【課題】 重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性、高いコレステリック配向性及び短いピッチを示す重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表される重合性化合物を提供する。更に、当該重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物、並びに当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】疎水性が高く液浸水への溶出が低く、酸拡散制御による、高解像性パターンプロファイルの構築。
【解決手段】（Ａ）式（１−１）の化合物（Ｂ）式（１−２）で示される酸発生剤、（Ｃ）ベース樹脂、（Ｄ）有機溶剤を含有するＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。


（Ａｒはアリール基。）


（Ｒ¹はアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基。Ｒ²は水素原子又はトリフルオロメチル基。Ａｒはアリール基。） （もっと読む）

【課題】フッ素化（ポリ）エーテル含有カルボニルフルオリドを効率的に製造する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基およびｎ−ブチル基からなる群より互いに独立して選択される）で表わされるビス（ジアルキルアミノ）メタンの存在下に、第１の原料として、含フッ素カルボニル化合物、２，２，３，３−テトラフルオロオキセタンおよびテトラフルオロエタンスルトンからなる群より選択される少なくとも１つの化合物と、第２の原料として、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとを、非プロトン性極性溶媒中で反応させて、フッ素化（ポリ）エーテル含有カルボニルフルオリドを得る。 （もっと読む）

【課題】フッ素系オイルの添加剤として用いた場合に該フッ素系オイルの熱分解防止性能
効果を発揮する新規化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるフッ素系オイルの添加剤であることを特徴とするフッ素系オイルの熱分解防止性に優れたオイル添加剤によって解決される。


〔式中、Ｙは酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）、ＣＯ基、ＳＯ基又はＳＯ２基を表わし、
ｋは１〜５の整数であり、ｍは１〜１０の整数であり、ｎは１以上の整数である。フェニ
ル基に有する２つの置換基の置換位置は、オルト位、メタ位、パラ位の何れでも良い。〕 （もっと読む）

【課題】耐水性を有し、比較的安定した帯電防止性を樹脂に付与できる新規なオニウム塩を提供する。
【解決手段】下式（１）で示されるオニウム塩。Ｑ^＋・Ｃ_６Ｆ_５Ｙ⁻（１）（式中、Ｑ^＋は下式（２）等で表されるカチオンを表し、Ｙ⁻はＯ⁻、ＣＯ_２⁻又はＳＯ_３⁻を表す。）


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_３は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ_４は炭素数５〜２０のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】コレステリルエステル輸送蛋白（ＣＥＴＰ）インヒビターとして有用な新規なアントラニルアミド及び２−アミノ−ヘテロアレーン−カルボキサミド誘導体、それらの製造方法、医薬としてのそれらの使用ならびにそれらを含む医薬組成物を提供する。
【解決手段】５−クロロ−Ｎ−（４−シクロペンチル−ベンジル）−２−イソプロピルアミノ−Ｎ−［２−（３−トリフルオロメチル−フェニル）−エチル］−ベンズアミドあるいはＮ−（４−tert−ブチル−ベンジル）−Ｎ−２−（３，４−ジクロロ−フェニル）−エチル−２−メチルアミノ−ニコチンアミドなどに代表される式Ｉの化合物。
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【課題】キラルドーパント、それを用いた液晶混合物および液晶ディスプレイを提供する。
【解決手段】例えば下式の反応で得られるキラルドーパンが例示される。
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【課題】インテグラーゼ阻害剤を調製するためのプロセスおよび中間体の提供。
【解決手段】有用なインテグラーゼ阻害作用を有する４−オキソキノロン化合物の調製に使用可能な合成中間体式３の化合物を２，４−ジメトキシ−５−ブロモ安息香酸より調整し、さらに、酸存在下のトリエチルシランによる還元、増炭エステル化、ジメチルホルムアミドジメチルアセタールによるエナミン化、アミン交換を経て環化により４−オキソキノロン化合物とする。
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【課題】高収率、高エナンチオ選択性で光学活性カルボン酸エステルを製造することができる新規不斉触媒、並びにその不斉触媒を用いた光学活性カルボン酸エステル、光学活性アルコール、及び光学活性カルボン酸の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（ａ）又は（ｂ）で表される化合物又はそのエナンチオマーである新規不斉触媒を提供する。ラセミの２級アルコールとカルボン酸との反応、あるいはラセミのカルボン酸と特定のアルコール又はフェノール誘導体との反応において、本発明に係る不斉触媒を用いることにより、ラセミの２級アルコール又はラセミのカルボン酸の一方のエナンチオマーを選択的にエステル化して、光学活性カルボン酸エステル等を製造する。
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【課題】優れたＣＤ均一性で、レジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】優れたＣＤ均一性でレジストパターンを製造することができ、得られたレジストパターンの欠陥発生数が少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂（但し、式（Ｉ）で表される構造単位を含まない）、式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】高い効果を有する殺虫剤を提供する。
【解決手段】殺虫剤を下記一般式（１）で表されるイミド化合物を含んで構成する。


（式中、Ａ_１、Ａ_２、Ａ_３及びＡ_４はそれぞれ炭素原子、窒素原子又は酸化された窒素原子を示し、Ｒ_１は水素原子、置換されていてもよいアルキル基又は置換されていてもよいＣ２−Ｃ４アルキルカルボニル基を示す。Ｇ_１及びＧ_２はそれぞれ、酸素原子又は硫黄原子を示す。Ｘは同一又は異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基又はトリフルオロメチル基を示す。ｎは０から４の整数を示す。Ｑ_１及びＱ_２は、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいナフチル基又は置換されていてもよい複素環基を示す。） （もっと読む）

【課題】原料基質の入手が容易で、操作が簡便で、且つ収率が高い、ジェミナルジフルオロ化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、含フッ素硫酸エノールエステル類を、フッ素化剤（フッ化水素、あるいは、「有機塩基とフッ化水素とからなる塩または錯体」等）と反応させる工程を含む、ジェミナルジフルオロ化合物の製造方法である。本発明は、従来技術の問題点を一挙に解決する、ジェミナルジフルオロ化合物の極めて有用な製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れる硬化物や重合体を与える含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及びそれを含有する光硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 下記の一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を示す。）
で表される含フッ素（メタ）アクリレート化合物、その製法及び当該含フッ素（メタ）アクリレート化合物を含有する光硬化性樹脂組成物により上記課題が解決される。 （もっと読む）

【課題】
熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物、この組成物を含む液晶表示素子を提供する。
【解決手段】
式（１）で表される化合物である。


例えば、Ｒ^１は炭素数１〜１０のアルキルであり；環Ａ^１、環Ａ^２および環Ａ^３は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；Ｚ^１は単結合であり、Ｚ^２およびＺ^３は、−ＣＦ_２Ｏ−または−ＯＣＦ_２−であり；Ｘ^１はフッ素であり；Ｌ^１およびＬ^２はフッ素である。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、液晶組成物に大きな屈折率異方性、広い液晶相温度範囲及び高い保存安定性をもたらし、当該液晶組成物を重合させることによりパターン解像度が高く、耐熱性が高く、さらにヘイズ・白ムラが少ない高分子膜をもたらす重合性化合物を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を構成部材とする重合性液晶組成物を提供する。
【化１】
（もっと読む）

【課題】１−（置換フェニル）−２−ハロ−２，２−ジフルオロエタノン化合物の新規な製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（２）で表される化合物を亜硝酸化合物と反応させることによる、一般式（１）で表される化合物の製造方法。


［式中、X¹はハロゲン原子、C₁〜C₆アルキル、C₁〜C₆ハロアルキル等を表し、X²は水素原子、ハロゲン原子、C₁〜C₆アルキル等、C₁〜C₆ハロアルキルを表し、Yはハロゲン原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】 フッ素原子が極性基としてナフタレン環の６−位に直結した構造を有する、新規液晶性化合物を提供、またそれを用いて、実用的な液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


（Ｒ：Ｃ数１〜２０のアルキル、アルコキシル、アルコキシルアルキル等、環Ａ：トランス−１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン等、Ｌ、Ｍ：独立して−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−等、環Ｂが単結合の場合Ｍは単結合。Ｘ¹〜Ｘ⁵：独立してＨ原子又はＦ原子、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³：少なくとも１個がＦ原子。）の２−フルオロナフタレン誘導体である新規液晶性化合物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物である含フッ素化合物。含フッ素化合物の前記エチレン性二重結合が開裂した構造の構成単位を有する高分子化合物である含フッ素化合物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^２は、重合性基を含む置換基を有し、フッ素原子を有していてもよい芳香族環式基を含む有機基であり、前記重合性基が、エチレン性不飽和二重結合を有する基であり、Ｒ^３は−Ｒ^４１−Ｒ^４２で表される基である。Ｒ^４１は無置換の炭素数１〜９のアルキレン基であり、Ｒ^４２は炭素数１〜９のフッ素置換アルキル基である。ただし、Ｒ^４１とＲ^４２との炭素数の合計は１０以下である。
［化１］
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