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Fターム[4H006TB61]の内容

Fターム[4H006TB61]に分類される特許

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【課題】テンプレートによって指向される、分子の合成、増幅および進化のための組成物を提供すること。
【解決手段】1つ以上の化学物質を合成する方法のための組成物であって、該方法は、以下の工程:
1つ以上のテンプレートを提供する工程であって、該1つ以上のテンプレートは、該テンプレートに会合する反応性単位を必要に応じて有する、工程;
1つ以上のアンチコドンの該テンプレートへのハイブリダイゼーションおよび反応性単位の反応を可能にする条件下で、アンチコドンを有する1つ以上の移動単位および反応性単位を、該1つ以上のテンプレートに接触させる工程、
を包含する。 (もっと読む)


【課題】ベンゼン-2-カルボキサミド誘導体およびこれを有効成分とする殺菌剤を提供する。
【解決手段】ベンゼン-2-カルボキサミド誘導体は、以下の式により表される。


(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子等を示し、R2はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1〜C4のアルキル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、C1〜C4のアルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、C1〜C4のアルキルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、C1〜C4のアルキルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、C1〜C4のアルキルスルホニル基またはトリフルオロメチルスルホニル基を示し、R3は水酸基、C1〜C4のアルコキシ基等を示し、R4は水素原子またはハロゲン原子を示し、R5はハロゲン原子を示す。 (もっと読む)


【課題】先行技術文献記載の化合物では、DHODHに対する阻害作用を十分発揮することができないという技術的課題を解決すること
【解決手段】2−(シクロプロパンカルボニル−アミノ)−5−(2−フェニルアセチルアミノ−フェノキシ)−安息香酸等の化合物、並びに、これ等と薬学上許容し得る無機カチオンと結合した塩から選択される化合物を用いて、自己免疫疾患、炎症性疾患、臓器移植拒絶反応及び悪性新生物の臨床治療に有効な化合物、医薬組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】新規な殺虫性アントラニルアミド類を提供する。
【解決手段】下式(1)で示される化合物。


[式中、A及びBは酸素原子等、Jはフェニル基等、R1は水素原子等、R2は水素原子等、R3は低級アルキル基等、R4はメチル基等を表し、nは1〜4の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】安定性に優れ、低昇華性であり、現像性に優れ、可視光領域の透過率が高く、365nm等の近紫外光を効率よく吸収し活性化される高感度の光重合開始剤として有用な新規な化合物及び該化合物を用いた光重合開始剤並びに感光性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表されるオキシムエステル化合物、該化合物を含有する光重合開始剤、並びに該光重合開始剤にエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有させてなる感光性組成物。
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本発明は、一般式(I)の化合物


(変数は、特許請求の範囲に記載されている意味を有する。)及び場合によってその鏡像異性体に関する。本活性成分は、有利な殺虫特性を有する。本活性成分は、温血動物上の内部寄生生物を駆除するのに特に適している。
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【課題】 環境への負荷が無いPFOAフリーの撥水撥油剤や防汚剤等を提供する。

【解決手段】 式(1)

Rf−(CH−X−Y−Z (1)

(式中Rfは炭素数8未満のパーフルオロアルキル基、nは0〜5の整数であり、Xは−S−、−SO−または−SO−を表し、Yは炭素数6〜10の芳香族基、Zはフェノール基、アミノ基、カルボキシル基あるいはスルホン酸基を表す。)で表される、環境への負荷が無いPFOAフリーの撥水撥油剤や防汚剤等化合物用の原料を提供する。

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本発明は、式I':


[式中、R、R、R、Xおよびnは、本明細書に定義されたものである。]
の化合物またはその薬学的に許容される塩を提供する。本発明はまた、本発明の化合物の製造方法およびその治療的使用に関する。本発明はさらに、複数の薬理学的に活性な薬物の組み合わせ、および、医薬組成物を提供する。
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【課題】農薬として有用なイソオキサゾリン−3−イルアシルベンゼンの中間体及びこの中間体を製造するための新規な方法を提供する。
【解決手段】対応するメチルベンゼン誘導体を、非プロトン性極性溶剤中、塩基の存在下、−20℃未満の温度で有機亜硝酸エステルと反応させることにより得られる下式IIIで示されるベンズアルドキシム誘導体。


[式中、R1はC1〜C6アルキル基を表す。] (もっと読む)


【課題】高分子系の除草剤や殺菌剤等の中間体として極めて有用な、分子内に多重結合を有するスルフェンアミド化合物及びその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(A)で表されるスルフェンアミド化合物。これらの化合物を対応するチオサリチル酸エステル化合物に対しヒドロキシルアミン−O−スルホン酸を用いて硫黄原子のアミノ化反応をさせて製造する。


(式中、置換基R〜Rは、炭素数1〜8の鎖状のアルキル基、フェニル基を表す。nは0または1〜5の整数である。置換基Rは、炭素数1〜8の鎖状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、フェニル基、及びハロゲン原子から選ばれる基又は原子を表す。Rが複数ある場合は、各Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、mは0または1〜4の整数である。) (もっと読む)


生物材料を有効量の化合物と接触させることを含む、低酸素性条件または虚血性条件に曝露された生物材料の損傷を治療しまたは予防するための方法が開示されている。化合物は、下記の構造(I):R1-(S)n-R2、またはその立体異性体、医薬として許容し得る塩、もしくはプロドラッグを有し、式中、R1、R2、およびnは、本明細書に定義したとおりである。化合物、このような化合物の調製および使用と関連した方法、ならびにこのような化合物を含む医薬組成物も開示されている。 (もっと読む)


本明細書は、ヒト疾患の処置、予防および/または改善に有用な有機化合物を記載する。 (もっと読む)


宿主毒性の低減が観察されるドキソルビシン活性物質の使用法を提供する。ドキソルビシン活性物質の有効量を被験者に、ドキソルビシン毒性低減アジュバント、例えばニトロン化合物またはニトロン化合物とビスジオキソピペラジン化合物との組み合わせと併せて投与する段階を含む方法の局面を提供する。本発明の方法を実施する際に用いるための組成物も提供する。これら方法および組成物は、様々な異なる疾患状態の治療を含む様々な異なる適用において有用である。

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本発明は、新規なNO-供与アスピリン誘導体、それらの製造方法、およびそれらを含む医薬組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】スコーチタイムに悪影響を及ぼすことなく、加硫速度及び加硫ゴム物性を改善するゴム加硫用配合剤の提供。
【解決手段】ジチオカルボン酸とアミノアルコールとの反応によって得られる式(I):


(式中、R1及びR2は独立に水素又は炭素数1〜20のヘテロ原子もしくは/及び置換基を有してもよい有機基で、R1及びR2は互いに結合して環を形成してもよく、Xは炭素数1〜20のヘテロ原子もしくは/及び置換基を有してもよい有機基を示し、n及びmは0,1又は2の数であり、n+mは1〜4である。)
で表されるカルボン酸基含有ジスルフィドのアミノアルコール塩化合物を含んでなるゴム加硫用配合剤並びにその製造方法及びそれを含むゴム組成物。 (もっと読む)


【課題】 COMT阻害作用を有する新規な化合物を提供する。
【解決手段】 一般式(I):
【化1】


〔式中、RおよびRは、それぞれ水素、低級アシル、低級アルコキシカルボニル等であり;Rは、低級アルコキシカルボニル、−C(O)NR1112、−SONR1112、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル基、低級アシル等であり;R、R、R、RおよびRは、それぞれ水素、ハロゲン、低級アルキル、ハロ低級アルキル、低級アルコキシ等である〕で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩、それを含有する医薬組成物およびそれらの用途を提供する。本発明の化合物は優れたCOMT阻害作用を有するので、パーキンソン病等の治療または予防剤として有用である。 (もっと読む)


一般式(I)
【化1】


の3−シクロプロピル−4−(3−チオベンゾイル)ピラゾール及び除草剤としてのその使用が記載されている。本式(I)において、R1、R2、R3、X及びYは、水素及び有機基、例えばアルキルのような基である。R4は、水素又はトシルのような保護基である。
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本発明は、その立体異性形態のいずれか若しくはあらゆる比率の立体異性形態の混合物の式I
【化1】


(式中、置換基は本明細書に記載された通りである)
のA化合物又はその生理学上許容しうる塩に関する。
本発明の化合物は、CXCR5阻害活性を有し、ヒトCXCR5受容体のモジュレーションと関連する、関節リウマチ、多発性硬化症、狼瘡、クローン病のような種々の炎症性疾患の治療又は予防に特に有用である。
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炭素‐硫黄(C-S)または炭素‐酸素(C-O)カップリング反応のための方法を提供する。これらの方法は、遷移金属と錯体を形成する複素環式カルベン配位子を含む遷移金属錯体の使用を含む。ニッケルと錯体を形成する複素環式カルベン配位子を含む遷移金属錯体も提供する。ニッケル複素環式カルベン錯体は、C-SまたはC−Oカップリング反応に使用することができる。

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一般式(I)の4−(4−トリフルオロメチル−3−チオベンゾイル)ピラゾール類、さらに除草剤としてのそれらの使用が開示される。上記式(I)において、R1、R2、R3及びR4は、水素及び有機ラジカル(例えばアルキル)のようなラジカルを表し、Yは水素又は保護基(例えばトシル)を表す。
【化1】

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