【課題】従来ＰＶｄＦ用溶剤として用いられているＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド系溶剤の代替え品または該アミド系溶剤の使用量の低減を可能にする無毒性かまたは殆ど毒性がないＰＶｄＦ用溶剤を提供することを課題とする。
【解決手段】 一般式（１）：


（式中、Ｒ₁は水素、ヒドロキシメチル基またはＣ₁〜Ｃ₄アシロキシメチル基であり、Ｒ₂は水素、水酸基、Ｃ₁〜Ｃ₄アシルオキシ基またはＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基であり、Ｒ₃は水素またはＣ₁〜Ｃ₄アシル基である）
で示されるイソプレン誘導体であることを特徴とするポリフッ化ビニリデン系樹脂用溶剤により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性に優れ、高硬度な炭素膜形成に適したフラーレン誘導体を提供。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるフラーレン誘導体。


（丸はフラーレン骨格を表し、Ｒ¹は式（ＩＩ）で表される基、ｍは１〜２０の整数を表す。Ｒ²は水素原子、水酸基又は炭素数１〜３０の有機基、ｎは０〜２０の整数を表す。）


（Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、Ｂは炭素原子数１〜２０の二価鎖状炭化水素連結基、Ｒ³は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又はアリール基、もしくは置換基を有していてもよいヘテロ環状炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）又は（ａ０−２）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記基材成分（Ａ）に加えて、光反応型クエンチャー（Ｃ）を含有することを特徴とするＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物。式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は、全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。Ｍ^ｍ＋は、芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】アゾ顔料の結着樹脂への分散性が良好で、良好な色調を有し、画像カブリ抑制、転写効率が良好で長期的に安定した画像が得られるトナーの提供。
【解決手段】少なくとも、結着樹脂、特定の高分子樹脂ユニットに特定のビスアゾ骨格ユニットが結合した化合物、及び、着色剤としてアゾ顔料を含有するトナー母粒子を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子を用いた熱電変換材料であって、導電性を飛躍的に向上させることで、熱変換効率をより高めた熱電変換材料を提供する。
【解決手段】導電性高分子、カーボンナノチューブ、及びオニウム塩化合物を含有し、導電率異方性が１．５〜１０である熱電変換材料。オニウム塩化合物の共存下において特定の外部エネルギーを付与すると、オニウム塩化合物が酸を発生して優れたドーパントとして機能する結果、熱電変換特性を高めた材料が得られる。 （もっと読む）

【課題】高分子化合物と評価対象化合物との結合部位を従来よりも効率良く解明すると供に、高分子化合物と評価対象化合物との結合位置の信憑性を従来よりも向上させる。
【解決手段】高分子化合物に対する評価対象分子の結合を数値計算に基づいて評価する方法であって、評価対象分子を構成する各原子の電子受容性及び電子供与性の度合いに基づいて高分子化合物のどの原子と評価対象分子のどの原子とが結合するかを特定する。 （もっと読む）

【課題】高温、高湿度、またはオゾン存在下の過酷な条件に晒されても、導電性および透明性に優れる、金属導電性繊維を含有する導電性組成物、その導電性組成物を含む導電性層を有する導電性部材、その製造方法および当該導電性部材を用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも、ａ）平均短軸長が１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の金属導電性繊維、およびｂ）前記金属導電性繊維に対して、０．１質量％以上１０００質量％以下の特定構造を有する化合物、を含有する導電性組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光によりｐＫａが０以上である酸を発生する酸発生剤成分（Ｃ）（但し、前記基材成分（Ａ）を除く）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（但し、前記基材成分（Ａ）及び前記酸発生剤成分（Ｃ）を除く）と、を含み、前記基材成分（Ａ）が、主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有する重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジスト組成物を構成する酸発生剤の提供。
【解決手段】式（１）で表される基を有するヒドロキシ芳香族誘導体。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、同一又は相異なり、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。＊は、ヒドロキシ芳香族環との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】良好な硬化性を有し、また耐湿性に優れる新規ヒドラジド化合物、および耐湿信頼性等の特性に非常に優れる硬化物を実現できる樹脂組成物、さらには該樹脂組成物を用いた接着剤、液晶シール剤用途の提案を課題とする。
【解決手段】下記式（１）で表されるヒドラジド化合物。
【化１】


（式中ｎは０〜６の整数を表し、ｍは１〜４の整数を表す。）
また、当該ヒドラジド化合物を用いた樹脂組成物とその接着剤、液晶シール剤用途。 （もっと読む）

【課題】金属錯体をカチオンとして含有するイオン性液体であって、前記金属錯体の中心金属に対し、気相等に存在する分子が配位又は脱離することにより状態が変化するイオン液体及び該イオン液体の利用方法を提供すること。
【解決手段】式


で表される金属錯体をカチオンとして含有することを特徴とするイオン液体。 （もっと読む）

【課題】マスク補正技術を使用した際、マスク補正用パターンを残さずに、矩形なパターンを得ることができるレジスト組成物を調整するための塩の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜２０の３価の脂肪族飽和炭化水素基等を表す。Ｌ^１−ＯＨにおける−ＯＨは、Ｌ^１で表される炭素数１〜２０の３価の脂肪族飽和炭化水素基のうち鎖状部分の炭素原子上に結合している。Ｗは、炭素数３〜３６の１価の脂環式炭化水素基等を表す。Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】新規の結晶ジアセチレン化合物および前記化合物を調製する方法を提供すること。
【解決手段】一定の結晶特性および他の特性を有する結晶ジアセチレン化合物；ジアセチレン溶液から結晶化させたジアセチレン化合物および混合物；ジアセチレン化合物を溶解するための溶媒系を調製および同定する方法；ジアセチレン溶液；ジアセチレン化合物を再結晶化させる方法；２，４−ヘキサジイン−１，６−ビス（アルキル尿素）化合物の結晶；ならびに結晶ジアセチレン化合物を含む周囲条件インジケーターおよび時間−温度条件インジケーター。 （もっと読む）

【課題】高感度、優れた露光ラチチュード、及び、優れたラインエッジラフネス性能を高次元で鼎立可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１−１）により表される化合物を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、Ｒ_１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、又は複素環式基を表す。Ｒ_２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、複素環式基、シアノ基、又は、アルコキシカルボニル基を表す。Ｒ_３は、１つ以上の−ＣＨ_２−基が、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、又は、ウレア基により置換されていても良い、アルキレン基を表す。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）のレジストパターンを製造し得るレジスト組成物及び該レジスト組成物に用いられる新規な樹脂を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂及び酸発生剤を含むレジスト組成物。


［Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３は、フッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸安定基；Ａ^aa１は、炭化水素基；Ａ^ab1は、アルカンジイル基；Ｒ^ab2は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）及び式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ａ¹⁴は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】室温下のみならず、加熱下においても、酸化防止剤又は重合禁止剤に起因する重合性単量体又はその部分重合体若しくは重合体の着色を防止することができる着色防止剤、当該着色防止剤を用いた着色防止方法、及び当該着色防止剤によって着色が防止された重合性単量体又はその部分重合体若しくは重合体を含む配合物を提供する。
【解決手段】重合性単量体又はその部分重合体若しくは重合体と酸化防止剤又は重合禁止剤とからなる配合物に添加して使用する、シラノール化合物からなる着色防止剤。 （もっと読む）

【課題】従来から知られる化合物は、有機溶媒への溶解性が必ずしも十分に満足できるものではなかった。
【解決手段】式（Ｉ）


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^３は、互いに独立に、スルホ基又はカルボキシ基を表す。Ｒ^２及びＲ^４は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基又は水酸基を表す。］
で表される化合物、該化合物を有効成分とする染料及び該染料を含む着色組成物。 （もっと読む）

【課題】相溶性に優れ、タックやブリードがなく、耐擦傷性に優れた硬化物を与え得るポリウレタン組成物に適した多官能含フッ素アルコール及びポリウレタン組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（II）又は（III）で表される含フッ素アルコール及び撥水性ポリウレタン用組成物。


［式中、Ｒｆ_１及びＲｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び／又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状のフッ化炭化水素基を表す。ただし、Ｒｆ_１はｑ価であり、Ｒｆ_２は１価である。ｑは２以上の整数を表す。また上記式中メチロール基のヒドロキシル基の水素原子は重合性基Ｑで置換されていてもよく、このＱを導入した化合物のフッ素含有率は該化合物の分子量で３５質量％以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも３００以下となる。またｑが２以上のとき、複数のＱは同一でも異なってもよい。］ （もっと読む）