【課題】ガス等の物質を選択的に吸着できる吸着材や、分離性能の高い分離材を提供する
【解決手段】金属イオンと該金属イオンに配位可能な有機配位子とが繰り返し単位を構成する金属錯体であって、吸着されるガスの種類、吸着圧力または吸着温度により、吸着されるガスを高選択的に吸着することを特徴とする金属錯体。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗは、式（Ｗ１）〜式（Ｗ５）から選ばれる式で表される基；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れの少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤及び（Ｄ）式（Ｉ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は独立に炭化水素基、アルコキシ基等；ｍ及びｎは独立に、０〜４の整数；Ｒ^３及びＲ^４は独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^５は環状エーテル構造を含む基；Ｚ１^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られる酸発生剤を含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのＣＤ均一性（ＣＤＵ）が必ずしも満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びそれを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２はフッ素原子等を表す。Ｌ^１は単結合等を表す。Ｙは置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の一価の脂環式炭化水素基等を表す。Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は水素原子等を表す。カチオンのＳを含む脂環に含まれるメチレン基は酸素原子等で置き換わっていてもよい。ｎは、１〜３の整数を表す。ｓは、０〜３の整数を表す。Ｒ^８は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１は、ヒドロキシ基又はアルキル基；Ｒ^２及びＲ^４は、それぞれ水素原子又はアルキル基；ｌは０〜３の整数；ｍ及びｎは、それぞれ１又は２；Ｒ^３は、水素原子又はアルキル基；ｏは、０又は１；Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】５−シアノイソフタル酸と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素含有炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^５は、環状エーテル構造を含む基；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】樹脂に配合した場合に、高い難燃性および熱安定性を付与しうる含臭素有機化合物を提供する。
【解決手段】下式１で示される含臭素有機化合物、該含臭素有機化合物を含有する難燃剤、並びに該難燃剤と樹脂とを含有する難燃性樹脂組成物。


（式中、Ａは−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−および−Ｓ−のいずれかを表し、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ水素原子または炭素数１〜６の飽和炭化水素基を表し、Ｒ_３は炭素数１〜６の飽和炭化水素基を表し、Ｙはハロゲン原子を表し、ｍおよびｎはそれぞれ１〜４の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】高い解像性と良好な保存安定性を与え、電子線、遠紫外線、極紫外線などを用いた微細加工に有用な化学増幅レジスト材料の提供。
【解決手段】（Ａ）式（１）の３級アミン化合物（Ｂ）式（２）の酸発生剤、（Ｃ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ現像液不溶又は難溶の樹脂であって、該酸不安定基が脱保護されたときにアルカリ現像液可溶となるベース樹脂、（Ｄ）有機溶剤を必須成分として含有する化学増幅レジスト材料。


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【課題】ハンドリング性が高く、ＣＯ_２吸収性が良好なＣＯ_２吸収材、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＣＯ_２吸収材であって、アミノ基含有架橋重合体と、下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は独立に水素原子、又は、ヒドロキシ基又はアミノ基で置換されてもよい炭素数１〜４の直鎖又は分岐アルキル基を示し、Ｘは基中にエーテル結合を含んでいてもよい炭素数２〜４の直鎖又は分岐アルキレン基を示す。）で示されるアルカノールアミンの極性溶媒溶液とを含むアミノ基含有架橋重合体膨潤ゲルを有することを特徴とする、ＣＯ_２吸収材。 （もっと読む）

【課題】ペルフルオロブタンスルホニルフルオリドを精製し、ペルフルオロスルホランを除去した、高純度のペルフルオロブタンスルホニルフルオリドを提供する。
【解決手段】ペルフルオロスルホランの含有量が質量基準で１００ｐｐｍ以下であるペルフルオロブタンスルホニルフルオリド。１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブタンスルホン酸カリウム塩の含有量が質量基準で１００ｐｐｍ以下であるペルフルオロブタンスルホン酸カリウム塩、およびペルフルオロブタンスルホニルフルオリド中に、アルカリ金属水酸化物の水溶液を添加してペルフルオロスルホランを除去するペルフルオロブタンスルホニルフルオリドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度の白金イオンを含有する溶液から選択的にパラジウムイオンを分離する抽出剤又は吸着剤及び当該吸着剤を用いたパラジウムイオンの分離回収方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるアミド含有スルフィド化合物を含んでなるパラジウムイオン抽出剤、又は下記一般式（１）で示されるアミド含有スルフィド化合物を担体に固定化させたパラジウムイオン吸着剤を用いて、パラジウムイオンを選択的に分離回収する。


（式中、Ｒは各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の鎖式炭化水素基、炭素数３〜１０の脂環式炭化水素基、又は炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基を表し、ｎは各々独立して、１〜４の整数を表し、Ｌはメチレン基、エチレン基、炭素数３〜８の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、又は炭素数６〜１４のアリーレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】樹脂の難燃性を発現させる化合物、樹脂と該化合物とを含む樹脂組成物、および該樹脂組成物を含む樹脂成形体の提供。
【解決手段】例えば木質資源であるリグニンを出発物質として合成（誘導）される特定の炭酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される、アルカリ現像液不溶であって、酸の作用によりアルカリ現像液可溶となる、ステロイド骨格を有する酸分解性ケトエステル化合物の１種又は２種以上を含有するポジ型化学増幅レジスト材料。


（Ｒ¹は、炭素原子数と酸素原子数の和が６〜２０の、酸の作用により−ＣＯＯＲ¹が分解してカルボキシル基を生じる酸不安定基を表す。Ｘはそれぞれ独立に、カルボニル基（−ＣＯ−）又はメチレン基（−ＣＨ₂−）を表す。Ｙはそれぞれ独立に、単結合、又は炭素数１〜６のアルキレン基を表す。ｎは０〜２の整数である。）
【効果】高い解像性と良好なＬＥＲ（パターンラインエッジラフネス）を与えるものであり、電子線、遠紫外線、極端紫外線などを用いた微細加工に有用である。 （もっと読む）

【課題】貴金属イオンを含む溶液からの貴金属の回収方法、それに用いる抽出剤若しくは吸着剤、及び逆抽出剤若しくは脱着剤を提供する。
【解決手段】貴金属イオンを抽出又は吸着した抽出剤又は吸着剤を、下記一般式（１）


（上記式（１）中、Ｒ^１はメチル基、エチル基、ビニル基、炭素数３〜８の直鎖、分岐若しくは環状の炭化水素基、又は炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^２は各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ビニル基、炭素数３〜８の直鎖、分岐若しくは環状の炭化水素基、又は炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基を表し、ｎは０又は１を表す。）で表される含硫黄アミノ酸誘導体を含む逆抽出剤又は脱着剤と接触させて貴金属を得る。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びこの酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは、２価の脂肪族環、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置換されていてもよい；ｓは０〜３の整数；Ｒ^１は、脂肪族炭化水素基；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができる
レジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は互いに結合して炭素原子とともに炭素数３〜２０の環を形成する。Ｒ^４及びＲ^５は水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は２価の炭素数１〜１７の炭化水素基を表し、前記２価の炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。また、前記２価の炭化水素基に含まれる水素原子は、−ＯＨで置き換わっていてもよい。Ｒ^６は水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素を表す。Ａ^＋は有機カチオンを表す。］
（もっと読む）

【課題】融点が比較的低く、熱的安定性に優れ、さらに水の溶解度が低く、高い分解電圧特性を有する非プロトン性極性溶媒に有用な新規のスルホン化合物を提供する。また、該スルホン化合物の製造方法、および該スルホン化合物を用いて製造される電気化学デバイス用電解液を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるスルホン化合物。
［化１］


式（１）中、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示す。 （もっと読む）

【課題】大気圧における沸点が２００℃以上であるニトリル化合物を溶媒とすることで、耐久性に優れた色素増感太陽電池用電解質組成物及び色素増感太陽電池を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるニトリル化合物


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、アラルキル基、アリール基を示す）、又は／及び、下記式（２）で表されるアルコキシニトリル化合物


（Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、アラルキル基、アリール基を示す）と酸化還元対を含む色素増感太陽電池用電解質組成物、及びそれを用いた色素増感太陽電池。 （もっと読む）