【課題】 重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性、高いコレステリック配向性及び短いピッチを示す重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表される重合性化合物を提供する。更に、当該重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物、並びに当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２はエチレン性二重結合を含む基；Ｗは２価の脂環式炭化水素基；Ｔ^１は、単結合、２価の脂肪族炭化水素基等；Ｔ^２は２価の脂肪族炭化水素基等］ （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、強いＨＴＰを有する溶解性に優れた重合性キラル化合物を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で重合性キラル化合物は、強いＨＴＰ及び低い融点を有し、低融点であることから他の液晶化合物との優れた溶解性を有し重合性液晶組成物の構成部材として有用であり、ねじれ力が強いために優れた光学特性を有する光学異方体を作製することができる。本願発明の光学異方体は、偏向板、位相差板、選択反射板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】 アダマンチル（メタ）アクリレート類を高収率で得る。
【解決手段】 硫酸触媒の存在下、アダマンタノール類と（メタ）アクリル酸類を反応させてアダマンチル（メタ）アクリレート類を製造する方法において、アルカリ金属またはアルカリ土類金属のハロゲン化物の含有量が０．５重量％以下のアダマンタノール類を用いる。 （もっと読む）

【課題】種々の機能性材料の製造用原料として有用な新規化合物、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、式（III）で表される化合物及びこれらの製造方法を提供する。


［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は水素原子又は脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、単結合又は脂肪族飽和炭化水素基などを表す。
Ｗ^１は、脂環式炭化水素基などを表し、当該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基などに置換されていてもよく、当該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、カルボニル基などに置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】安定性を有し、かつ硬化物において透明性及び耐熱着色性に優れ、十分なガスバリア性を示し、クラックが生じにくい光学部品用硬化性樹脂原料組成物およびこれを用いた光学部品を提供する。
【手段】下記式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体Ａを含有する光学部品用硬化性樹脂原料組成物。


（式中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基から選ばれる基である。ただしＡ^１とＡ^２とは異なる。Ｒ^Ａは二重結合を含まない置換基を表す。ｎは０〜８の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、液晶組成物に大きな屈折率異方性、広い液晶相温度範囲及び高い保存安定性をもたらし、当該液晶組成物を重合させることによりパターン解像度が高く、耐熱性が高く、さらにヘイズ・白ムラが少ない高分子膜をもたらす重合性化合物を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を構成部材とする重合性液晶組成物を提供する。
【化１】
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【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物をアシル化することよりなる１０−アシルオキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物の製造法及び該（メタ）アクリレート化合物並びに該（メタ）アクリレート化合物を含む重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を重合してなる重合物を提供する。
【解決手段】特定の式で示される１０−アルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物。 （もっと読む）

【課題】 永久圧縮歪の発生がより一層抑制された、電子写真画像に欠陥を生じさせにくい帯電部材の提供。
【解決手段】 導電性支持体および表面層を有する帯電部材であって、該表面層が、ポリマー鎖がアダマンタン基に由来する２価の基によって架橋されてなる化合物を含有することを特徴とする帯電部材。 （もっと読む）

【課題】ＣＧＲＰ−アンタゴニスト特性を有する化合物、その医薬品として許容される塩及び溶媒和物を得ること。
【解決手段】以下の一般式Iの化合物、その医薬品として許容される塩及び溶媒和物を調製する方法に関しており（式中、Ｒ^１及びＲ^２は特定式で定義される）：


以下の式IIの化合物から出発して調製できる（式中Ｒ^１は特定式で定義される）。
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【課題】アントラセン特有の特性と共に、高い重合性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）にて表されるアントラセン誘導体。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、−Ｏ−（Ｒ−Ｏ）_ｍ−で表される基。Ｒは、ヒドロキシル基を有していてもよい２価の炭化水素基。ｍが２以上の場合、複数のＲは同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供。
【解決手段】特定式に示される１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物及び該（メタ）アクリレート化合物を重合してなる重合物である。 （もっと読む）

【課題】工業的に安定して製造可能な（メタ）アクリル酸脂環式エステルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】脂環式不飽和化合物またはそのアルコール誘導体を原料とする（メタ）アクリル酸脂環式エステルであって、シクロペンタジエンとオレフィンとのＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応により得られる脂環式不飽和化合物またはそのアルコール誘導体と、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ハロゲン化物または（メタ）アクリル酸無水物とを反応させることにより得られる。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）

【課題】着色、溶剤不溶解分が少なく、高純度の二価フェノール類モノ（メタ）アクリレートを得る方法であって、経済的に有利な製造方法を提供すること。
【解決手段】二価フェノール類および（メタ）アクリル酸を、強酸性イオン交換樹脂存在下に、エステル化反応させて二価フェノール類モノ（メタアクリレート）を製造する方法であって、この方法が反応系内の水分を加熱減圧により除去しながらエステル化反応させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）

【課題】ｓ−ジヒドロインダセン骨格を有する新規なジカルボニル化合物、その中間体及びその製造方法の提供。
【解決手段】式（１−１）又は（１−２）で表されるジカルボニル化合物、または１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロ−ｓ−インダセン−２，６−ジカルボン酸ジメチル。（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。）


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【課題】優れた相溶性及び溶解度を有するアダマンチルジ(メタ)アクリレートの製造方法を提供する。
【解決手段】アダマンタンジオールと(メタ)アクリル酸類を反応させてアダマンチルジ(メタ)アクリレートを製造する方法であって、前記反応を、Ｈａｍｍｅｔｔの酸度関数Ｈ_０が−１０．３以下である酸を触媒として含む溶媒中で行うアダマンチルジ(メタ)アクリレートの製造方法。 （もっと読む）