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Fターム[4H006AB80]の内容

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【課題】化学反応は液相にて行うことができ、反応終了後の液相から、特定の化合物を分離することが容易となり、また、分離した化合物が担体に結合したままの状態で、構造解析等による化合物の評価を行うことができ、更には、担体から化合物を容易に分離することができる分離用担体及び化合物の分離方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に他の化合物と結合する反応部位を一箇所有し、当該反応部位のオルト位及びパラ位に、それぞれ、特定の炭素数以上の長鎖の基を、酸素原子を介して有する構造の分離用担体とする。 (もっと読む)


【課題】比較的低い加熱温度であっても水素の放出量を増大させることができ、水素放出後であっても再利用が可能であり、長期間にわたって安定的に保存することのできる水素放出包接化合物、及び当該水素放出化合物からの水素放出方法を提供する。
【解決手段】水素放出化合物は、ゲスト化合物としての窒素ホウ素化合物を、ホスト化合物としてのアミド系化合物で包接してなる化合物である。窒素ホウ素化合物はアンモニアボラン等であり、アミド系化合物はジフェン酸ビス(ジシクロヘキシルアミド)等である。これにより、窒素ホウ素包接化合物から90から150℃の加熱温度で水素を放出でき、また当該窒素ホウ素包接化合物を長期間にわたって安定的に保存することができる。 (もっと読む)


【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、式(b1−1)で表される化合物を含む酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物;式中、R”〜R”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも1つは式(b1−1−0)で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Xは炭素数3〜30の炭化水素基、Qは単結合又はアルキレン基、pは1〜3の整数である。Wは炭素数2〜10のアルキレン基である。]
[化1]
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【課題】ゲスト化合物である窒素ホウ素化合物の含有率が高く、水素の放出量を増大させることのできる包接化合物、及び当該包接化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】包接化合物は、ゲスト化合物としての窒素ホウ素化合物を、ホスト化合物としてのジフェン酸ビス(ジシクロヘキシルアミド)で包接してなり、包接化合物中における窒素ホウ素化合物の含有率が1質量%以上のものである。このような包接化合物は、窒素ホウ素化合物の濃度が0.1mol/L以上となるように、ジフェン酸ビス(ジシクロヘキシルアミド)と窒素ホウ素化合物とを有機溶媒に溶解させ、それらを接触させることで、容易に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、酸発生剤成分(B)は式(b1−1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有するレジスト組成物。[式中、R”〜R”はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、少なくとも1つは水素原子の一部が式(b1−0−01)で表される基で置換された置換アリール基であり、Wは炭素数2〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である。]
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【課題】解像性に優れ、低コストで、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な塩基発生剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生する塩基発生剤を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物、並びに特定の構造を有し、電磁波の照射と加熱により、塩基を発生することを特徴とする、塩基発生剤。 (もっと読む)


【課題】化学反応の溶媒、触媒およびガス混合物の精製などに有用であるイオン性液体を提供する。
【解決手段】下記一般式で表されるイオン性化合物。[式中、Rはアルキル基、アリール基などを表し、Lは、(C(R,(C(RJ(C(R,または(C(RAr(C(Rを表し;Zは−SOH,−COH,−COR,−C(O)N(R”),−C(O)N(R”)N(R”),−N(R’),−アルケニル又はアルキニルを表し;Xはアリールスルホネート、ビス(アルキルスルホニル)アミドなどのアニオン性部位を表す。]
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【課題】感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物を含有する感活性光線性樹脂組成物。


式中、Arは、芳香族環を表し、−(A−B)基以外に更に置換基を有してもよい。nは、1以上の整数を表す。Aは、単結合、アルキレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−S(=O)―、−S(=O)−、及び−OS(=O)−から選択されるいずれか、あるいは2以上の組み合わせ(但し、−C(=O)O−を除く)を表す。Bは、3級若しくは4級炭素原子を含む、炭素原子数が4以上の炭化水素基を有する基を表す。nが2以上のとき、複数の−(A−B)基は同一でも異なっていてもよい。Mは、有機オニウムイオンを表す。 (もっと読む)


【課題】工業的に優位性のある、1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法を提供する。
【解決手段】以下の工程を含む、1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法。
第1工程:1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンに、フッ化水素を反応させることにより、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを得る工程。
第2工程:第1工程で得られた1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンに、気相中、フッ素化触媒存在下、フッ化水素を反応させることにより、1,3,3,3−テトラフルオロプロペンを得る工程。 (もっと読む)


1,1,1,2,3−ペンタクロロプロパン及びフッ化水素から実質的に構成される共沸混合物様組成物、並びにかかる共沸混合物様組成物に関係する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】
光硬化性樹脂の光硬化において良好な光硬化性を発現する光塩基発生剤、及びそれを用いた光硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
下記式(1)で表される2−アミノトロポン誘導体を含有する光塩基発生剤。
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式(I)[式中、Ar1は、例えば、いずれも非置換であるか、または置換されたフェニレンまたはビフェニレンであり、Ar2およびAr3は、例えば、互いに独立して、いずれも場合によって置換されたフェニル、ナフチル、ビフェニリルまたはヘテロアリールであり、あるいはAr1およびAr2は、例えば、直接結合、O、Sまたは(CO)と一緒になって、縮合環系を形成し、Rは、例えば、水素、C3−C30シクロアルキルまたはC1−C18アルキルであり、R1、R2およびR3は、互いに独立して、例えばC1−C10ハロアルキルである]の化合物は、効果的な光酸発生剤(PAG)である。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1−1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物[式中、Rは、少なくとも1の水素原子がフッ素置換されている炭素数1〜10のアルキル基であり;Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基であり;Aはカチオンである。]。
[化1]
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【課題】フォトリソグラフィーにおいて、高解像性かつ露光余裕度に優れたレジスト材料のベース樹脂用の単量体として有用な重合性アニオンを有するスルホニウム塩、そのスルホニウム塩から得られる高分子化合物、その高分子化合物を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)で示されるスルホニウム塩。


(AはC1〜20の二価の有機基。nは0又は1) (もっと読む)


【課題】 穏和な条件下で、蒸留速度の速いイオン液体を提供する。
【解決手段】 本発明は、カチオン成分およびアニオン成分からなる非プロトン性イオン液体であって、上記カチオン成分は有機カチオンであり、上記アニオン成分は下記化学式(1)で示される化学構造を含むことを特徴とするイオン液体である。但し、式中、R、Rは、水素原子、炭素数が10以下のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、又は複素環基、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素数が10以下のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。また、RとR、又はRとRの間で環を形成してもよい。
【化1】
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【課題】露光量が変動した際のレジストパターン寸法の変化が小さい(ELマージンが大きく)レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の酸発生剤および当該酸発生剤として有用である化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤を含有するレジスト組成物。式(b1)中、Yは置換基を有していてもよい炭素数1〜4のフッ素化アルキレン基であり、Xは置換基を有していてもよい炭素数3〜30の脂肪族環式基であり、R11’は置換基を有していてもよいアリール基またはアルキル基であり、Rは水素原子またはアルキル基であり、n1は0または1であり、Aは、当該Aが結合した硫黄原子とともに3〜7員環構造の環を形成する2価の基であり、前記環は置換基を有していてもよい。
[化1]
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【課題】PGMEA等のエステル溶媒に対する高い溶解性に加えて、アルカリ溶媒への溶解性を有しているとともに、安価な原料のみで簡便に製造できるフラーレン誘導体並びにその溶液、及びその膜を提供する。
【解決手段】下記式(I)で表わされる
ことを特徴とするフラーレン誘導体。



(式(I)において、
は1以上3以下の水酸基を含み、且つ水酸基以外の置換基を有していてもよい炭素数6〜18の芳香族性を有する炭化水素基を表し、
aは1以上15以下のRの平均付加数を表し、
bは1以上15以下のH(水素原子)の平均付加数を表し、
丸で示される構造はフラーレン骨格を表す。) (もっと読む)


【課題】解像性能に優れ、かつ、ナノエッジラフネスの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で示される部分構造を有する感放射線性酸発生剤と、(B)樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物。


〔一般式(1)において、Rは1価の炭化水素基等を示す。〕 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、感度、解像力及びデフォーカスラチチュード(DOF)に優れた感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物である−SO2−結合を有するカチオンを有するスルホニウム塩(A)を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】様々な生物学的、化学的、及び物理的バリアを経る、多種多様な活性剤のデリバリーを可能にする。
【解決手段】所定のカルボン酸及び/またはその塩の形態の化合物を、活性剤のデリバリー剤として使用する。 (もっと読む)


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