを活性化して病害を防除するプラントアクティベーターとして有用な化合物を提供する。
【解決手段】式：(R³)NH-(CH₂)₄-N(R¹)-(CH₂)₃-NH(R²)(R¹及びR²のいずれか一方はC_6-18直鎖アルカノイル基又はアルケノイル基であり、他方は水素原子又はアミノ基の保護基を示し；R³は水素原子又はアミノ基の保護基を示す)で表される化合物。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、及びＬＷＲなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式（１）で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、各々独立に、アリールを表し、Ｒ_１とＲ_２が連結していてもよい。Ｒ_３及びＲ_４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、Ｒ_３とＲ_４が連結していてもよい。Ｒ_５は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Ｒ_５は、Ｒ_３もしくはＲ_４と連結していてもよい。
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【課題】本発明の課題は、短時間で効率良く、（メタ）アクリル酸エステルを製造するための製造方法を提供する
【解決手段】多価アルコールを酸触媒と重合禁止剤とが共存する反応系に、マイクロ波を照射して加熱して（メタ）アクリル酸エステル化反応させることを特徴とする（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。マイクロ波照射による製造方法により、プラスチック基材に対する密着性が良好な当該アクリル酸エステルの製造を可能にするものである。 （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


［式中、Ｑ^Ｉ１及びＱ^Ｉ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、ｎは、０又は１を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、ｎが０の時、Ｘ^１は単結合ではなく、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】以前のテトラサイクリン合成および半合成法によって、これまでアクセス不能であった様々なテトラサイクリン類似体およびポリサイクリンに効率的でエナンチオ選択的な経路を提供する。
【解決手段】下記式に代表されるテトラサイクリン類似体。


これらの類似体は、ヒトまたは他の動物の疾患治療において、抗菌剤または抗増殖剤として使用されてもよい。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができる、特定の塩を酸発生剤として含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。Ｌ^２及びＬ^３は、それぞれ独立に、単結合、２価の炭素数１〜６の飽和炭化水素基等を表す。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、互いに独立に、炭素数３〜３６の炭化水素環を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^３は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】耐久性が高く、色度に優れる有機電界発光素子用発光材料の提供と、発光効率が高くて、色度が優れる有機電界発光素子の提供。
【解決手段】基板と、該基板上に配置され、陽極及び陰極を含む一対の電極と、該電極間に配置され、発光層を含む少なくとも一層の有機層とを有し、前記発光層に下記式で表される発光性化合物を含む有機電界発光素子。


（Ｒ¹〜Ｒ¹⁴はそれぞれ独立に水素原子、重水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、フッ素原子、シアノ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、チオ基又はシリル基を表し、これらは互いに結合して環を形成してもよい。但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁴の内、８〜１３個は水素原子又は重水素原子を表す。） （もっと読む）

【課題】優れた界面活性能を有するとともに、エマルションの解乳化を行うに当たり、エマルションに対して添加成分を加えることなく解乳化を簡便に実施することが可能なジェミニ型界面活性剤及びエマルションの解乳化方法を提供する。
【解決手段】
本発明に係るジェミニ型界面活性剤は、アゾベンゼン基の両端に２分子の第３級アミンを連結し、第３級アミンの置換基の１つとして特定の炭素数の炭化水素鎖を導入した構造であり、優れた界面活性能を有し、安定したエマルションを形成することができるとともに、当該界面活性剤を添加したエマルションに紫外光を照射することにより相分離が簡便に実施される。そのため、成分系に影響を及ぼすこともなく、解乳化剤等の添加成分の除去等も不要な、簡便なエマルションの解乳化手段を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＬＷＲに優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ１］放射線の照射により下記式（１）で表される化合物を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。式（１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の１価の有機基である。Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。上記式（１）で表される化合物は、下記式（１−１）で表される化合物であることが好ましい。式（１−１）中、Ｒ^２は、上記式（１）と同義である。Ｘは、電子求引性基である。Ｒ^３は、炭素数１〜２０の１価の有機基である。

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【課題】アントラセン環やフルオレン環にみられるような紫外域の吸収や蛍光の問題が無く、かつ、屈折率の高いアクリレート化合物を提供する。
【解決手段】１０−置換−１，４−ジヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物。該化合物の製造法の一例を下記に示す。


上記第一反応の式において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子又はメチル基を示し、Ｘは水素原子、アルキル基又はハロゲン原子のいずれかを示し、Ｌは、ハロゲン原子を示す。 （もっと読む）

【課題】優れたレジストパターンのＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


［式（Ｉ）中、Ｑ^Ｉ１及びＱ^Ｉ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、ｎが０のとき、Ｘ^１は単結合ではない。Ｗは、特定式（Ｉａ１−１）又は特定式（Ｉａ１−２）で表される構造を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）