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Fターム[4H006AA03]の内容

有機低分子化合物及びその製造 (186,529) | 発明の種類 (31,005) | 用途 (6,451)

Fターム[4H006AA03]に分類される特許

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【課題】相溶性に優れ、タックやブリードがなく、耐擦傷性に優れた硬化物を与え得るポリウレタン組成物に適した多官能含フッ素アルコール及びポリウレタン組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(II)又は(III)で表される含フッ素アルコール及び撥水性ポリウレタン用組成物。


[式中、Rf及びRfは少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状のフッ化炭化水素基を表す。ただし、Rfはq価であり、Rfは1価である。qは2以上の整数を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Qで置換されていてもよく、このQを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量で35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となる。またqが2以上のとき、複数のQは同一でも異なってもよい。] (もっと読む)


【課題】高い効果を有する殺虫剤を提供する。
【解決手段】殺虫剤を下記一般式(1)で表されるイミド化合物を含んで構成する。


(式中、A、A、A及びAはそれぞれ炭素原子、窒素原子又は酸化された窒素原子を示し、Rは水素原子、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよいC2−C4アルキルカルボニル基を示す。G及びGはそれぞれ、酸素原子又は硫黄原子を示す。Xは同一又は異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、C1−C3アルキル基又はトリフルオロメチル基を示す。nは0から4の整数を示す。Q及びQは、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいナフチル基又は置換されていてもよい複素環基を示す。) (もっと読む)


【課題】近赤外域で発光する高効率かつ長寿命な発光素子、この発光素子を備える発光装置、認証装置および電子機器を提供する。
【解決手段】発光素子は、陽極と、陰極と、陽極と陰極との間に設けられた発光層とを有し、発光層は、下記式(1)で表わされる化合物と、下記式IRH−1で表わされる化合物とを含んで構成される。


[前記式(1)中、Aは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、アリールアミノ基、またはトリアリールアミンを示す。]


[前記式IRH−1中、nは、1〜10の自然数を示し、Rは置換基または官能基を表し、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、アリールアミノ基を示す。] (もっと読む)


【課題】皮膚の炎症の原因菌に対して抗菌活性を示す、抗菌剤及び皮膚外用剤を提供する。
【解決手段】式(1)等で表される化合物の少なくとも1種を有効成分とする、抗アクネ菌剤または抗黄色ブドウ球菌剤である抗菌剤及び皮膚外用剤。
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【課題】優れたCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる新規な塩、および当該塩と樹脂とを含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される塩、および当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Lは、単結合又は炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置き換わっていてもよく、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Rは、ヒドロキシ基又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。lは、0〜3の整数を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】本発明は、密集及び孤立の両トレンチパターン形成における焦点深度を共に高いレベルにすることができ、かつ断面形状が良好なレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]酸解離性基を含む構造単位(I)を有する重合体、及び
[B]酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物であって、[B]酸発生剤が、下記式(1)で表されるカチオンと、炭素数6〜15の脂環構造を有するアニオンとを含むことを特徴とする。下記式(1)中、R、R及びRは、それぞれ独立して、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基である。但し、RとRとが互いに結合して、これらが結合している硫黄原子と共に環構造を形成していてもよい。Xは、単結合又は酸素原子である。
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【課題】青色発光し、発光特性(特に、外部量子収率)に優れた有機発光素子を提供する。
【解決手段】式1の錯体が含まれる有機発光素子。


(R1〜R6は、水素、アルキル基等を、Mは、Ir又はPtを表す。a、bは整数。) (もっと読む)


【課題】高耐熱性、高架橋性、高屈折率、高透明性、低線膨張率などの優れた特性を効率よく付与するのに有用な化合物を提供する。
【解決手段】酸触媒の存在下で、フルオレノン類と、ヒドロキシル基を有する縮合多環式炭化水素とを反応させ、下記式(1)で表されるフルオレン骨格を有する化合物を得る。


(式中、環ZおよびZは縮合多環式炭化水素環、R1a、R1bおよびRは同一又は異なって置換基を示す。k1およびk2は同一又は異なって0〜4の整数を示し、mは0又は1以上の整数、nは1以上の整数を示す。)
上記式(1)で表される代表的な化合物には、9,9−ビス[(ポリ)ヒドロキシナフチル]フルオレン類などが含まれる。 (もっと読む)


【課題】β−ラクタム系抗生物質の失活を抑制し、抗菌活性を回復させる薬剤となるメタロ−β−ラクタマーゼ阻害剤の提供。
【解決手段】下記一般式(I)の構造を有するマレイン酸誘導体はメタロ−β−ラクタマーゼ阻害活性を有する。この一般式(I)の化合物をβ−ラクタム系抗生物質と併用することにより、メタロ−β−ラクタマーゼ産生菌に対するβ−ラクタム系抗生物質の抗菌活性を回復させることが可能となる。
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【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター(MEF)が良好なレジスト組成物に好適な塩およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)で表される塩。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Lは、*−CO−、*−CO−O−L−CO−(Lは、2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。)又は*−CO−O−L−O−CO−(Lは、2価の炭素数1〜12の飽和炭化水素基を表す。)を表す。Xは、−SO−又は−SO−を表す。Rは、ヒドロキシ基又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。lは、0〜3の整数を表す。mは、1〜3の整数を表す。nは、1又は2を表す。Zは、有機カチオンを表す。]、および、当該塩とアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】ラインエッジラフネス(LER)がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 酸分解性基を有する樹脂(A)と、
式(B3)


[式(B3)中、
は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。
は、酸分解性基及び窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。]
で表される塩(B3)と、
式(E1)


[式(E1)中、
は、窒素原子を有する有機カチオンを表す。
は、窒素原子を有さない有機スルホン酸アニオンを表す。]
で表される塩(E1)と
を含有するレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】融点が低く液体の状態で輸送が可能であり且つ蒸気圧が大きく気化させやすく、CVD法等の化合物(プレカーサ)を気化させて薄膜を形成する方法において用いる薄膜形成用原料として好適なニッケル化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表されるアルコキシド化合物。
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【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式(1)で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化1]


式中、X及びYは、互いに異なって、水素原子、−SOM、−S−CH−CH−SOM、−PO又は−S−(CH−COOMを表す。R〜Rは、水素原子又はアルキル基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。p、q、r及びsは、価数を表す。 (もっと読む)


【課題】大規模でのゾタロリムス及び他のラパマイシン誘導体を得るための一ステップワンポット法の提供。
【解決手段】乾燥ラパマイシンを酢酸イソプロピルに溶解する。冷却及び2,6−ルチジンの添加の後に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物を−30℃で徐々に加える。塩をろ過により除去する。テトラゾールを、続いて第3級塩基ジイソプロピルエチルアミンを加える。室温でインキュベートした後、生成物を濃縮し、THF/ヘプタンを溶離剤として用いてシリカゲルカラムにより精製する。生成物を収集し、濃縮し、アセトン/ヘプタンカラムを用いて精製する。生成物を含む画分を濃縮する。生成物をt−BMEに溶解し、ヘプタンで沈殿させる。固体をアセトンに溶解し、ブチルヒドロキシトルエンで処理し、溶液を濃縮する。この工程をアセトンを用いて2回繰り返して溶媒を除去する。乾燥の前に0.5%のBHTなどの少なくとも1つの安定化剤を加える。 (もっと読む)


【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式(I)で表される塩。


[式(I)中、
及びQは、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
は、単結合又は炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、ヒドロキシ基又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
lは、0〜3の整数を表す。mは、0〜3の整数を表す。nは、1〜3の整数を表す。
は、有機カチオンを表す。]、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】簡便な成膜プロセスにより作製した薄膜が良好な電荷移動度を示す、空気中の酸素に対して安定な液晶性半導体材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物又はその混合物を主成分とする液晶性有機半導体材料。


(式中、A1〜A12はそれぞれ独立に、水素原子又はフッ素原子を示し、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基又は、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アルキルスルファニル基、アルコキシメチル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基を示す。nは0又は1である。) (もっと読む)


【課題】薬学的活性化合物、とりわけレニン阻害剤の合成に有用な新規製造方法、新規工程段階および新規中間体の提供。
【解決手段】式IIIのピロリジン環を、ヒドロキシル基をハロゲン置換、又は有機スルホン酸のスルホネートとした後、保護されたアミノ基との反応によって製造することを含む、式III


〔式中、R、R、R、Rは水素等、およびPGはアミノ保護基である。〕の化合物、またはその塩の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 新規な有害生物防除剤の提供。
【解決手段】 本発明は、式(I):
【化1】


〔式中、R及びRはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又はシアノであり、Rはアルキル又はハロアルキルであり;nは0又は1の整数であり;Qは一般式[Q−1]〜[Q−6](明細書参照)である〕で表される化合物又はその塩、それらを有効成分として含有する有害生物防除剤を提供する。 (もっと読む)


【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、式(I)で表される塩とを含有するレジスト組成物。


[式(I)中、Q及びQは、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Lは、炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該2価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Lは、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。Yは、芳香族炭化水素基を含む炭素数6〜30の2価の有機基を表す。Rは、炭素数1〜12のフッ化アルキル基を表す。Zは、有機カチオンを表す。] (もっと読む)


【課題】自己磁性を有する新規な金属サレン錯体化合物及びその誘導体を提供する。
【解決手段】下式等で表される金属サレン錯体化合物。




[式中、Mは、Fe、Cr、Mn、Co、Ni、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Re、Os、Ir、Pt、Nd、Sm、Eu、又は、Gdからなる2価の金属元素を表す。] (もっと読む)


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