【課題】従来の製造方法は、得られる光学活性シクロプロパン化合物におけるシス−トランス異性体の選択性の点で、必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表す。ｎは、０〜３の整数を表す。＊は、不斉中心を表す。）
で示される光学活性ビスオキサゾリン化合物、および、該化合物と一価または二価の銅化合物とを混合して得られる不斉触媒。 （もっと読む）

【課題】配位子、および酸のレベルが比較的高いが、先行技術の欠点を、少なくともある程度は処理および緩和した触媒系を確立する。
【解決手段】エテンと、一酸化炭素およびヒドロキシル基含有化合物とを、エテンのカルボニル化を触媒することが可能な触媒系の存在下で接触させる工程を含む、エチレン系不飽和化合物をカルボニル化する方法であって、該触媒系は、ａ）パラジウム金属またはその化合物、ｂ）二座ホスフィン配位子、およびｃ）１８℃の水溶液中で測定して４未満のｐＫａを有する酸を組み合わせることにより得られ、該配位子は、該金属または該金属化合物中の金属に対して少なくとも２：１のｍｏｌ過剰で存在し、該酸は、該配位子に対して少なくとも２：１のｍｏｌ過剰で存在する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、絶縁性、耐光性、機械的特性に優れるノルボルナン骨格含有ポリアミドを提供する。
【解決手段】ノルボルナン骨格含有ポリアミドであって、下記一般式（II）で表される骨格を６０モル％以上含有することを特徴とするエキソ体比率の高いノルボルナン骨格含有ポリアミド。


（但し、式中Ｒ^１は水素又はメチル基であり、Ｘ又はＹは２価の有機基である。ｎは１〜５００の整数である。） （もっと読む）

【課題】耐熱性、絶縁性、耐光性、機械的特性に優れるノルボルナン骨格含有ポリアミドを製造する方法を提供する。
【解決手段】特定構造のノルボルナンジカルボン酸ハライド誘導体と、ジアミン化合物とを極性溶媒中で反応させてなる、ノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法であって、前記ノルボルナンジカルボン酸ハライド誘導体総量の６０モル％以上が、エキソ体ノルボルナンジカルボン酸ハライド誘導体であることを特徴とする、下記一般式（III）で表されるノルボルナン骨格含有ポリアミドの製造方法。


（但し、式中Ｘは２価の有機基である。ｎは１〜５００の整数である。） （もっと読む）

【課題】配位子、および酸のレベルが比較的高いが、先行技術の欠点を、少なくともある程度は処理および緩和した触媒系を確立する。
【解決手段】エチレン系不飽和化合物のカルボニル化を触媒することが可能な触媒系であって、ａ）パラジウム金属またはその化合物、ｂ）二座ホスフィン配位子、およびｃ）１８℃の水溶液中で測定して４未満のｐＫａを有する酸を組み合わせることにより得られ、該配位子と該金属または該金属化合物中の金属との比は、５：１から７５０：１の範囲内であり、該酸は、該配位子に対して２：１を超えるｍｏｌ過剰で存在する。 （もっと読む）

【課題】α，β−不飽和カルボン酸エステルの製造方法として、酢酸パラジウム、第三級ホスフィン化合物及びメタンスルホン酸の存在下に、メチルアセチレンと、一酸化炭素と、メタノールと、を反応させる工程を有するメタクリル酸メチルを製造する方法が知られている。このような状況下、新規なα，β−不飽和カルボン酸エステルの製造方法が求められている。
【解決手段】白金族元素を有する化合物、ホスフィン化合物及びルイス酸の存在下に、式（１）


（式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す）
で示されるアセチレン化合物、一酸化炭素及びアルコール化合物を反応させる工程を有することを特徴とするα，β−不飽和カルボン酸エステルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】トリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイド誘導体の提供。
【解決手段】本発明は、天然に存在するトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドおよびそれらの構造的アナログの調製のための方法であることを特徴とする。本発明はさらに、これらの方法によって調製され得るトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドの新規誘導体およびアナログを提供する。本発明はまた、種々の疾患、または炎症または炎症性応答、自己免疫疾患、慢性関節リウマチ、心臓血管疾患、または異常細胞増殖または癌に関連する症状の予防、改善および処置のためにトリヒドロキシポリ不飽和エイコサノイドを用いる組成物および方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高い反応速度をもたらすエチレン性不飽和化合物のカルボニル化方法を提供する。
【解決手段】パラジウム源と、下式（Ｉ）で示される１，２−Ｐ，Ｐ’−ジ（２−ホスファ−１，３，５，７−テトラメチル−６，９，１０−トリオキサトリシクロ［３．３．１．１｛３．７｝デシル）−メチレン−ベンゼン等の二座ジホスフィンと、陰イオン源とを含む新規な触媒の存在下、一酸化炭素およびヒドロキシ基含有化合物である共反応体によりエチレン性不飽和化合物をカルボニル化する方法。
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【課題】β−位にパーフルオロアルキル基を有するカルボン酸誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】α，β−不飽和カルボン酸誘導体を光照射下、パーフルオロアルキルハライドを、シラン化合物存在下反応させ、下記一般式（３）で表されるβ−パーフルオロアルキル化カルボン酸誘導体を製造する。


（式中Ｒ^１は水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３〜１０の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基、フェニル基、トリフルオロメチル基又は置換アミノ基等を示し、Ｒ^２は水素原子、メチル基、エチル基、炭素数３〜１０の直鎖、分岐若しくは環式のアルキル基、フェニル基等を示し、Ｒ^３はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基等を、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖、分岐若しくは環式のパーフルオロアルキル基を示す） （もっと読む）

一般式（Ｉ）の新規な二座配位子が、エチレン性不飽和化合物のカルボニル化方法とともに記載される。基Ｘ^１が、１８℃の希釈水溶液中で４〜１４のｐＫｂを有する、少なくとも１個の窒素原子を含む最大で３０個の原子を有する一価のヒドロカルビル基として定義されてもよく、ここで、前記少なくとも１個の窒素原子が、１〜３個の炭素原子だけＱ^２原子から離れている。基Ｘ^２が、Ｘ^１、Ｘ^３またはＸ^４として定義されるかあるいは少なくとも１個の第一級、第二級または芳香環炭素原子を有する最大で３０個の原子を有する一価の基を表し、ここで、各前記一価の基が、それぞれ前記少なくとも１個の第一級、第二級または芳香環炭素原子を介して、それぞれの原子Ｑ^２に結合される。Ｑ^１およびＱ^２がそれぞれ、独立して、リン、ヒ素またはアンチモンを表す。
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易動性水素原子を有する、水やその供給源以外の、共反応剤の存在下で一酸化炭素を用いるエチレン性不飽和化合物のモノカルボニル化のための触媒系のＴＯＮを増大させる方法が記載されている。触媒系は、（ａ）第（８、９）族もしくは第（１０）族の金属またはその好適な化合物と、（ｂ）化学式（Ｉ）


〔式中、基Ｘ^３およびＸ^４は、独立して、３０個までの原子の一価基を表すかＸ^３およびＸ^４は、一緒になって、４０個までの原子の二価基を形成し、かつＸ^５は、４００個までの原子を有し、Ｑ^１は、リン、ヒ素、またはアンチモンを表す〕で示される配位子と、ｃ）場合によりアニオン源と、を組み合わせることにより取得可能である。本方法は、水またはその供給源を触媒系に添加する工程を含む。本方法は、好ましくは、電気陽性金属の存在下で行われる。
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一酸化炭素と共反応剤と好適な触媒系とを用いる液相中でのエチレンの連続カルボニル化方法が記載されている。この方法は、（ｉ）共反応剤と、（ａ）第ＶＩＩＩ族金属／化合物と（ｂ）一般式（Ｉ）で示される配位子とｃ）場合によりアニオン源とを組み合わせることにより取得可能な好適な触媒系と、を含む液相を形成する工程であって、式中、Ｑ^１は、場合によりリンでありうる、工程と、（ｉｉ）少なくともエチレンガス入力供給ストリームと一酸化炭素ガス入力供給ストリームとを提供することにより液相に接触する気相を形成する工程であって、ただし、入力供給ストリームから液相に入るエチレン：ＣＯモル比は、２：１よりも大きいものとする、工程と、（ｉｉｉ）液相中で共反応剤および好適な触媒系の存在下でエチレンを一酸化炭素と反応させる工程と、を含み、気相中のエチレン：ＣＯガスモル比が２０：１〜１０００：１であるか、または液相中のエチレン：ＣＯのモル比が１０：１よりも大きい。
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【課題】従来の金属錯体を触媒とする製造方法では、メチルアセチレン等のアセチレン化合物を原料とした場合、パラジウム原子などの金属原子１モルあたり、アルキルメタクリレートの生成量が必ずしも十分満足できるものではなかった。
【解決手段】式（１）


［式中、Ｒ^１は直鎖アルキル基、アルコキシ基等を表す。Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^７はアルキル基等を表す。Ｒ^３及びＲ^６は水素原子、アルキル基、アルコキシ基等を表す。］
で示されるピリジルホスフィン化合物と周期表第１０族に属する金属原子とを有することを特徴とする金属錯体。 （もっと読む）

本発明は、触媒系、特に、パラジウム(Pd)と、双性イオンおよび/または酸官能化イオン性液体と、1つまたは複数のホスフィン配位子とを含む触媒系に関する。ここで、このPd触媒は、Pd(CH₃COO)₂、PdCl₂、Pd(CH₃COCHCOCH₃)、Pd(CF₃COO)₂、Pd(PPh₃)₄またはPd₂(ジベンジリデンアセトン)₃などの錯体前駆体によって提供することができる。このような触媒系は、たとえば、アルコキシカルボニル化反応、カルボキシル化反応、および/または共重合反応、たとえば、プロピオン酸メチルおよび/またはプロピオン酸の製造において、場合により、メタクリル酸メチルおよび/またはメタクリル酸を生成させるプロセスにおいて使用することができる。本発明による触媒系は、分離可能な生成物相と触媒相とを形成させる反応、および担持イオン性液相SILP用途に適している。
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【課題】光透過性、耐熱性、有機溶媒溶解性及び絶縁性等が改善された各種の電子材料や光通信用材料として有用なエポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂等の原料（モノマー）である脂環式テトラカルボン酸化合物の製造法を提供する。
【解決手段】特定のジオレフィン化合物と、特定のアセチレン化合物とを、周期律表第８族金属化合物触媒下で反応させることを特徴とする式［１３］


で表される脂環式テトラカルボン酸化合物の製造法。 （もっと読む）

【課題】パラジウム以外の遷移元素イオンから還元活性を有する触媒を得るための方法およびその生成物、遷移元素および線源その合金からなる触媒元素を担持させた触媒物質およびその製造方法、さらに、選択的水素添加のための方法を提供する。
【解決手段】パラジウムイオンを含む溶液を水素ガスと反応させて前記パラジウムイオンを還元すること、および、遷移元素イオンを含む溶液を、水素ガス中で前記還元されたパラジウムを含む溶液と接触させることによって得られ、複数の不飽和結合を有する反応対象物の1置換二重結合部または2置換二重結合部を選択的に水素添加する。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、溶媒に対する溶解性に優れ、高度な耐熱性を有するポリイミドを製造する際の原料モノマーの提供。
【解決手段】下記一般式（１）：


で表されるドデカハイドロ−１，４：５，８−ジメタノアントラセン−９，１０−ジオン−２，３，６，７−テトラカルボン酸−２，３：６，７−二無水物類。 （もっと読む）

【課題】含硫黄官能基を有するホスフィン化合物を提供する。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ^１はハロゲン原子で置換されていても良い炭素原子数１〜２０のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素原子数７〜２０のアラルキル基、又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素原子数１〜２０のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素原子数７〜２０のアラルキル基、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素原子数６〜２０のアリール基、炭化水素基で置換された炭素原子数１〜２０の置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基または炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基を表す。）で示されるホスフィン。 （もっと読む）

【課題】効率よくアルキルメタクリレートを製造する方法を提供すること。
【解決手段】第１０族金属化合物、プロトン酸及びホスフィン化合物を含む触媒の存在下、一酸化炭素及びアルコール化合物をメチルアセチレンと反応させる際に、
メチルアセチレンのプロパジエン含有量を５０ｐｐｍ以下とし、ホスフィン化合物をメチルアセチレン１モルに対して０．００００２０モル超使用し、かつ、一酸化炭素及びアルコール化合物を、第１０族金属化合物１モルに対して２０００００モル以上のメチルアセチレンと反応させる、アルキルメタクリレートの製造方法。 （もっと読む）