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Fターム[4H006AA01]の内容

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Fターム[4H006AA01]に分類される特許

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【課題】歯科材料に適用した場合に、機械的強度を高め、良好な操作性を付与できる重合性単量体を提供する。また、機械的強度が高く、優れた操作性を有する歯科用組成物とそれを用いた歯科材料を提供する。
【解決手段】
歯科材料に適用した場合に、機械的強度を高め、良好な操作性を付与できる重合性単量体は、下記式(1)で表されるアダマンタン誘導体である。


(式中、R〜Rはそれぞれ、水素又はメチル基であり、mは0〜10の整数であり、nは1〜10の整数である。)
このアダマンタン誘導体を配合した歯科用組成物は、歯科用コンポジットレジン、歯科用接着材、歯科用セメント、及び、歯科用プライマー等の歯科材料として有用である。 (もっと読む)


【課題】高い硬化度と優れた電荷輸送性能との両立を可能とする電荷輸送性膜に有用な新規化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物〔一般式(I)中、Fは電荷輸送性サブユニットを示し、Lはアルキレン基、−C=C−、−C(=O)−、−N(R)−、−O−、−S−、及びアルカン若しくはアルケンから誘導される3価又は4価の基からなる群より選択される2種以上を組み合わせてなる(n+1)価の連結基を示し、Rは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。mは1以上6以下の整数を示し、nは2以上3以下の整数を示す。〕。
【化1】



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【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物の製造方法、該化合物からなるラジカル重合開始剤、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物。式(I)中、Rは炭素数1〜10の炭化水素基であり、Zは炭素数1〜10の炭化水素基又はシアノ基であり、RとZとは相互に結合して環を形成していてもよい。Xは単結合、又は−O−C(=O)−、−NH−C(=O)−若しくは−NH−C(=NH)−を含んでいてもよい2価の連結基である。Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基である(但し、当該炭化水素基を構成する炭素原子の一部が、炭素原子以外の原子又は原子団で置換されていてもよい)。
[化1]
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【課題】より安定性が高く、サイズ制御が可能な両親媒性分子集合体を提供する。
【解決手段】多環芳香族骨格を有する両親媒性分子の集合体は、式(1)で表される構造を有する両親媒性分子を構成単位とし、複数の両親媒性分子が、環β1および環β2の疎水性相互作用およびπ−π相互作用により球状に集合してなる。


[環αは単環式の芳香族分子、環β1および環β2は多環式の芳香族分子を表し。環β1および環β2は、互いにメタ位の関係となり、かつそれぞれの面が環αの面と交わるように環αに結合。nが1の場合Rは親水性基であり、nが2以上の場合複数のRは親水性基または水素原子であって、少なくとも1つのRは親水性基である。Xは疎水性基または水素原子である。] (もっと読む)


【課題】優れたパターン倒れ耐性(PCM)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含むレジスト組成物。


[式(I)中、
1a及びR1bは、同一又は相異なり、炭素数1〜18の炭化水素基を表し、該炭化水素に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わってもよく、R1aとR1bが一緒になって置換基を有してもよい環を形成してもよい。
及びRは、同一又は相異なり、置換基を有してもよい炭素数1〜18の炭化水素基を表し、RとRが一緒になって置換基を有してもよい環を形成してもよい。] (もっと読む)


【課題】結着剤ポリマーへの溶解性がよく、安定な高濃度の有機薄膜を形成でき、キャリア移動度が高い電荷輸送材料およびこの材料を用いた電子写真感光体を提供する。
【解決手段】次の一般式(1)


で表されるトリス(4−スチリルフェニル)アミン誘導体であって、その3つの二重結合がすべてトランスである幾何異性体の比率が50%以上であるトリス(4−スチリルフェニル)アミン誘導体。 (もっと読む)


【課題】キラルドーパント、それを用いた液晶混合物および液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】例えば下式の反応で得られるキラルドーパンが例示される。
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【課題】液晶の配向層、非構造化及び構造化光学素子及び多層系の調製のために有用なジアミン化合物を提供する。
【解決手段】6−{4−〔(1E)−3−(4−ペンチルオキシフェノキシ)−3−オキソプロパ−1−エニル〕フェノキシ}ヘキシル3,5−ジアミノベンゾエート及びビス〔6−{4−〔(1E)−3−(4−ペンチルオキシフェノキシ)−3−オキソプロパ−1−エニル〕フェノキシ}ヘキシル〕2,2−ビス(アミノベンジル)マロネートに代表される特定の構造を有するジアミン化合物。このような化合物が、例えば配向層に使用される場合、光安定的な、改善されたVHRを持つ垂直に整列する材料を提供する。 (もっと読む)


【課題】有害生物防除剤として有用なアントラニルアミド、そのN−オキシドまたは塩の提供。
【解決手段】式1


[式中、Jは置換ピラゾール;R1a、R1b、R2、R3およびR6、R4は水素、アルキル基、ハロゲン、シクロプロピルメチル基等をあらわし、R4はそれぞれオキシラニルメチル、2−オキセタニルメチル、3−オキセタニルメチルまたは3−オキセタニル等を表す。];で表される化合物。 (もっと読む)


【課題】コレステリルエステル輸送蛋白(CETP)インヒビターとして有用な新規なアントラニルアミド及び2−アミノ−ヘテロアレーン−カルボキサミド誘導体、それらの製造方法、医薬としてのそれらの使用ならびにそれらを含む医薬組成物を提供する。
【解決手段】5−クロロ−N−(4−シクロペンチル−ベンジル)−2−イソプロピルアミノ−N−[2−(3−トリフルオロメチル−フェニル)−エチル]−ベンズアミドあるいはN−(4−tert−ブチル−ベンジル)−N−2−(3,4−ジクロロ−フェニル)−エチル−2−メチルアミノ−ニコチンアミドなどに代表される式Iの化合物。
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【課題】新規な作用機序により乳癌等の癌細胞に発現するエストロゲン受容体を特異的に分解して細胞死を誘導するアポトーシス阻害タンパク質リガンド−エストロゲン受容体リガンドハイブリッド化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式
【化1】


(式中、Xは、アポトーシス阻害タンパク質に特異的に結合するアポトーシス阻害タンパク質リガンドを表し、Yは、エストロゲン受容体に特異的に結合するエストロゲン受容体リガンドを表し、Zは、前記アポトーシス阻害タンパク質リガンド及び前記エストロゲン受容体リガンドの前記特異的結合性を阻害せずに両者を結合する低分子鎖状リンカーを表す)で示されることを特徴とする、アポトーシス阻害タンパク質リガンド−エストロゲン受容体リガンドハイブリッド化合物である。 (もっと読む)


【課題】比較的長波長の紫外光や可視光に対して高感度を有しつつ、低アウトガス性や光分解生成物を与えにくい性質を併せ持つ光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式(I”)で示されるアントラキノン誘導体。


(A〜Aのうちの一以上は、式(A)の基であり、式(A)の基以外のA〜Aは、水素原子またはメチル基である)


(Rは水素原子またはメチル基であり、Yはフェニレン基、その誘導体、C1〜8のアルキレン基、その誘導体であり、Zは単結合、または二価の有機基である) (もっと読む)


【課題】熱カチオン重合時にフッ素イオン生成量を減ずることができ、且つ熱カチオン重
合性接着剤に低温速硬化性を実現できる新規なスルホニウムボレート錯体を提供する。
【解決手段】新規なスルホニウムボレート錯体は以下の式(1)の構造で表される。


式(1)中、Rはo−メチルベンジル基又は(1−ナフチル)メチル基であり、Rはメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基である。Xはハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。 (もっと読む)


【課題】エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤として用いることができる、新規なカリックスアレーン系化合物を提供する。
【解決手段】下記式(I−1)で示される特定構造を有するカリックスアレーン系化合物。
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【課題】重合することにより、優れた耐熱性及び強靱性を有する硬化物を形成することができる新規の脂環式トリエポキシ化合物、及びその製造方法、前記脂環式トリエポキシ化合物を得る上で有用な新規のアセタール化合物、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の脂環式トリエポキシ化合物は、下記式(1)で表される。前記式(1)で表される脂環式トリエポキシ化合物は、例えば、下記式(2)で表されるアセタール化合物を酸化剤を用いて酸化することにより得られる。下記式中、R1、R2、R3は、同一又は異なって、単結合又は炭素数1〜2のアルキレン基を示す。
【化10】
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【課題】燐光を発光することが可能な新規物質を提供する。または、発光効率の高い新規
物質を提供する。
【解決手段】4−アリールピリミジン誘導体を配位子とし、イリジウムを中心金属とする
有機金属錯体を提供する。具体的には、一般式(G1)で表される構造を有する有機金属
錯体を提供する。一般式(G1)中、Rは、置換もしくは無置換の炭素数1〜4のアル
キル基、又は置換もしくは無置換の炭素数6〜10のアリール基を表し、Rは、水素、
置換もしくは無置換の炭素数1〜4のアルキル基、又は置換もしくは無置換のフェニル基
を表し、Rは、水素、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜4のアルキル基を表し、A
は、置換又は無置換の炭素数6〜10のアリーレン基を表す。
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【課題】 有機分子(シッフ塩基分子)内包複合体とその製造法、及びこの複合体による水中の遷移金属イオン検出法・回収方法を提供する。
【解決手段】 有機分子(シッフ塩基)とアスペクト比30〜5000のアルミナナノ粒子から構成される複合体であって、その複合体の比表面積及び細孔容量が、有機分子を内包する前の自立膜の比表面積100m/g以上、細孔容量0.05cm/g以上と比べ、それぞれ10m/g以下、0.01cm/g以下である、有機分子内包複合体、各種形態を有する繊維状アルミナ自立膜の加熱脱水と、真空環境下で有機分子を気化させて、スリット状の細孔に当該有機分子を高密度かつ複合体全体に渡って均質に吸着・充填させる、有機分子内包複合体の製造方法、及び遷移金属イオン検知法・回収方法。
【効果】 上記複合体は、例えば、水中に溶解した遷移金属イオンを検知する遷移金属イオン検知法として有用である。 (もっと読む)


【課題】マスク補正技術を使用した際、マスク補正用パターンを残さずに、矩形なパターンを得ることができるレジスト組成物を調整するための塩の提供。
【解決手段】式(I)で表される塩。


[式中、Q及びQは、それぞれフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜20の3価の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。L−OHにおける−OHは、Lで表される炭素数1〜20の3価の脂肪族飽和炭化水素基のうち鎖状部分の炭素原子上に結合している。Wは、炭素数3〜36の1価の脂環式炭化水素基等を表す。Rは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター(MEF)を十分に満足するレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される新規な塩を提供する。
【解決手段】式(I)で表される塩。(式(I)中、Q及びQは、フッ素原子等を表す。Lは、脂肪族飽和炭化水素基等を表し、該脂肪族飽和炭化水素基のメチレン基は、酸素原子等に置き換わっていてもよい。Lは、脂肪族飽和炭化水素基を表し、該脂肪族飽和炭化水素基のメチレン基は、酸素原子−NR−等に置き換わっていてもよい。Rは、水素原子又はアルキル基を表す。環Wは、脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該脂肪族環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。Rは、フッ素置換芳香環を含む1価の有機基であり、該有機基は置換基を有していてもよい。Zは、有機対イオンを表す。)
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【課題】優れた露光マージンでレジストパターンを製造するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物に含有される新規な塩を提供する。
【解決手段】式(I)で表される塩、及び当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物の提供。


[式(I)中、
1及びQ2は、フッ素原子などを表す。
及びXは、単結合又は脂肪族飽和炭化水素基などを表す。Aは、炭素数1〜30の有機基を表す。
+は、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


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