【課題】 ２，３−ジヒドロキシプロピル−（メタ）アクリルアミドの重合防止方法を提供すること。
【解決手段】酸素を溶存させることを特徴とする、一般式（１）
【化１】


（Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。）で表される化合物の重合防止方法。 （もっと読む）

本発明はアルキル（メタ）アクリレートを、メチル（メタ）アクリレートと、メタノールに対して高沸点のアルコールとのエステル交換反応によって連続的に製造するための方法に関する。特定の後処理技術によって、従来達成されなかった生成物品質を達成している。更に非常に高い空時収量及び全収率を達成できる。 （もっと読む）

【課題】 メタクロレインを重合させることなく、かつメタクロレインダイマーの生成を抑制することができるメタクロレインの保存方法を提供する。
【解決手段】 メタクロレインを次の（１）〜（３）の条件を満足する条件下で保存するメタクロレインの保存方法。
（１）メタクロレイン中のフェノール化合物の濃度が０．０００５〜３質量％
（２）メタクロレインの温度が２０℃以下
（３）メタクロレインの表面が３〜２０体積％の酸素含有ガスと接触している （もっと読む）

【課題】 脱水素触媒と水蒸気の存在下でエチルベンゼンの脱水素反応によるスチレンの製造において、脱水素反応装置以降の熱交換器、冷却凝縮器および／又は圧縮凝縮器、移送ラインおよび給排ライン、蒸留精製工程の蒸留塔およびこれらの周辺装置やその移送／給排ラインでのスチレンの重合に由来する汚れの発生、付着を防止する方法を提供することにある。
【解決手段】 脱水素触媒と水蒸気の存在下でエチルベンゼンの脱水素反応によるスチレンの製造において、脱水素反応装置から排出され、冷却凝縮器および／又は圧縮凝縮器への供給前の脱水素反応生成物及び／又は凝縮分離したベントガスに、沸点が２００℃〜３５０℃（１気圧）の重合抑制剤を添加することを特徴とするスチレン製造における汚れ防止方法。 （もっと読む）

【課題】ヘキサフルオロプロペンオキシド重合体由来の含フッ素ポリエーテル基を有し、従ってパーフルオロアルキルビニルエーテルのパーフルオロアルキル基の如く剛直ではなく柔軟性があり、しかも熱的安定性、化学的安定性にすぐれ、良好な光学的性質、界面活性特性をも併せ持つ含フッ素ビニルエーテル化合物を提供する。
【解決手段】一般式RfO(C₃F₆O)_a(C_nF_2n)(C_mH_2m)_bCH₂OCH=CH₂(Rfは炭素数1以上のポリフルオロアルキル基であり、aは0または1〜30の整数であり、bは1〜10の整数であり、nおよびmは1または2である)で表わされる含フッ素ビニルエーテル化合物。この化合物は、一般式RfO(C₃F₆O)_a(C_nF_2n)(C_mH_2m)_bCH₂OHで表わされる含フッ素アルコールと一般式XCH₂CH₂OCH=CH₂(Xはハロゲン原子、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基である)で表わされるアルキルビニルエーテルとを、パラジウム系触媒の存在下で、脱XCH₂CH₂OH化反応させることによって製造される。 （もっと読む）

アミノアルキルイミダゾリンまたはアルキル置換スクシンイミド防汚剤またはそれらの混合物を有する組成物、および(メタ)アクリル酸製造プロセスおよび(メタ)アクリル酸が反応に用いられ、未反応の(メタ)アクリル酸が回収(recover)されるプロセスにおける汚損を防止するためのアミノアルキルイミダゾリン類およびアルキル置換スクシンイミド類の使用。 （もっと読む）

本発明は、固体表面処理に使用する、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ＴＤＣＥ）の安定化に関する。安定化溶液は、少なくとも１つの型の酸スカベンジャー、少なくとも１つのラジカル捕獲剤、少なくとも１つのルイス塩基及び少なくとも１つの型の緩衝化合物を含有する。 （もっと読む）

本発明は、グリセロールモノメタクリレート（ＧＭＭＡ）を製造するための方法に関する。 （もっと読む）

対象エチレン性不飽和モノマーの製造、精製、取扱及び貯蔵の間の重合を抑制する、装置を製造するための材料及び方法を開示する。特に、銅又は銅を含有する金属は、酸素の存在下で、モノマー、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの製造、精製、取扱及び貯蔵の間に使用される装置内のポリマー汚染になる、望ましくない重合を抑制する。本明細書に記載した銅又は銅合金は、酸素含有ガスの存在下で、装置の少なくとも部分を製作するために使用したときに自己抑制表面特性を示して、このような銅含有金属を含む装置の部分と接触状態にあるモノマーの重合を抑制する。 （もっと読む）

重合可能な化合物を、精製、貯蔵及び／又は輸送の際に、重合に対して安定化させるために、ラジカルスカベンジャーは、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）、ジエチレントリアミンペンタ酢酸（ＤＴＰＡ）、トランス‐１，２‐シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸（ＣＹＤＴＡ）及びそのアルカリ金属‐及びアルカリ土類金属塩から選択されないことを条件として、少なくとも２個のグリシン単位を有する少なくとも１種のラジカルスカベンジャーを使用する方法。 （もっと読む）

【課題】従来のエポキシドからの近接エステルの製造法によれば、望みの高純度生成物を得るには、精製を追加する必要がある。従って、近接ジエステルを高収率および高純度で製造できる方法が求められている。
【解決手段】エポキシド開環触媒の存在下で、置換型エポキシド、好ましくはシリコーン含有置換型エポキシドを少なくとも1個のカルボン酸および少なくとも1個の保護剤と反応させることによって、近接ジエステルを高収率および高純度で形成できる。 （もっと読む）

【課題】蒸留工程中に高粘稠なポリマー状物質の形成が防止され、留出されたスチレン誘導体の回収率が高い新しいスチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方法を提供する。
【解決手段】アントラロビンを重合禁止剤として、一般式Ｉ

で表わされ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン，ｐ−アセトキシスチレン，３，４−ジメトキシスチレンまたはα−メチル−ｍ−クロロスレン等を代表とするスチレン誘導体に添加し、重合禁止剤の存在下に該スチレン誘導体を蒸留する、スチレン誘導体の蒸留方法。 （もっと読む）

【課題】ポリマー生成がほとんどなく、高い回収率でオキシスチレン誘導体を得る経済性に優れた蒸留方法を提供する。
【解決の手段】一般式１のオキシスチレン誘導体の蒸留において、重合禁止剤としてニトロソ化合物及び／又はニトロ化合物を添加するオキシスチレン誘導体の蒸留方法。


（Ｒは、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基又はアルキルシリル基を表わす。） （もっと読む）

【課題】 各種重合の原料として用いた場合に、得られる樹脂の光学的性質を実質的に低下させることのない、１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレン組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】 シクロペンタジエンおよび／またはジシクロペンタジエンと、シクロペンタジエン基準で２〜５０倍モルのインデンを加熱反応させた後、蒸留精製することからなる、２種のシクロペンタジエンの３量体の合計含有量が１００〜５,０００ｐｐｍである１,４−メタノ−１,４,４ａ,９ａ−テトラヒドロフルオレンの組成物の製造方法。 （もっと読む）