式（Ｉ）（式中、Ｒ₁〜Ｒ₁₅、Ｐ₁、Ｐ₂、Ａ、ＢおよびＱは、請求項に定義したものである）の化合物ならびにその薬学的に許容され得る塩およびエステルが開示される。式（Ｉ）の化合物は、マトリプターゼ阻害剤としての有用性を有し、マトリプターゼ依存症状、特にがんの治療に有用である。

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本発明は、式（Ｉ）の架橋スピロ［２．４］ヘプタン誘導体、
【化１】


（式中、Ｗ、Ｙ、Ｚ、Ｒ^１及びＲ^２は明細書中に定義した通りである。）、それらの製造及び炎症性及び閉塞性気道疾患の治療のためのＡＬＸ受容体及び／又はＦＰＲＬ２アゴニストとして薬学的に活性な化合物としてのそれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用により２個以上のカルボキシル基を生じ、酸の作用により水酸基を生じず、且つラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−１）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 経済性良く得られるＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアダマンタンアンモニウム塩からなるゼオライト製造用の構造指向剤、及びそれを用いたゼオライトの製造法を提供する
【解決手段】 シリカ源、アルミニウム源、アルカリ源、水、及び構造指向剤を含有する合成原料混合物を水熱合成してゼオライトを製造する際に、構造指向剤として下記式（１）
【化１】


で表される化合物を使用する。 （もっと読む）

【課題】優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用によりカルボキシル基及びヒドロキシ基を生じかつラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−３）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物及び化学増幅型フォトレジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ₂ エキシマレーザーあるいはＥＵＶに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた樹脂組成物およびその原料化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される脂環式エステル化合物。
【化１】


（式中、Ｒ₁は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ₂〜Ｒ₄は、同一または異なって、メチル基またはエチル基を示し、Ｚは、炭素数４〜１５の２価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環状の炭化水素を形成する。炭化水素基においては、水素原子がハロゲン原子、アルコキシ基で置換されていても良い。） （もっと読む）

【課題】 液晶相の広い温度範囲を有し、他の化合物との優れた相溶性を有し、さらに、光学異方性などの必要な特性を有する重合性の液晶性化合物、透明性、機械的強度、塗布性、溶解度、結晶化度、収縮性、透水度、吸水度、融点、ガラス転移点、透明点、耐薬品性などの特性の多くに優れた重合体、この重合体から光学異方性を有する成形体、およびこの重合体を含有する液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 下記の式（１）または式（２）で表される化合物。
Ｒａ−Ｚ−（Ａ−Ｚ）ｍ−Ｒｂ （１）
Ｒａ−Ｚ−（Ａ−Ｚ）ｍ−Ｒａ （２）
式中、Ｒ^ａは重合性基であり；Ｒ^ｂはアルキル、アルコキシなどの末端基であり；Ａは１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンなどの環であり、少なくとも１つのＡは２，３−ビス（トリフルオロメチル）−１，４−フェニレンであり；Ｚは単結合、アルキレン、オキシアルキレン、−ＣＯＯ−などの結合基であり；ｍは１〜６の整数である。 （もっと読む）

【課題】痛みを治療および／または予防するために、電位依存性カルシウムチャネルのα2δサブユニットに対して親和性がある化合物またはその薬理学的に許容される塩を含有する医薬組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する医薬組成物。


［式中、R¹、R²、R^2’、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸およびR^8’は、水素原子等であり、R³は、水素原子、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基等である］。 （もっと読む）

【課題】焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の二種の繰り返し単位を含有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）特定のアンモニウム構造を有する化合物を含有する、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】屈折率が高く、歯科用材料に適用した場合に高い審美性を付与でき、同時に良好なペースト性状（良好な延び特性や付形性）を付与できる重合性単量体を提供する。
【解決手段】少なくとも１個の式ＣＨ₂＝ＣＲ¹−ＣＯ−Ｌ−｛Ｒ¹は、水素原子又は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基を示し、Ｌは、酸素原子又は−ＮＲ²−（Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基を示す）で表されるイミノ基を示す。｝で表される基、水酸基により置換されていない少なくとも１個のアルキレンオキシ基、及び少なくとも１個の置換されていてもよいベンゼン環を有するアダマンタン誘導体である。このアダマンタン誘導体は、例えば下式（３）の化合物であり、コンポジットレジン、ボンディング材、セメント、プライマーなどの歯科用材料として有用である。
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【課題】アダマンチル（メタ）アクリレート類を高収率で得る。
【解決手段】硫酸触媒の存在下、アダマンタノール類と（メタ）アクリル酸類を反応させてアダマンチル（メタ）アクリレート類を製造する方法において、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のハロゲン化物の含有量が０．５重量％以下のアダマンタノール類を用いる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用として有用な新規な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（Ａ１−１）［式中、Ｐは、分子量５００〜２５００の多価フェノール化合物から（ｎ_１２＋１）個の−ＯＨを除いた基であり、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基であり、Ｒ^２は酸非解離性基であり、ｎ_１２は１〜３の整数である。］で表される化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】液晶表示素子に利用される液晶材料等として有用な液晶組成物及びフルオロビシクロ［２．２．２］−２−オクテン骨格を有する化合物の提供。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で表されるフルオロビシクロ［２．２．２］−２−オクテン骨格を有する化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする液晶組成物、及び下記式（ＩＩ）で表される化合物である。式中、Ｙは、水素原子もしくはフッ素原子を表す。
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【課題】液晶表示素子に利用される液晶材料等として有用な液晶組成物及びジフルオロビシクロ［２．２．２］オクタン骨格を有する化合物の提供。
【解決手段】下式（ＩＩ）で表されるジフルオロビシクロ［２．２．２］オクタン骨格を有する化合物、及び該化合物を少なくとも一種を含有することを特徴とする液晶組成物。


具体的には、下記反応で得られる化合物が例示される。
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本発明は、式（Ｉ）


〔式中、Ｗ、Ｘ、Ｙ、Ｚ及びＣＫＥは、上記で示されているように定義される〕の新規化合物、その新規化合物を調製するための数種類の方法及び中間体、並びに、それらの害虫駆除剤及び／又は除草剤としての使用に関する。本発明は、さらに、ハロゲンアルキルメチレンオキシフェニル置換ケトエノールと作物植物の適合性を改善する化合物を含んでいる選択的除草剤製品にも関する。本発明は、さらに、アンモニウム塩又はホスホニウム塩を添加し及び場合により浸透増強剤を添加することによりハロゲンアルキルメチレンオキシフェニル置換ケトエノールを含んでいる作物保護剤の効果を増強すること、対応する製品、それらの調製方法、並びに、殺虫剤及び／若しくは殺ダニ剤としての作物保護におけるそれらの使用並びに／又は植物の望ましくない生長を防止するためのそれらの使用にも関する。
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【課題】光透過性が高く、溶媒に対する溶解性に優れ、高度な耐熱性を有するポリイミドを製造する際の原料モノマーの提供。
【解決手段】下記一般式（１）：


で表されるドデカハイドロ−１，４：５，８−ジメタノアントラセン−９，１０−ジオン−２，３，６，７−テトラカルボン酸−２，３：６，７−二無水物類。 （もっと読む）

Ｓ１Ｐ_５受容体の作動薬または拮抗薬である化合物、前記化合物を含む組成物ならびに前記化合物および組成物の使用方法が開示される。ある種の実施形態において、前記化合物は１−ベンジルアゼチジン−３−カルボン酸誘導体である。ある種の実施形態において、前記方法は神経因性疼痛および／または神経変性障害の治療に関するものである。ある種の実施形態において、前記化合物は第２の治療薬と併用することができる。 （もっと読む）

【課題】２，６−ナフタレンジカルボン酸の製造方法の提供。
【解決手段】（１）２，６−ナフタレンジカルボン酸のジ低級アルキルエステルと塩基性アルカリ金属化合物とを、２，６−ナフタレンジカルボン酸のジ低級アルキルエステルに対して４〜７倍重量の水性媒体の存在下で反応させて、２，６−ナフタレンジカルボン酸のジアルカリ金属塩の溶液を得る工程；（２）２，６−ナフタレンジカルボン酸のジ低級アルキルエステルの仕込み量に対して水性媒体が７．１〜２０倍重量となるように、工程（１）で得られた２，６−ナフタレンジカルボン酸のジアルカリ金属塩の溶液を水性媒体で希釈する工程；および、（３）工程（２）で希釈された２，６−ナフタレンジカルボン酸のジアルカリ金属塩の溶液を酸析し、析出した２，６−ナフタレンジカルボン酸を分離回収する工程。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、レジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた機能性樹脂組成物およびその原料であるアダマンタン誘導体の提供。
【解決手段】アダマンタン環上の置換基として、ヒドロキシメチル基及び下記の式で表わされる（メタ）アクロイル基を有するアダマンタン誘導体。および当該誘導体を繰り返し単位として含む機能性樹脂組成物。
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【課題】高感度、高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記化合物（１）と、下記化合物（２）からなり、モル比率が化合物（１）：化合物（２）＝１５：８５〜７０：３０である組成物。
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