【課題】
熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物、この組成物を含む液晶表示素子を提供する。
【解決手段】
式（１）で表される化合物である。


例えば、Ｒ^１は炭素数１〜１０のアルキルであり；環Ａ^１、環Ａ^２および環Ａ^３は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレンまたは少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレンであり；Ｚ^１は単結合であり、Ｚ^２およびＺ^３は、−ＣＦ_２Ｏ−または−ＯＣＦ_２−であり；Ｘ^１はフッ素であり；Ｌ^１およびＬ^２はフッ素である。 （もっと読む）

【課題】医薬あるいは農薬の合成、例えば殺菌剤、殺虫剤あるいは除草剤の合成における有用な構築用ブロックである、置換ピリジンの調整方法の提供。
【解決手段】α，β−不飽和カルボニル化合物とウイティッヒ反応試剤またはホルナー・ワズワース・エモンズ反応試剤とを塩基の存在下で反応させ、引き続いて酸性触媒、ゼオライト触媒あるいは塩基性触媒での環化を行うか、アンモニアの存在下で引き続いて塩基性環化を行うことを含んでなる、下式化合物を含む置換ピリジン誘導体の調製方法。


(式中：Ｒ6＝メチル） （もっと読む）

【課題】新規なパーフルオロアルキルマグネシウム−ジルコニウムアート錯体を提案する。
【解決手段】パーフルオロマグネシウムハライドと、下記一般式（２）


（式中Ｍはチタン原子またはジルコニウム原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示す）で表されるメタロセンジハライド及びパーフルオロアルキルアイオダイドを反応させることにより調製されるパーフルオロアルキル化剤及びそれを用い各種パーフルオロアルキル基含有化合物を調製する。 （もっと読む）

【課題】波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、適切なアルカリ加水分解性を有すると共に、構造の選択により撥水性、滑水性、表面偏在性など各種性能の調整が可能で、例えばフォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成する高分子化合物を提供する。
【解決手段】特定の含フッ素エステル型単量体及び該含フッ素エステル型単量体繰り返し単位を有する高分子化合物、及び該高分子化合物が可視光から波長２００ｎｍ以下までの幅広い波長領域において優れた透明性を有し、また適切なアルカリ加水分解性を有することから、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用で、更に、フォトレジスト用添加剤又は保護膜材料等の水液浸ＡｒＦレーザー露光リソグラフィー材料を構成するポリマーとして特に有用となる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるフッ素アルコール化合物。


（Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基を構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ａａは、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の（ｋ¹＋１）価の炭化水素基又はフッ素化炭化水素基である。ｋ¹は１〜３の整数である。）
【効果】本発明のフッ素アルコール化合物は、波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】ｓ−ジヒドロインダセン骨格を有する新規なジカルボニル化合物、その中間体及びその製造方法の提供。
【解決手段】式（１−１）又は（１−２）で表されるジカルボニル化合物、または１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロ−ｓ−インダセン−２，６−ジカルボン酸ジメチル。（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。）


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【課題】優れた透明性を有し、現像欠陥の極めて少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される含フッ素単量体。
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高度フッ素化カルボン酸及びその塩、並びにその前駆体を調製するための方法であって、一般式（Ｉ）：
Ｒ_ｆ−（Ｏ）_ｎ−（ＣＦ_２）_ｍ−ＣＦ＝ＣＦ_２ （Ｉ）
の高度フッ素化オレフィンを、一般式（ＩＩ）：
ＨＣＯＲ （ＩＩ）
に基づくギ酸の誘導体と、ラジカル反応開始剤の存在下で接触させることによって一般式（ＩＩＩ）：
Ｒ_ｆ−Ｏ_ｎ−（ＣＦ_２）_ｍ−ＣＦＨ−ＣＦ_２−ＣＯＲ （ＩＩＩ）
のＯ−エステル、Ｓ−エステル、又はアミド付加体の形のカルボン酸前駆体を形成することと、式（ＩＩＩ）の付加体を加水分解することによって一般式（ＩＶ）：
Ｒ_ｆ−Ｏ_ｎ−（ＣＦ_２）_ｍ−ＣＦＨ−ＣＦ_２−ＣＯＯ⁻Ｍ^＋ （ＩＶ）
のカルボン酸又はその塩を形成することと、を含み、式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒは、残基Ｏ⁻Ｍ^＋、Ｓ⁻Ｍ^＋、ＯＲ’、ＳＲ’又はＮＲ’Ｒ’’を表し、ただしＲ’及びＲ’’は互いに独立して、少なくとも１個の炭素原子を含み、かつα水素原子を有さない直鎖若しくは分枝鎖若しくは環状の脂肪族又は芳香族残基であり、Ｒ_ｆは、Ｈ、又は残基若しくは水素を含む過フッ素化若しくは部分的にフッ素化された直鎖、分枝鎖、脂肪族、又は芳香族の炭素原子を表し、ｎは１又は０であり、ｍは０〜６の整数を表し、Ｍ^＋はＨ^＋などのカチオンを表す、方法である。 （もっと読む）

【課題】レジスト用重合体を合成可能なアルカリ解離性基を有する重合性の化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｍ−１−２）で表される化合物。


［一般式（ｍ−１−２）中、Ｒ^９は一般式（１）で表される基等を示す。一般式（１）中、Ｒ^１０は相互に独立にハロゲン原子等、ｍ_１は０〜５の整数を示す。Ｘ^１は単結合、ジフルオロメチレン基又は炭素数２〜２０の全フッ素置換２価炭化水素基、Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜１０の２価炭化水素基等を示す。Ｒ^３１はＲ^２に示した基であり単結合を含まない。Ｒは水素原子、メチル基等を示す。］ （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。
【解決手段】 下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む質量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ¹は、重合性二重結合含有基を表し、
Ｒ²は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、
Ｒ⁸は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、
Ｗ¹は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。 （もっと読む）

本発明は、式Ｉで示される、新規のカルシウム感知受容体（ＣａＳＲ）調節トリフルオロメチルフェニレンシクロペンチレン化合物およびその誘導体、医薬として用いる該化合物、処置に用いる該化合物、該化合物を含む医薬組成物、該化合物で疾患を処置する方法、ならびに医薬の製造における該化合物の使用に関する。

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【課題】薬品、肥料等の有機化学工業用材料として有用な新規な２−アルコキシ−２−トリフルオロメチル−４−ペンテノイル化合物を製造し得る製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（３）で表されるエステル化合物のカルボニル基のα位のフッ素を、塩素又は臭素に置換する第１工程と、第１工程で得られた生成物に対しＫｅｃｋラジカルアリル化反応を施す第２工程と、を含む２−アルコキシ−２−トリフルオロメチル−４−ペンテノイル化合物の製造方法である。
【化１】


［一般式（３）中、Ｒ^４は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２２のアルキル基を表し、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２２のアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】酸ハライドに直接アルコールを反応させるという１段階の反応によって得られる、1分子中に2個以上の重合性官能基を有する新規な含フッ素ポリエーテルカルボン酸エステルを提供する。
【解決手段】一般式 R¹OCOCF(CF₃)[OCF₂CF(CF₃)]_aO(CF₂)_bO[CF(CF₃)CF₂O]_cCF(CF₃)COOR¹ 〔ここで、R¹は一般式 CH₂=CR²COO(CH₂)_dCH₂- (R²は水素原子またはメチル基であり、dは1〜3の整数である)で表わされる基であり、a+cは0を除く28以下の整数であり、好ましくは6〜28の整数であり、bは2以上の整数である〕で表わされる含フッ素ポリエーテルカルボン酸エステル。 （もっと読む）

ＲＣＦＣＩＣ（ＯＡｃ）＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＲ^１（ＩＩ）；ＲＣＦＨＣ（Ｏ）ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^１（ＩＶ）；ＲＣＦＨＣ（ＯＡｃ）＝ＣＨＣ（Ｏ）ＯＲ^１（Ｖ）；およびＲＣＦＨＣＨ（ＯＡｃ）ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^１（ＶＩ）からなる群から選択される式の化合物；または式（Ｉ）ＲＣＦＣＩＣ（Ｏ）ＣＨ_２Ｃ（Ｏ）ＯＲ^１および式（ＩＩ）の化合物；式（ＩＶ）および式（Ｖ）の化合物；もしくは式（ＩＶ）および式（ＶＩ）の化合物、を含むか、あるいはそれらから本質的になるフルオロ置換アルカン酸のエステルの組成物；式中、Ｒは、Ｃ_２Ｆ_５、ＣＦ_３またはＦであり、Ｒ^１は、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、１個または複数個のフッ素原子で置換された１〜４個の炭素原子を有するアルキル基である。式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の化合物を還元する方法、およびこのような還元から得られる組成物。式（Ｉ）の化合物を式（ＩＩ）の化合物から分離する方法であって、このような化合物を含む組成物に蒸留操作を施すステップを含む方法。 （もっと読む）

【課題】広範囲な液晶相領域を有し、有機溶剤への溶解性に優れ、配向形態の制御が容易な重合性液晶組成物の提供する。
【解決手段】式（１）で表されるフルオレン誘導体と式（２）で表されるビスフェノール骨格を有する化合物を含有する重合性液晶組成物。
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【課題】低い屈折率を有する化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｘ）で表される化合物。
（Ａ）_ｎ−Ｒ^８ （Ｘ）
〔Ａは、式（Ｉ）で表される基又はヒドロキシル基を表す。ただし、Ａの少なくとも１個は、式（Ｉ）で表される基である。Ｒ^８は、ｎ価のＣ_{１０−３０}炭化水素基を表す。該炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−で置換されてもよい。該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基で置換されてもよい。ｎは、１〜１２の整数である。ただし、〕


〔Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はフッ素原子若しくはヒドロキシル基で置換されてもよいＣ_１−１３脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^４〜Ｒ^６は、それぞれ独立に、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいＣ_１−１０アルキレン基を表す。Ｒ^７は、フッ素原子で置換されてもよいＣ_１−２４脂肪族炭化水素基を表す。ｍは、０又は１の整数を表す。〕 （もっと読む）

【課題】含フッ素ヒドロキシカルボン酸エステルを、入手容易で安価な原料を用いて、安全で簡便な方法で高収率で製造できる方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式中、Rf_１及びRf_２は、基：CF₃(CF₂)_n-（式中、ｎは０〜１０の整数である）又は基：CH₃(CH₂)_ｍ-（式中、ｍは０〜１０の整数である）である。R^１は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基である）で表される化合物を、一般式（２）：M XOａ（２）（式中、Mは、アルカリ金属又はＭ^１_１／２（式中、Ｍ^１はアルカリ土類金属である）であり、Xはハロゲン原子であり、aは１又は２である）で表されるハロゲン酸類と反応させることを特徴とする、一般式（３）：


で表される含フッ素ヒドロキシカルボン酸エステルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】自然界において容易に分解され、合成経路が単純で、分子中に水素原子が含まれていても連鎖移動反応に影響しないハーフエステル化合物、及び、その製造方法を提供し、また、上記ハーフエステル化合物を含有する水性分散体、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）
ＭＯＯＣ（ＣＦ_２）_ｎＣＯＯＲｆ （Ｉ）
（式中Ｍは、Ｈ、ＮＨ_４、Ｌｉ、Ｎａ又はＫを示し、ｎ＝２〜３の整数、ＲｆはＣ、Ｆ、Ｏを構成成分とする、炭素数が４〜６のアルキル基またはアルキレート基を示す。）で表されるハーフエステル化合物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、医農薬や機能性材料等の製造中間体として有用な２‐置換フェニル‐３，３‐ジフルオロアクリル酸エステル誘導体を、安価な原料より簡便に収率良く製造することができる方法を提供することにある。
【解決手段】 ベンゾイルギ酸エステル類を、亜鉛のようなハロゲン原子捕捉剤共存下に、ジブロモジフルオロメタンとトリフェニルホスフィンのような三級ホスフィンから発生させたジフルオロメチレンホスホラン類と反応させることにより、収率及び選択性良く２‐置換フェニル‐３，３‐ジフルオロアクリル酸エステル誘導体（２）を製造することができる。
【化１】
（もっと読む）

本発明は、式（ＩＩＩ）で表されるα，α−ジハロアミンを塩基の存在下にて式（ＩＩ）で表される酢酸エステルと反応させることによる式（Ｉ）で表されるジハロアセト酢酸アルキルエステルの調製方法に関する。
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