【課題】他の材料との相溶性に優れ、化学的にも安定で、かつ液晶電気光学素子に用いた場合に広い温度範囲で高速応答性に優れ低電圧駆動できる性質を有する液晶化合物およびその製造方法、該液晶化合物を含有する液晶組成物および液晶電気光学素子を提供する。
【解決手段】Ｒ¹−（Ａ¹）_a−Ｚ¹−（Ａ²）_b−Ｚ²−（Ａ³）_c−Ｚ³−Ａ⁴−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−Ａ⁵−Ｚ⁴−（Ａ⁶）_d−Ｚ⁵−（Ａ⁷）_e−Ｒ²（１）で特定される−ＣＨ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ−連結基を有する液晶化合物。式（１）中、Ｒ1、Ｒ2：水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１８の１価の脂肪族炭化水素基等を示す。Ａ1、Ａ２、Ａ３、Ａ4、Ａ５、Ａ6、Ａ7：トランス−１，４−シクロへキシレン基等を示す。Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4、Ｚ5：単結合、炭素数１〜４の２価の脂肪族炭化水素基を示す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ：０または１。ただし、０≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦３。 （もっと読む）

【課題】アダマンタンカルボン酸化合物を原料として、工業的に有用な水酸基の導入技術を提供する。
【解決手段】水／有機溶媒２相系において、１−アダマンタンカルボン酸化合物に対し、ルテニウム化合物、次亜塩素酸塩及び無機酸を反応させて水酸基を導入する、下式で示されるアダマンタノール化合物の製造方法。


［式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン含有アルキル基、アルカリ金属原子を示し、Ｘは水素原子、アルキル基、ハロゲン含有アルキル基、ヒドロキシル基、ハロゲン基、又は、ヒドロキシル基、ハロゲン基若しくはエーテル基を有するヒドロカルビル基を表し、ｎ_１は１０〜１２、ｎ_２は０〜２の整数を表し、ｎ_１＋ｎ_２＝１２とする。］ （もっと読む）

【課題】アダマンタン骨格を有し、光学特性や耐熱性などに優れた機能性樹脂の原料であるヒドロキシアダマンタンカルボン酸類の効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるアダマンタンジオール類を、液状プロトン酸溶媒中、該アダマンタンジオール類の水酸基１当量に対し２当量以下の一酸化炭素源を反応させ、その後一般式（２）で表されるヒドロキシアダマンタンカルボン酸の結晶をろ別する、ヒドロキシアダマンタンカルボン酸類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】セルトラリン塩酸塩の製造において中間体として用いられる下記式１で示される（＋）−シス−セルトラリンの選択的な製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、（±）−シス／トランス−セルトラリン又は（±）−シス−セルトラリンを（Ｓ）−（−）−２−ピロリドン−５−カルボン酸と反応させて（＋）−シス−セルトラリン（Ｓ）−（−）−２−ピロリドン−５−カルボン酸塩を製造して光学分割する工程を含む、式１で示される（＋）−シス−セルトラリンの製造方法を提供する。
［式１］
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【課題】不純物としての無機イオンが存在しない高純度のスルホニウム化合物を高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】酢酸イソプロピルを主成分とする有機溶媒で４−置換フェニルジアルキルスルホニウムポリフルオライド化合物を抽出する工程を含む下式で表されるスルホニウム化合物の製造方法。


（ただし、式中、Ｒ₁は水素，メトキシカルボニル基，アセチル基，ベンゾイル基のいずれかを、Ｒ₂は水素，ハロゲン，Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基のいずれかを、Ｒ₃はＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基，Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基，α−ナフチルメチル基のいずれかを、Ｒ₄はＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基を示す。ＸはＳbＦ₆，ＰＦ₆，ＡsＦ₆，ＢＦ₄，ＣＦ_３ＳＯ_３，(ＣＦ_３ＳＯ₂)_２Ｎ，Ｂ(Ｃ₆Ｆ₅)₄のいずれかを示す。） （もっと読む）

【課題】メタノールおよび／またはその反応性誘導体を、促進されたイリジウムカルボニル化触媒の存在下に、一酸化炭素でカルボニル化し酢酸を製造するための、改善された方法を得る。
【解決手段】メタノールおよび／またはその反応性誘導体を、促進されたイリジウムカルボニル化触媒の存在下に一酸化炭素でカルボニル化し、促進剤が硼素およびガリウムである酢酸の製造方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂や有機溶媒との相溶性が良好であり、金属イオン及び有機溶媒と水が含有しない、高純度のイオン性ビニルモノマー、及び該モノマーからなる帯電防止剤又は帯電防止性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に炭素数１〜３のアルキル基で互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ４は炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルケニル基又はベンジル基を表し、Ｙは酸素原子又はＮＨ−を表し、Ｚは炭素数１〜３のアルキレン基を表し、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は同じであっても異なっていてもよく、炭素数１〜４のペルフルオロアルキル基又は炭素数０のフルオロ基を表す。）で示されるイオン性ビニルモノマーを高純度、高収率で合成し、該イオン性ビニルモノマーからなるポリマー等を帯電防止の有効成分として用いる。
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【課題】芳香族ハロゲン化合物あるいは芳香族ケトン化合物中のハロゲン原子やアシル基を、分解あるいは水素化など変換することなく、効率良く、保護基であるベンジル基を水素化し、脱ベンジルする技術の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸ベンジルエステルに、エステル系溶媒中、パラジウム成分を担持したβ型ゼオライトの存在下で水素ガスを作用させ、式（II）で表されるカルボン酸化合物とすることを特徴とする脱ベンジル化方法。


（式中、Ａｒは、１またはそれ以上の水素化される可能性のある置換基有する芳香環式基または複素環式基を、Ｚ_１は、単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−または−ＣＨ＝ＣＨ−を、Ｚ_２は、単結合または−ＣＨ_２ＣＨ_２−をそれぞれ示し、Ｂｎはベンジル基を示す） （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、短時間で効率良く、（メタ）アクリル酸エステルを製造するための製造方法を提供する
【解決手段】多価アルコールを酸触媒と重合禁止剤とが共存する反応系に、マイクロ波を照射して加熱して（メタ）アクリル酸エステル化反応させることを特徴とする（メタ）アクリル酸エステルの製造方法。マイクロ波照射による製造方法により、プラスチック基材に対する密着性が良好な当該アクリル酸エステルの製造を可能にするものである。 （もっと読む）

【課題】低コスト且つ工業的規模での量産が実施可能であり、環境への負荷を可能な限り低減した高収率である２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ置換トリフェニレン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】２価又は３価の鉄イオンを含む化合物の存在下、１，２−ジ置換ベンゼン化合物の３量化反応により、トリフェニレン化合物を製造する方法において、該反応においてカルボン酸エステル類、ラクトン類、炭酸エステル類及び亜硫酸エステル類からなる群から選択される少なくとも１種の反応溶媒を用いることを特徴とする２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ置換トリフェニレン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、生産設備を腐食等損傷させることなくフッ素系４級アンモニウム塩を高収率で生産できる製造方法を提供することである。
【解決手段】以下の（１）〜（４）の工程を含むフッ素系４級アンモニウム塩（Ａ）の製造方法。
（１）３級アミン類を沸点が４０℃〜１００℃の溶媒（ｂ１）中で４級化し、その４級アンモニウム塩溶液（Ｓ１）をフッ素系無機酸（ｃ１）水溶液で中和処理する工程
（２）沸点が１０１℃〜３００℃の非プロトン性溶媒（ｂ２）を加えた後、溶媒（ｂ１）を除去して濃縮する工程
（３）メタノール、またはメタノールとエタノールの混合溶媒を添加し、該混合溶媒を留去することに伴い水分を除去することにより、０．０００１〜１重量％の水分量に調整する工程
（４）溶媒（ａ）を加え、再結晶により精製することにより（Ａ）を得る工程 （もっと読む）

【課題】スルホニウムボレート錯体を高い純度で得るために用いることができるスルホニウム化合物、並びにスルホニウム化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るスルホニウム化合物は、下記式（１）で表されるスルホニウムアンチモネート錯体と、アルカリ金属硫化物とを反応させることにより得られる。下記式（１）中、Ｒ１はアリール基又はナフチル基を表し、Ｒ２はヒドロキシ基又はＣＨ_３ＯＣＯＯ基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【化１】
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【課題】新規の結晶ジアセチレン化合物および前記化合物を調製する方法を提供すること。
【解決手段】一定の結晶特性および他の特性を有する結晶ジアセチレン化合物；ジアセチレン溶液から結晶化させたジアセチレン化合物および混合物；ジアセチレン化合物を溶解するための溶媒系を調製および同定する方法；ジアセチレン溶液；ジアセチレン化合物を再結晶化させる方法；２，４−ヘキサジイン−１，６−ビス（アルキル尿素）化合物の結晶；ならびに結晶ジアセチレン化合物を含む周囲条件インジケーターおよび時間−温度条件インジケーター。 （もっと読む）

【課題】新規なビニル酢酸誘導体を提供する。異性体の少ない高純度のビニル酢酸及びビニル酢酸誘導体を効率よく製造する。
【解決手段】２−ブテン酸を水と混合し、水中での光反応による異性化で高選択的にビニル酢酸に転換、溶媒抽出、濃縮工程によりビニル酢酸を取得後、アルコール化合物とのエステル化反応により、新規の構造を含む種々のビニル酢酸エステルに誘導する。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性でレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数が少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】7置換型縮合環テトラサイクリン化合物、テトラサイクリン応答状態を治療する方法、および7置換型縮合環テトラサイクリン化合物を含む薬学的組成物において、7置換型縮合環テトラサイクリン化合物の中間原料となる７−ヨードテトラサイクリン化合物の製造方法の提供。
【解決手段】７−非置換テトラサイクリン化合物をトリフルオロ酢酸中、少なくとも１当量のＮ−ヨードスクシンイミドで処理することにより７−ヨードテトラサイクリン化合物を製造する方法。得られた７−ヨードテトラサイクリン化合物を精製する工程をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性で、レジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】高収率、高エナンチオ選択性で光学活性カルボン酸エステルを製造することができる新規不斉触媒、並びにその不斉触媒を用いた光学活性カルボン酸エステル、光学活性アルコール、及び光学活性カルボン酸の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（ａ）又は（ｂ）で表される化合物又はそのエナンチオマーである新規不斉触媒を提供する。ラセミの２級アルコールとカルボン酸との反応、あるいはラセミのカルボン酸と特定のアルコール又はフェノール誘導体との反応において、本発明に係る不斉触媒を用いることにより、ラセミの２級アルコール又はラセミのカルボン酸の一方のエナンチオマーを選択的にエステル化して、光学活性カルボン酸エステル等を製造する。
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【課題】新規で鏡像異性的に実質的に純粋な中間体を使用するレボセチリジンなどの鏡像異性的に実質的に純粋な化合物のより簡単な調製方法の提供。
【解決手段】（Ｓ）−２−［４−（４−クロロベンズヒドリル）ピペラジン−１−イル］−エトキシアセトアミド−（Ｓ）−ピロリドン−５−カルボン酸塩；（Ｒ）−２−［４−（４−クロロベンズヒドリル）ピペラジン−１−イル］−エトキシアセトアミド−（Ｓ）−ピロリドン−５−カルボン酸塩；（Ｓ）−２−［４−（４−クロロベンズヒドリル）ピペラジン−１−イル］−エトキシアセトアミド−（Ｒ）−ピロリドン−５−カルボン酸塩；又は（Ｒ）−２−［４−（４−クロロベンズヒドリル）ピペラジン−１−イル］−エトキシアセトアミド−（Ｒ）−ピロリドン−５−カルボン酸塩。混合物の化学分割による（Ｓ）−２−［４−（４−クロロベンズヒドリル）ピペラジン−１−イル］−エトキシアセトアミド（Ｉ）及び（Ｒ）−２−［４−（４−クロロベンズヒドリル）ピペラジン−１−イル］−エトキシアセトアミド（ＩＩ）の調製方法。 （もっと読む）