【課題】感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、（Ａ）バインダポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｃ）光重合開始剤が、特定の式（１）で表される化合物を含む感光性樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有する［Ｚ^＋は有機カチオン；Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１〜６のフッ素化アルキル基；Ｘは−（ＣＨ_２）_ｍ１−；Ｙは単結合、−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_Ｌ１−；Ｌ１、ｍ１は１〜６の整数；ＲｘはＣ＝Ｃ不飽和結合を有し、置換基を有していてもよい炭素数２〜３６の２価の脂肪族炭化水素基；Ｒｙは酸解離性基である。］。
［化１］
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【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


［式中、Ｑ^Ｉ１及びＱ^Ｉ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、ｎは、０又は１を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、ｎが０の時、Ｘ^１は単結合ではなく、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジスト組成物を構成する酸発生剤の提供。
【解決手段】式（１）で表される基を有するヒドロキシ芳香族誘導体。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。＊は、ヒドロキシ芳香族環との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】ポジ型、ネガ型のいずれのフォトレジスト組成物においても使用することができる新規な光感応性酸発生剤化合物、およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα，α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、充分な光応答性を示し、耐ガス性に優れた感光体とそれを備えた画像形成装置を提供する。
【解決手段】電荷発生物質を含む電荷発生層と、電荷輸送物質を含む電荷輸送層とがこの順で積層された積層型感光層、または電荷発生物質および電荷輸送物質を含む単層型感光層が導電性支持体上に形成されており、前記電荷輸送層または前記単層型感光層が、電荷輸送物質として、下記一般式（Ｉ）：


で示されるトリアリールアミン誘導体を含む電子写真感光体。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物およびその製造方法、該化合物の前駆体として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。Ａは、当該Ａが結合した硫黄原子とともに３〜７員環構造の環を形成する２価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２はＲ^５３−Ｒ^５４−（式中、Ｒ^５３は炭素数２〜１０のアルケニル基またはアリール基であり、Ｒ^５４は炭素数１〜５の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基である。）で表される基であり、ｎは０であり、Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基である。
［化１］
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【課題】感度、ラフネス特性及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する化合物であって、下記一般式（１−１）により表される化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、
Ｒ^1a及びＲ^1bは、同一又は相異なり、炭素数１〜１８の炭化水素基を表し、該炭化水素に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わってもよく、Ｒ^1aとＲ^1bが一緒になって置換基を有してもよい環を形成してもよい。
Ｒ^２及びＲ^３は、同一又は相異なり、置換基を有してもよい炭素数１〜１８の炭化水素基を表し、Ｒ^２とＲ^３が一緒になって置換基を有してもよい環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】 新規な縮合多環化合物、及び高効率で高輝度な光出力を有する有機発光素子を提供する。
【解決手段】 下記一般式［１］で示されることを特徴とする縮合多環化合物を提供する。
【化１】


［１］ （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像時間依存性が小さく、かつ現像により形成されるパターン部の膜べりを抑制する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）によって表される酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。
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【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基；Ｒ^ｆ１及びＲ^ｆ２は、互いに独立に、フッ素原子又はフッ化アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＥＬに優れると共に、得られるパターンのＬＷＲを低減し、リソグラフィー特性を向上させることができるフォトレジスト組成物を与え得る感放射線性酸発生剤を提供することである。
【解決手段】本発明の化合物は、下記式（１）で表される。また、下記式（１）におけるＲ^２は、炭素数１〜２０の鎖状炭化水素基であることが好ましい。さらに、本発明は、［Ａ］本発明の化合物、及び［Ｂ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物も含む。
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【課題】優れた機械的耐久性と耐ガス安定性を兼ね備えた電子写真感光体及びその製造方法、特に高濃度な酸化性ガス暴露条件下においても安定して高画質な画像出力が可能で高寿命な画像形成装置、画像形成方法及びプロセスカートリッジの提供。
【解決手段】本発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体であって、前記感光層の最表面層が、下記一般式（１）で表される芳香族炭化水素化合物と、３次元架橋ポリマーとを有し、前記３次元架橋ポリマーが、電荷輸送性化合物の芳香環に［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］メチル基を３個以上有する化合物から、前記［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］メチル基の一部が切れて脱離する反応により重合して形成される。
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【課題】
電子写真感光体の感光層に好適に用いることが可能な、バインダー樹脂との相溶性が良く、優れた電気特性を有し、しかも安価製造できるトリアリールアミン化合物物を感光層に含有する電子写真感光体、及び該感光体を用いた電子写真カートリッジ及び画像形成装置を提供する。
【解決手段】
導電性支持体上に、感光層を有する電子写真感光体において、該感光層が、特定の構造を有するトリアリールアミン系化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする電子写真
感光体。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、０〜３の整数を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が良好なレジスト組成物に好適な塩およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−ＣＯ−（Ｌ^ａは、２価の炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。）又は＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ｂ−Ｏ−ＣＯ−（Ｌ^ｂは、２価の炭素数１〜１２の飽和炭化水素基を表す。）を表す。Ｘ^１は、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−を表す。Ｒ^１は、ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｌは、０〜３の整数を表す。ｍは、１〜３の整数を表す。ｎは、１又は２を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］、および、当該塩とアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）